液滴微阵列的制作方法

文档序号:34192072发布日期:2023-05-17 15:30阅读:29来源:国知局
液滴微阵列的制作方法

总的来说提供了液滴阵列和用于形成液滴阵列的方法。


背景技术:

1、许多对流体样品进行分析的技术需要在拓扑学上约束所述流体样品的衬底。此类衬底可能需要相当大的努力来制造,和/或当实验需求改变时可能难以重新配置。

2、因此,需要适合于承载液滴阵列的新衬底和相关的方法。


技术实现思路

1、本公开总的来说描述了液滴阵列。在某些情况下,本文描述的主题内容涉及相互关联的产品、特定问题的替代解决方案和/或一种或多种系统和/或制品的多种不同用途。

2、在某些实施方式中,提供了一种形成液滴阵列的方法。所述方法包括将多个液滴沉积到表面上。所述表面是平坦的。所述表面具有均匀的表面化学。所述表面是疏水的。所述多个液滴包含大于或等于10个液滴。

3、在某些实施方式中,提供了一种液滴阵列。所述液滴阵列包含沉积到表面上的多个液滴。所述表面是平坦的。所述表面具有均匀的表面化学。所述表面是疏水的。所述多个液滴包含大于或等于10个液滴。

4、当结合附图考虑时,本发明的其他优点和新颖特点将从以下对本发明的各种不同非限制性实施方式的详细描述中变得明显。在本说明书和通过参考并入的文件包含冲突和/或不一致的公开内容的情况下,将以本说明书为准。如果通过参考并入的两个或更多个文件包含相互冲突和/或不一致的公开内容,则以生效日期更晚的文件为准。



技术特征:

1.一种形成液滴阵列的方法,所述方法包括:

2.一种液滴阵列,其包含:

3.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述液滴被顺序沉积。

4.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述液滴以自动方式沉积。

5.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中至少一部分所述液滴包含单个细胞。

6.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中在沉积之前,对每个液滴进行质询以确定所述液滴是否包含细胞。

7.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其还包括沉积任何缺少细胞和/或包含两个或更多个细胞的液滴。

8.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述液滴包含水。

9.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述液滴包含缓冲液。

10.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述液滴包含涂层。

11.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述涂层包含油。

12.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中至少一部分所述液滴包含珠子。

13.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述液滴具有大于或等于20pl并小于或等于100nl的平均体积。

14.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述表面具有大于或等于1个液滴/平方毫米表面的液滴密度。

15.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述表面包含氟化聚合物。

16.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述表面包含聚四氟乙烯。

17.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述表面包含十八烷基三氯硅烷。

18.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述表面是薄膜的表面。

19.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述表面是自组装单层的表面。

20.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述表面是衬底和/或配置在衬底上的薄膜的上表面。

21.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述衬底包括载玻片。

22.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述衬底包括塑料。

23.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述表面具有大于或等于1cm2并小于或等于400cm2的表面积。

24.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述衬底是透明的。

25.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其还包括对至少一部分所述液滴进行单细胞测定。

26.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述单细胞测定包括elisa测定。

27.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其还包括在至少一部分所述多个液滴中生长细胞。

28.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其还包括对所述多个液滴进行fret。

29.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述表面至少部分被顶表面包围。

30.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中所述表面和/或顶表面是疏水的。

31.如前述权利要求中的任一项中所述的方法或阵列,其中对于所述多个液滴中的每一者来说,液滴的至少一部分与所述顶表面接触。


技术总结
总的来说提供了用于形成液滴阵列的方法和相关的液滴阵列。

技术研发人员:萨敏·阿卡巴里,克里斯托弗·泽合,大卫·波拉德
受保护的技术使用者:赛多利斯司特蒂姆塞尔卡有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/12
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