技术特征：
1.一种挥发性物质挥发速率测试装置，其特征在于，所述装置包括：密闭腔体、温压调节系统、温压检测系统、质量检测系统和分析系统；所述质量检测系统设置在所述密闭腔体内；所述分析系统分别与所述温压调节系统、所述温压检测系统和所述质量检测系统连接；所述密闭腔体用于为待测样品提供密闭环境；所述温压检测系统用于检测所述密闭腔体内的温压数据，并将检测到的温压数据发送给所述分析系统；所述分析系统用于根据预设的温压参数和所述温压检测系统检测到的温压数据，控制所述温压调节系统调节所述密闭腔体内的温压条件；所述质量检测系统用于检测所述密闭腔体内在指定温压条件下待测物质的质量数据，并将检测到的质量数据发送给所述分析系统；所述分析系统用于根据预设的挥发时长内所述密闭腔体内在指定温压条件下所述待测物质的质量数据变化，确定所述待测样品在指定温压条件下的挥发速率。2.根据权利要求1所述的挥发性物质挥发速率测试装置，其特征在于，所述温压参数包括温度参数和压强参数；所述温压条件包括所述密闭腔体内的温度和所述密闭腔体内的压强；所述温压调节系统包括温度调节单元和压强调节单元；所述密闭腔体的输出端通过管道与所述压强调节单元的输入端连接；所述分析系统分别与所述温度调节单元和所述压强调节单元连接；所述分析系统用于根据预设的温度参数控制所述温度调节单元调节所述密闭腔体内的温度，根据预设的压强参数控制所述压强调节单元调节所述密闭腔体内的压强。3.根据权利要求2所述的挥发性物质挥发速率测试装置，其特征在于，所述温压数据包括所述密闭腔体内的温度数据以及所述密闭腔体内的压强数据；所述温压检测系统包括温度检测器和压强检测器；所述分析系统分别与所述温度检测器和所述压强检测器连接；所述温度检测器设置在所述密闭腔体内，用于检测所述密闭腔体内的温度数据，并将检测到的温度数据发送给所述分析系统；所述压强检测器设置在所述密闭腔体的输出端，用于检测所述密闭腔体内的压强数据，并将检测到的压强数据发送给所述分析系统。4.根据权利要求2所述的挥发性物质挥发速率测试装置，其特征在于，所述温度调节单元为设置在所述密闭腔体内的加热台。5.根据权利要求2所述的挥发性物质挥发速率测试装置，其特征在于，所述密闭腔体输出端与所述压强调节单元输入端之间的管道上设置有手动控制单元。6.根据权利要求5所述的挥发性物质挥发速率测试装置，其特征在于，所述压强调节单元为真空泵；所述手动控制单元为手动控制阀。7.根据权利要求1所述的挥发性物质挥发速率测试装置，其特征在于，所述分析系统包括计时器，用于按照所述预设的挥发时长进行计时；所述分析系统用于根据不同计时时刻所对应的所述密闭腔体内在指定温压条件下所述待测样品的质量数据，确定预设的挥发时长内所述密闭腔体内在指定温压条件下所述待测物质的质量数据变化。8.根据权利要求1所述的挥发性物质挥发速率测试装置，其特征在于，所述分析系统还包括显示单元；所述分析系统用于通过所述显示单元显示所述待测样品在指定温压条件下的挥发速率。
9.根据权利要求1-8任一项所述的挥发性物质挥发速率测试装置，其特征在于，所述分析系统用于根据预设的挥发时长内所述密闭腔体内在指定温压条件下所述待测物质的质量数据变化以及预存的所述待测样品的挥发参数，确定所述待测样品在指定温压条件下的挥发速率；其中，所述待测样品的挥发参数包括以下中至少之一：所述待测样品的挥发表面积、所述待测样品的摩尔质量、所述待测样品的密度。10.一种挥发性物质挥发速率测试方法，其特征在于，应用于权利要求1-9任一项所述的挥发性物质挥发速率测试装置，所述方法包括：设置分析系统的温压参数和挥发时长，将待测样品放置在密闭腔体内的质量检测系统上；通过温压检测系统检测密闭腔体内的温压数据，并将检测到的温压数据发送给分析系统；通过分析系统根据设置的温压参数和温压检测系统检测到的温压数据，控制温压调节系统调节密闭腔体内的温压条件达到指定温压条件；通过质量检测系统检测密闭腔体内在指定温压条件下待测物质的质量数据，并将检测到的质量数据发送给分析系统；通过分析系统根据设置的挥发时长内密闭腔体内在指定温压条件下待测物质的质量数据变化，确定待测样品在指定温压条件下的挥发速率。
技术总结
本发明提供了一种挥发性物质挥发速率测试装置及方法，通过密闭腔体为待测样品提供密闭环境；通过温压检测系统检测密闭腔体内的温压数据，并将检测到的温压数据发送给分析系统；通过分析系统根据预设的温压参数和温压检测系统检测到的温压数据，控制温压调节系统调节密闭腔体内的温压条件；通过质量检测系统检测密闭腔体内在指定温压条件下待测物质的质量数据，并将检测到的质量数据发送给分析系统；通过分析系统根据预设的挥发时长内密闭腔体内在指定温压条件下待测物质的质量数据变化，确定待测样品在指定温压条件下的挥发速率。采用本发明可以快速、准确地检测出特定温压环境中挥发性物质的挥发速率。压环境中挥发性物质的挥发速率。压环境中挥发性物质的挥发速率。
技术研发人员：刘董 武中臣 吕英波
受保护的技术使用者：山东大学
技术研发日：2022.11.07
技术公布日：2023/3/21