一种数显洛杉矶磨耗试验机的制作方法

1.本技术涉及材料磨耗试验的领域，尤其是涉及一种数显洛杉矶磨耗试验机。


背景技术：

2.洛杉矶磨耗试验是在规定的接触压力下和给定的面积上，测定试样在一定级别砂纸或者钢球上进行摩擦而产生的磨耗量；洛杉矶磨耗试验机是一种检测试样磨耗量的机器，将规定粗度、数量的粗集料以及规定数量、质量的钢球加入滚筒中，然后启动电机驱动滚筒转动，并利用变速箱控制滚筒的转速即可，滚筒旋转一定次数以后，试样在自身及钢球的摩擦、撞击、剪切等联合作用下发生磨耗，测试样的质量损失即为磨耗率。
3.授权公告号为cn212111002u的中国专利文献公开了一种具有降噪功能的洛杉矶磨耗试验机，包括底座、设置在底座上的变速箱和滚筒，滚筒上开设有加料口，滚筒包括内筒和外筒，内筒和外筒之间形成封闭内腔，且内筒和外筒之间设置有降噪机构，能够相对降低试验机被使用时发出的噪音。
4.针对上述中的相关技术，发明人认为磨耗试验结束后，为了不影响下一次的磨耗试验，需要对使用后的磨耗机进行清洗，而清洗时产生的废水需要工作人员利用盆子等接盛后再倒掉，增加工作人员的工作量。


技术实现要素：

5.为了便于排放清洗机体时产生的废水，本技术提供一种数显洛杉矶磨耗试验机。
6.本技术提供的一种数显洛杉矶磨耗试验机采用如下的技术方案：
7.一种数显洛杉矶磨耗试验机，包括机体，所述机体上转动设置有滚筒，所述滚筒上开设有加料口，所述滚筒上可拆卸设置有用于遮挡加料口的遮挡盖，所述机体上开设有蓄水槽，所述蓄水槽位于滚筒的正下方，所述蓄水槽的底部连通设置有排水管。
8.通过采用上述技术方案，需要对试验机的滚筒进行清洗时，将排水管连通下水道，通过加料口向滚筒内加水，然后利用遮挡盖遮挡加料口，然后驱动滚筒转动，进而对滚筒内部进行清洗，清洗完毕后将加料口转动至对准蓄水槽，然后打开遮挡盖，冲洗后的废水流入蓄水槽中，蓄水槽中的废水通过排水管排放，从而具有便于排放清洗机体时产生的废水的效果。
9.可选的，所述排水管为风琴管。
10.通过采用上述技术方案，风琴管是一种具有可伸缩功能的软管，具有更加便于连接蓄水槽和下水道的效果。
11.可选的，所述机体的侧壁上设置有用于固定风琴管的夹持件。
12.通过采用上述技术方案，不使用风琴管进行排水时，利用夹持件将风琴管进行夹持固定，从而具有便于将风琴管进行收纳的效果。
13.可选的，所述夹持件包括第一弹性片和第二弹性片，所述第一弹性片和第二弹性片均设置在所述机体的侧壁上，且第一弹性片和第二弹性片始终具有相互贴合的趋势。
14.通过采用上述技术方案，需要对风琴管进行收纳时，将风琴管按入第一弹性片和第二弹性片之间，利用第一弹性片和第二弹性片恢复弹性形变的过程将风琴管进行夹持。
15.可选的，所述机体的侧壁上开设有插接口，所述插接口与所述蓄水槽内部连通，还包括过滤屉，所述过滤屉的底壁上开设有若干个过滤孔，所述过滤屉滑动插接在所述插接口内。
16.通过采用上述技术方案，排放清理废水时，将过滤屉插接在插接口内，能对废水中的残渣进行过滤，在一定程度上减少残渣堵塞排水管。
17.可选的，所述蓄水槽内相对的两个侧壁上开设有滑动槽，所述滑动槽贯穿所述蓄水槽的外侧壁，所述过滤屉相对的两个侧壁上设置有与滑动槽相适配的滑动条。
18.通过采用上述技术方案，通过在蓄水槽内开设滑动槽，并在过滤屉上设置滑动条，从而具有便于提高过滤屉使用时的稳定性的效果。
19.可选的，所述滚筒的侧壁上设置有两个相互平行的轨道，两个所述轨道相互靠近的一侧开设有滑槽，所述遮挡盖的一端滑动设置在一个轨道的滑槽中，所述遮挡盖的另一端滑动设置在另一个轨道的滑槽中，且所述轨道上均设置有用于限制遮挡盖滑动的止动件。
20.通过采用上述技术方案，对滚筒进行清理时，向滚筒内注入水然后沿着滑槽滑动遮挡盖，使得遮挡盖将加料口进行遮挡，然后利用止动件将遮挡盖进行固定；清洗完毕后，转动滚筒使得加料口位于蓄水槽的上方，然后使得止动件不再作用，并沿着滑槽滑动遮挡盖，使得遮挡盖不再遮挡加料口，进而便于清洗后的废水从加料口流出。
21.可选的，所述止动件包括螺杆与旋钮，所述螺杆螺纹穿过所述轨道向滑槽内延伸，所述螺杆穿过所述轨道的一端抵紧在所述遮挡盖上，所述旋钮同轴设置在所述螺杆远离遮挡盖的一端上。
22.通过采用上述技术方案，需要限制遮挡盖的滑动时，转动旋钮使得螺杆将遮挡盖抵紧在滑槽的内壁上，从而使得遮挡盖不易发生滑动。
23.综上所述，本技术包括以下至少一种有益技术效果：
24.需要对试验机的滚筒进行清洗时，将排水管连通下水道，通过加料口向滚筒内加水，然后利用遮挡盖遮挡加料口，然后驱动滚筒转动，进而对滚筒内部进行清洗，清洗完毕后将加料口转动至对准蓄水槽，然后打开遮挡盖，冲洗后的废水流入蓄水槽中，蓄水槽中的废水通过排水管排放，从而具有便于排放清洗机体时产生的废水的效果；
25.不使用风琴管进行排水时，利用夹持件将风琴管进行夹持固定，从而具有便于将风琴管进行收纳的效果；
26.清洗完毕后，转动滚筒使得加料口位于蓄水槽的上方，然后使得止动件不再作用，并沿着滑槽滑动遮挡盖，使得遮挡盖不再遮挡加料口，进而便于清洗后的废水从加料口流出。
附图说明
27.图1是本技术实施例的整体结构示意图。
28.图2是本技术实施例用于展示遮挡盖和轨道之间位置关系的局部示意图。
29.图3是本技术实施例用于展示过滤屉和蓄水槽之间位置关系的示意图。
30.图4是图3中a部分的放大示意图。
31.附图标记说明：1、机体；11、滚筒；111、加料口；112、遮挡盖；113、轨道；1131、滑槽；114、螺杆；1141、旋钮；1142、橡胶垫；12、蓄水槽；121、滑动槽；13、排水管；14、夹持件；141、第一弹性片；142、第二弹性片；15、插接口；16、过滤屉；161、过滤孔；162、滑动条；163、把手；17、变速箱。
具体实施方式
32.以下结合附图1
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4对本技术作进一步详细说明。
33.本技术实施例公开一种数显洛杉矶磨耗试验机。参照图1和图2，一种数显洛杉矶磨耗试验机，包括机体1，机体1上转动设置有滚筒11，机体1上设置有驱动滚筒11转动的变速箱17。
34.滚筒11的侧壁上沿着滚筒11的轴向开设有加料口111，滚筒11上可拆卸设置有用于遮挡加料口111的遮挡盖112；作为遮挡盖112可拆卸的一种实施方式，滚筒11的侧壁上设置有两个相互平行的轨道113，两个轨道113相互靠近的一侧均开设有滑槽1131，遮挡盖112的一端滑动设置在一个轨道113的滑槽1131中，遮挡盖112的另一端滑动设置在另一个轨道113的滑槽1131中，且轨道113上均设置有用于限制遮挡盖112滑动的止动件。
35.在本实施例中，止动件包括螺杆114与旋钮1141，螺杆114螺纹穿过轨道113向滑槽1131内延伸，螺杆114穿过轨道113的一端抵紧在遮挡盖112上，旋钮1141同轴设置在螺杆114远离遮挡盖112的一端上，进一步地，为了使得螺杆114更紧密地抵接在遮挡盖112上，螺杆114远离旋钮1141的一端上设置有橡胶垫1142。
36.参照图1和图3，机体1上开设有蓄水槽12，蓄水槽12位于滚筒11的正下方，蓄水槽12的底部连通设置有排水管13，进一步地可以在排水管13上设置阀门（图中未画出），且排水管13采用具有伸缩功能的风琴管，更加便于方便地连接蓄水槽12和下水道，进而清理滚筒11后产生废水流入蓄水槽12中，然后通过排水管13流入下水道，从而具有便于排放清洗机体1时产生的废水的效果。
37.参照图4，机体1的侧壁上设置有用于固定风琴管的夹持件14，在不使用风琴管的时候可以将风琴管进行收纳，夹持件14包括第一弹性片141和第二弹性片142，第一弹性片141和第二弹性片142均设置在机体1的侧壁上，且第一弹性片141和第二弹性片142始终具有相互贴合的趋势。
38.需要对风琴管进行夹持时，使得第一弹性片141和第二弹性片142相互远离，并将风琴管放置在第一弹性片141和第二弹性片142之间，第一弹性片141和第二弹性片142恢复弹性形变时相互靠近，并且第一弹性片141和第二弹性片142均紧密地抵接在风琴管上，从而将风琴管进行夹持与收纳。
39.参照图4，为了对清洗滚筒11的废水进行过滤，试验机还包括过滤屉16，过滤屉16的底壁上开设有若干个过滤孔161，机体1的侧壁上开设有插接口15，插接口15与蓄水槽12内部连通，过滤屉16滑动插接在插接口15内，且过滤屉16的侧壁上设置有便于拉动过滤屉16的把手163；蓄水槽12内相对的两个侧壁上开设有滑动槽121，滑动槽121贯穿蓄水槽12的外侧壁，过滤屉16相对的两个侧壁上设置有与滑动槽121相适配的滑动条162。
40.需要对清理滚筒11的废水进行排放时，将过滤屉16上的滑动条162对准滑动槽
121，然后将过滤屉16插接在蓄水槽12中，进而过滤屉16对废水中的废渣等进行过滤，使用完毕后，利用把手163将过滤屉16从插接口15中拉出，从而便于对过滤屉16中的废渣进行处理。
41.本技术实施例一种数显洛杉矶磨耗试验机的实施原理为：需要对试验机的滚筒11进行清洗时，将排水管13连通下水道并打开阀门，然后将过滤屉16插接在插接口15内；接着通过加料口111向滚筒11内加水，然后滑动遮挡盖112将加料口111进行遮挡，然后转动旋钮1141使得螺杆114的另一端抵紧遮挡盖112，进而遮挡盖112将稳定地加料口111进行遮挡。
42.接着驱动滚筒11转动对滚筒11内部进行清洗，清洗完毕后将加料口111转动至对准蓄水槽12，然后打开遮挡盖112，冲洗后的废水流入蓄水槽12中，经过过滤屉16的过滤后，废水从排水管13排出，从而具有便于排放清洗机体1时产生的废水的效果。
43.以上均为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围之内。