一种机械密封泄漏量连续监测装置的制作方法

文档序号:34682391发布日期:2023-07-05 21:12阅读:27来源:国知局
一种机械密封泄漏量连续监测装置的制作方法

本发明属于监测装置,具体涉及一种机械密封泄漏量连续监测装置。


背景技术:

1、机械密封泄漏量能有效反应机械密封的工作状态。作为泵类设备常用的密封形式,机械密封的损坏不仅会造成设备意外停机,在核电领域,还有可能会造成污染和放射性介质的泄漏,因此对机械密封进行状态监测很有必要。

2、接触式机械密封正常运行时存在一定的泄漏,泄漏量的异常增大意味着机械密封健康状态异常。目前核电厂常用的机械密封测量方式通过量筒或通过人工数液滴数,大致估算机械密封的泄漏量,这种方法不仅不准确,而且无法连续记录机械密封泄漏量的变化情况。


技术实现思路

1、本发明的目的是提供一种机械密封泄漏量连续监测装置,它能够对机械密封的泄漏量进行连续在线监测。

2、本发明的技术方案如下:一种机械密封泄漏量连续监测装置,包括顶部电动阀,激光液位传感器,筒体,底部电动阀和顶部接水盘,所述的顶部接水盘中间安装有顶部电动阀,激光液位传感器,底部电动阀和顶部接水盘,顶部接水盘的下部连接有筒体,筒体的底部连接有底部电动阀。

3、所述的顶部电动阀包括电机和阀瓣,电机通过转轴与阀瓣连接。

4、所述的阀瓣的具有贯穿侧壁的通孔状结构,阀瓣的中间为中间孔。

5、所述的筒体包括测量部分和底座部分,测量部分与底座部分相连。

6、所述的测量部分是细长的柱状。

7、所述的底座部分为圆盘状结构,圆盘状结构下部安装有支腿。

8、所述的底部电动阀包括接口,驱动电机和圆盘阀瓣,接口为管状结构与驱动电机相互垂直设置,圆盘阀瓣设置在接口内可在接口内旋转。

9、所述的圆盘阀瓣的直径与接口内径相同。

10、所述的顶部接水盘为向外开口的圆盘结构,顶部接水盘的中间具有一管状部,管状部与凸起相连接,管状部上开有排水孔。

11、所述的凸起为波动形。

12、本发明的有益效果在于:双阀门设计,顶部排水阀和底部排水阀,避免了排水时泄漏液滴进入测量筒体造成的误差;顶部接水盘底部波浪结构,防止杂质进入测量筒体;顶部接水盘排水孔距离底部具有一定的高度,防止杂质进入测量筒体;开始测量前,顶部接水盘中注水到排水孔,避免测量误差,补偿由于杂质沉积造成的测量误差;整个泄漏量连续测量装置,通过细长的测量筒体,激光液位传感器,排水控制实现泄漏量连续精确测量。



技术特征:

1.一种机械密封泄漏量连续监测装置,其特征在于:包括顶部电动阀,激光液位传感器,筒体,底部电动阀和顶部接水盘,所述的顶部接水盘中间安装有顶部电动阀,激光液位传感器,底部电动阀和顶部接水盘,顶部接水盘的下部连接有筒体,筒体的底部连接有底部电动阀。

2.如权利要求1所述的一种机械密封泄漏量连续监测装置,其特征在于:所述的顶部电动阀包括电机和阀瓣,电机通过转轴与阀瓣连接。

3.如权利要求2所述的一种机械密封泄漏量连续监测装置,其特征在于:所述的阀瓣的具有贯穿侧壁的通孔状结构,阀瓣的中间为中间孔。

4.如权利要求1所述的一种机械密封泄漏量连续监测装置,其特征在于:所述的筒体包括测量部分和底座部分,测量部分与底座部分相连。

5.如权利要求4所述的一种机械密封泄漏量连续监测装置,其特征在于:所述的测量部分是细长的柱状。

6.如权利要求4所述的一种机械密封泄漏量连续监测装置,其特征在于:所述的底座部分为圆盘状结构,圆盘状结构下部安装有支腿。

7.如权利要求1所述的一种机械密封泄漏量连续监测装置,其特征在于:所述的底部电动阀包括接口,驱动电机和圆盘阀瓣,接口为管状结构与驱动电机相互垂直设置,圆盘阀瓣设置在接口内可在接口内旋转。

8.如权利要求7所述的一种机械密封泄漏量连续监测装置,其特征在于:所述的圆盘阀瓣的直径与接口内径相同。

9.如权利要求1所述的一种机械密封泄漏量连续监测装置,其特征在于:所述的顶部接水盘为向外开口的圆盘结构,顶部接水盘的中间具有一管状部,管状部与凸起相连接,管状部上开有排水孔。

10.如权利要求9所述的一种机械密封泄漏量连续监测装置,其特征在于:所述的凸起为波动形。


技术总结
本发明属于监测装置技术领域,具体涉及一种机械密封泄漏量连续监测装置。包括顶部电动阀,激光液位传感器,筒体,底部电动阀和顶部接水盘,所述的顶部接水盘中间安装有顶部电动阀,激光液位传感器,底部电动阀和顶部接水盘,顶部接水盘的下部连接有筒体,筒体的底部连接有底部电动阀。其有益效果在于:双阀门设计,顶部排水阀和底部排水阀,避免了排水时泄漏液滴进入测量筒体造成的误差;顶部接水盘底部波浪结构,防止杂质进入测量筒体;顶部接水盘排水孔距离底部具有一定的高度,防止杂质进入测量筒体;开始测量前,顶部接水盘中注水到排水孔,避免测量误差,补偿由于杂质沉积造成的测量误差。

技术研发人员:侯修群,蒋庆磊,张钊光
受保护的技术使用者:中核武汉核电运行技术股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/13
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