技术特征：
1.一种钽靶材金相组织的显示方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)研磨：依次使用粒度递增的砂纸对钽靶材试样表面进行粗磨、细磨、精磨，至磨面能观察到镜面，即可得到研磨后的钽靶材，其中粗磨和细磨的方向成90
°
，细磨与精磨的研磨方向成90
°
；(2)抛光清洗：将研磨后的钽靶材进行机械抛光和清洗，得到清洗后的钽靶材；(3)腐蚀：将清洗后的钽靶材采用浸泡或浇淋的方法进行腐蚀，腐蚀时间为2-40s，腐蚀液为氢氟酸、硝酸、硫酸的混合溶液，然后用纯水和无水乙醇冲洗干净，吹干样品表面，所述氢氟酸、硝酸、硫酸的体积比为4:2:1；(4)将步骤(3)制备的样品置于金相显微镜下观察。2.如权利要求1所述钽靶材金相组织的显示方法，其特征在于，所述氢氟酸的浓度≥40％，所述硝酸的浓度70％-72％，所述硫酸的浓度95％-98％。3.如权利要求1所述钽靶材金相组织的显示方法，其特征在于，所述砂纸分别为400#碳化硅砂纸、1000#碳化硅砂纸、2000#碳化硅砂纸。4.如权利要求1所述钽靶材金相组织的显示方法，其特征在于，所述粗磨的转速为250-350r/min，时间为t1＝2-8min。5.如权利要求1所述钽靶材金相组织的显示方法，其特征在于，所述细磨的转速为300-400r/min，时间为t2＝1-6min。6.如权利要求1所述钽靶材金相组织的显示方法，其特征在于，所述精磨的转速为300-400r/min，时间为t3＝1-6min。7.如权利要求1所述钽靶材金相组织的显示方法，其特征在于，所述机械抛光的步骤为：使用羊绒抛光布和金金刚石喷雾抛光剂对研磨后的钽靶材试样进行机械抛光。8.如权利要求6所述钽靶材金相组织的显示方法，其特征在于，所述机械抛光的转速为350-450r/min，时间为t4＝1-3min。
技术总结
本发明公开了一种钽靶材金相组织的显示方法，属于金相样品的制备技术领域。该方法通过合理的磨抛方法、腐蚀液配比和控制各阶段的时间，得到晶粒晶界清晰分明的金相组织的半导体钽靶材，通过光镜标尺设定可观察晶粒的大致尺寸及其均匀性，通过软件即可计算出钽靶材的晶粒尺寸和平均晶粒度。晶粒尺寸和平均晶粒度。晶粒尺寸和平均晶粒度。
技术研发人员：丁跃跃 童培云 行卫东
受保护的技术使用者：先导薄膜材料有限公司
技术研发日：2021.11.26
技术公布日：2022/5/17