沿所述收集路径 导引的照明的部分被检测；及 计算系统，其通信地耦合到所述至少一个检测器，所述计算系统经配置以基于照明的 所述所检测部分而确定所述样本的至少一个空间属性。2. 根据权利要求1所述的系统，其中所述照明扫描仪安置于所述照明路径的所述光瞳 平面内。3. 根据权利要求1所述的系统，其中所述照明扫描仪沿所述照明路径安置于所述变迹 器与所述照明场光阑之间。4. 根据权利要求3所述的系统，其中所述变迹器安置于所述至少一个照明源与所述照 明扫描仪之间。5. 根据权利要求3所述的系统，其中所述照明场光阑安置于所述至少一个照明源与所 述照明扫描仪之间。6. 根据权利要求1所述的系统，其中所述照明场光阑沿所述照明路径安置于所述变迹 器与所述照明扫描仪之间。7. 根据权利要求1所述的系统，其中所述变迹器沿所述照明路径安置于所述照明扫描 仪与所述照明场光阑之间。8. 根据权利要求1所述的系统，其中所述照明场光阑包括变迹场光阑。9. 根据权利要求1所述的系统，其中所述照明扫描仪经进一步配置以将沿所述收集路 径从所述样本的所述表面散射、反射或辐射的照明导引到所述至少一个检测器。10. 根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个照明源包括相干照明源。11. 根据权利要求1所述的系统，其中根据以下方程式而选择所述变迹器的变迹曲线：其中 F(p(k))是成本函数， P(k)是光瞳变迹器曲线， χ〇界定所述样本的目标范围， 1?界定所述光瞳平面的目标范围， X1界定场平面中的尾部减小及光瞳函数均匀度的相对权重，且 NA界定光瞳孔径。12. 根据权利要求1所述的系统，其中所述收集场光阑包括经配置以使沿所述收集路 径导引的照明变迹的变迹场光阑。13. 根据权利要求12所述的系统，其中根据以下方程式而选择所述变迹收集场光阑的 变迹曲线：其中 F (p(x))是成本函数， P(X)是场光阑变迹器曲线， χ〇界定所述样本的目标范围， 1?界定所述光瞳平面的目标范围， λ2界定场平面中的尾部减小及收集场光阑函数均匀度的相对权重，且 L界定场光阑大小。14. 根据权利要求1所述的系统，其进一步包括： 光谱控制器，其沿所述照明路径安置，所述光谱控制器经配置以通过控制沿所述照明 路径导引的照明的光谱而影响变迹。15. 根据权利要求14所述的系统，其中所述光谱控制器包含微镜阵列、多个主动式快 门或选定滤波器。16. -种用于执行光学计量的系统，其包括： 载台，其经配置以支撑样本； 至少一个照明源，其经配置以提供沿照明路径的照明以照明所述样本的表面； 变迹光瞳，其沿所述照明路径安置，所述变迹光瞳包含经配置以提供四极照明功能的 至少四个长形孔径，所述变迹光瞳经进一步配置以使沿所述照明路径导引的照明变迹； 照明场光阑，其沿所述照明路径安置，所述照明场光阑经配置以阻止沿所述照明路径 导引的照明的部分照射所述样本的所述表面； 至少一个检测器，其经配置以检测沿收集路径从所述样本的所述表面散射、反射或辐 射的照明的部分；及 计算系统，其通信地耦合到所述至少一个检测器，所述计算系统经配置以基于照明的 所述所检测部分而确定所述样本的至少一个空间属性。17. 根据权利要求16所述的系统，其进一步包括： 照明扫描仪，其沿所述照明路径安置，所述照明扫描仪经配置以用所述变迹照明的至 少部分来扫描所述样本的所述表面。18. 根据权利要求17所述的系统，其中所述照明扫描仪经进一步配置以将沿所述收集 路径从所述样本的所述表面散射、反射或辐射的照明导引到所述至少一个检测器。19. 根据权利要求16所述的系统，其中所述照明场光阑包括变迹场光阑。20. 根据权利要求16所述的系统，其中所述至少一个照明源包括相干照明源。21. 根据权利要求16所述的系统，其中根据以下方程式而选择所述变迹光瞳的变迹曲 线：其中 F(p(k))是成本函数， P(X)是光瞳变迹器曲线， χ〇界定所述样本的目标范围， h界定所述光瞳平面的目标范围， λ 2界定场平面中的尾部减小及光瞳函数均匀度的相对权重，且 NA界定光瞳孔径。22. 根据权利要求16所述的系统，其进一步包括： 变迹收集场光阑，其沿所述收集路径安置，所述变迹收集场光阑经配置以使沿所述收 集路径导引的照明变迹，且经进一步配置以阻止沿所述收集路径导引的照明的部分被检 测。23. 根据权利要求22所述的系统，其中根据以下方程式而选择所述变迹收集场光阑的 变迹曲线：其中 F(p(k))是成本函数， P(X)是场光阑变迹器曲线， χ〇界定所述样本的目标范围， 1?界定所述光瞳平面的目标范围， λ2界定场平面中的尾部减小及收集场光阑函数均匀度的相对权重，且 L界定场光阑大小。24. -种用于执行光学计量的系统，其包括： 载台，其经配置以支撑样本； 至少一个照明源，其经配置以提供沿照明路径的照明以照明所述样本的表面； 变迹器，其安置于所述照明路径的光瞳平面内，所述变迹器经配置以使沿所述照明路 径导引的照明变迹； 照明场光阑，其沿所述照明路径安置，所述照明场光阑经配置以阻止沿所述照明路径 导引的照明的部分照射所述样本的所述表面； 至少一个检测器，其经配置以检测沿收集路径从所述样本的所述表面散射、反射或辐 射的照明的部分； 变迹收集场光阑，其沿所述收集路径安置，所述变迹收集场光阑经配置以将沿所述收 集路径导引的照明变迹，且经进一步配置以阻止沿所述收集路径导引的照明的部分被检 测；及 计算系统，其通信地耦合到所述至少一个检测器，所述计算系统经配置以基于照明的 所述所检测部分而确定所述样本的至少一个空间属性。25. 根据权利要求24所述的系统，其进一步包括： 照明扫描仪，其沿所述照明路径安置，所述照明扫描仪经配置以用所述变迹照明的至 少部分来扫描所述样本的所述表面。26. 根据权利要求26所述的系统，其中所述照明扫描仪经进一步配置以将沿所述收集 路径从所述样本的所述表面散射、反射或辐射的照明导引到所述至少一个检测器。27. 根据权利要求24所述的系统，其中所述照明场光阑包括变迹场光阑。28. 根据权利要求24所述的系统，其中所述至少一个照明源包括相干照明源。29. 根据权利要求24所述的系统，其中根据以下方程式而选择所述变迹器的变迹曲 线：其中 F(p(k))是成本函数， P (k)是光瞳变迹器曲线， χ〇界定所述样本的目标范围， h界定所述光瞳平面的目标范围， X1界定场平面中的尾部减小及光瞳函数均匀度的相对权重，且 NA界定光瞳孔径。30. 根据权利要求24所述的系统，其中根据以下方程式而选择所述变迹收集场光阑的 变迹曲线：其中 F (p(x))是成本函数， P(X)是场光阑变迹器曲线， χ〇界定所述样本的目标范围， 1?界定所述光瞳平面的目标范围， λ2界定场平面中的尾部减小及收集场光阑函数均匀度的相对权重，且 L界定场光阑大小。
【专利摘要】本发明涉及用于光瞳成像散射测量的各种变迹方案。在一些实施例中，系统包含安置于照明路径的光瞳平面内的变迹器。在一些实施例中，所述系统进一步包含经配置以用变迹照明的至少一部分来扫描样本的表面的照明扫描仪。在一些实施例中，所述系统包含经配置以提供四极照明功能的变迹光瞳。在一些实施例中，所述系统进一步包含变迹收集场光阑。本文中描述的各种实施例可经组合以实现某些优点。
【IPC分类】H01L21/66, G01N21/47
【公开号】CN104903705
【申请号】CN201380069795
【发明人】安德鲁·W·希尔, 阿姆农·玛纳森, 巴拉克·布林戈尔茨, 欧哈德·巴沙尔, 马克·吉诺乌克, 泽夫·博姆索恩, 丹尼尔·坎德尔
【申请人】科磊股份有限公司
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2013年11月25日
【公告号】US9091650, US20140146322, US20150316783, WO2014085338A1