专利名称：触摸屏及显示装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种触摸屏及显示装置，尤其涉及一种釆用碳纳米管透明导 电层的触摸屏及使用该触摸屏的显示装置。
背景技术：
近年来，伴随着移动电话与触摸导航系统等各种电子设备的高性能化和 多样化的发展，在液晶等显示设备的前面安装透光性的触摸屏的电子设备逐 步增加。这样的电子设备的利用者通过触摸屏， 一边对位于触摸屏背面的显 示设备的显示内容进行视觉确认， 一边利用手指或笔等方式按压触摸屏来进 行操作。由此，可以操作电子设备的各种功能。
按照触摸屏的工作原理和传输介质的不同，现有的触摸屏分为四种类 型，分别为电阻式、电容式、红外线式以及表面声波式。其中电容式触摸屏 因准确度较高、抗干扰能力强应用较为广泛(李树本，王清弟，吉建华，光电
子技术，Vol. 15， P62 (1995))。
现有技术中的电容型触摸屏包括一玻璃基板， 一透明导电层，以及多个 金属电极。在该电容型触摸屏中，玻璃基板的材料为纳钙玻璃。透明导电层 为例如铟锡氧化物(ITO)或锑锡氧化物(ATO)等透明材料。电极为通过 印制具有低电阻的导电金属(如银)形成。电极间隔设置在透明导电层的各 个角处。此外，透明导电层上涂覆有钝化层。该钝化层由液体玻璃材料通过 硬化或致密化工艺，并进行热处理后，硬化形成。
当手指等触摸物触摸在触摸屏表面上时，由于人体电场，手指等触摸物 和触摸屏中的透明导电层之间形成一个耦合电容。对于高频电流来说，电容 是直接导体，手指等触摸物的触摸将从接触点吸走一个很小的电流。这个电 流分别从触摸屏上的电极中流出，并且流经这四个电极的电流与手指到四角 的距离成正比，触摸屏控制器通过对这四个电流比例的精确"十算，得出触摸 点的位置。
然而，现有技术中 一般用银或铜等低电阻的导电金属镀层或者金属箔片作为电容式触摸屏的电极，它们均具有机械和化学性耐用不好等缺点，并且 当触摸屏的基板为一柔性基板，并以金属镀层或金属箔片作为上电极形成于 该柔性基板上时，金属镀层或金属箔片在多次使用后由于基板的弯折易脱落 和损坏，从而导致现有的电容式触摸屏及显示装置耐用性差，寿命较短。另 外，采用银或铜等低电阻导电金属作为电极成本较高，从而使采用该电极的 触摸屏成本较高。
因此，确有必要提供一种分辨率高、精确度高及耐用的触摸屏，以及使 用该触摸屏的显示装置。
发明内容
一种触摸屏，该触摸屏包括一基体； 一透明导电层，该透明导电层设置 于上述基体的一表面；以及至少两个电极，该至少两个电极间隔设置于透明 导电层或基体表面并与该透明导电层电连接。其中，所述的电极包括一碳纳 米管层。
一种显示装置，其包括一触摸屏，该触摸屏包括一基体， 一透明导电层， 该透明导电层设置于上述基体的一表面，以及至少两个电极，该至少两个电 极间隔设置在透明导电层或基体表面，并与该透明导电层电连接； 一显示设 备，该显示设备正对且靠近触摸屏的基体设置。其中，上述电极进一步包括 一碳纳米管层。
与现有技术的触摸屏及显示装置相比较，本技术方案提供的触摸屏及显 示装置具有以下优点其一，由于碳纳米管层具有很好的韧性和机械强度， 故，采用上述的碳纳米管层代替现有的金属镀层或金属箔片作电极，可以相 应的提高触摸屏的耐用性，进而提高了使用该触摸屏的显示装置的耐用性， 尤其当触摸屏的基板采用一柔性材料从而形成一柔性触摸屏时，以碳纳米管 层作为电极可增进电极的耐弯折性，并提高柔性触摸屏的使用寿命。其二， 采用直接拉伸的方法制备得到碳纳米管薄膜的工艺操作简单、成本较低，且 可利用直接拉伸的碳纳米管薄膜直接黏附在基体或导电层上，故，利于大规 模生产采用碳纳米管薄膜结构作电极的触摸屏及显示装置。
图1是本技术方案实施例的触摸屏的结构示意图。
图2是沿图i所示的线ii-ir的剖视图。
图3是本技术方案实施例电极中碳纳米管薄膜的扫描电镜图。
图4是本技术方案实施例的显示装置的结构示意图。
图5是本技术方案实施例的显示装置的工作原理示意图。
具体实施例方式
以下将结合附图详细说明本技术方案的触摸屏及显示装置。
请参阅图1和图2，触摸屏20包括一基体22、 一透明导电层24、至少 两个电极28及一防护层26。基体22具有一第一表面221以及与第一表面 221相对的第二表面222。透明导电层24设置在基体22的第一表面221上； 上述至少两个电极28分别设置在透明导电层24的每个角处或边上，且与透 明导电层24形成电连接，用以在透明导电层24上形成等电位面。防护层26 可直接设置在透明导电层24以及电极28上。
具体地，可以采用四个电极28分别设置于透明导电层24的四个角或四 条边上，用以在上述的透明导电层24上形成均匀的电阻网络。在本实施例 中，四个带状电极28间隔设置在上述的透明导电层24同一表面的四个边上。 可以理解，上述的电极28也可以设置在透明导电层24的不同表面上，其关 键在于上述电极28的设置能使得在透明导电层24上形成等电位面即可。本 实施例中，所述电极28设置在透明导电层24的远离基体22的一个表面上。
可以理解，所述的四个电极28亦可设置于透明导电层24与基体22之 间，且与透明导电层24电连接。
所述基体22为一曲面型或平面型的结构。该基体22由玻璃、石英、金 刚石或塑料等硬性材料或柔性材料形成。所述基体22主要起支撑的作用。
所述透明导电层24为导电的铟锡氧化物(ITO)层、碳纳米管层，导电聚 合物层，或其它透明导电材料。
所述电极28包括一碳纳米管层，该碳纳米管层包括多个碳纳米管。具 体地，上述碳纳米管层中可进一步包括多个碳纳米管薄膜重叠设置。上述碳 纳米管层中的碳纳米管薄膜由有序的或无序的碳纳米管组成，并且该碳纳米 管薄膜具有均匀的厚度。具体地，该碳纳米管层包括无序的碳纳米管薄膜或
7者有序的碳纳米管薄膜。无序的碳纳米管薄膜中，碳纳米管为无序或各向同 性排列。该无序排列的碳纳米管相互缠绕，该各向同性排列的碳纳米管平行 于碳纳米管薄膜的表面。有序的碳纳米管薄膜中，碳纳米管为沿同一方向择 优取向排列，或沿不同方向择优取向排列。当碳纳米管层包括多层有序碳纳 米管薄膜时，该多层碳纳米管薄膜可以沿任意方向重叠设置，因此，在该碳 纳米管层中，碳纳米管为沿相同或不同方向择优取向排列。
该碳纳米管薄膜的宽度可为1微米 10厘米，厚度可为10纳米 10微米。
所述碳纳米管包括单壁碳纳米管、双壁碳纳米管或多壁碳纳米管。所述单壁
碳纳米管的直径为0.5纳米~50纳米，双壁碳纳米管的直径为1纳米~50纳 米，多壁>^纳米管的直径为1.5纳米 50纳米。
本实施例中，该电极28为重叠设置的多层有序的碳纳米管薄膜，且多 层碳纳米管薄膜的重叠角度不限。每层碳纳米管薄膜中碳纳米管为有序排 列，进一步地，该每层碳纳米管薄膜包括多个择优取向排列的碳纳米管束， 该碳纳米管束具有基本相等的长度且首尾相连地排列成连续的碳纳米管薄 膜。
本实施例电极28中碳纳米管薄膜的制备方法主要包括以下步骤 步骤一提供一碳纳米管阵列，优选地，该阵列为超顺排碳纳米管阵列。 本技术方案实施例提供的碳纳米管阵列为单壁碳纳米管阵列，双壁碳纳 米管阵列，或多壁碳纳米管阵列。本实施例中，超顺排碳纳米管阵列的制备 方法采用化学气相沉积法，其具体步骤包括(a)提供一平整基底，该基底 可选用P型或N型硅基底，或选用形成有氧化层的硅基底，本实施例优选为 釆用4英寸的硅拳底；(b)在基底表面均匀形成一催化剂层，该催化剂层材 料可选用铁(Fe)、钴(Co)、镍(Ni)或其任意组合的合金之一；(c)将上 述形成有催化剂层的基底在700~900。C的空气中退火约30分钟~90分钟；(d) 将处理过的基底置于反应炉中，在保护气体环境下加热到500~740。C，然后 通入碳源气体反应约5~30分钟，生长得到超顺排碳纳米管阵列，其高度为 200~400微米。该超顺排碳纳米管阵列为多个彼此平行且垂直于基底生长的 碳纳米管形成的纯碳纳米管阵列。通过上述控制生长条件，该超顺排碳纳米 管阵列中基本不含有杂质，如无定型碳或残留的催化剂金属颗粒等。该碳纳 米管阵列中的碳纳米管彼此通过范德华力紧密接触形成阵列。该碳纳米管阵列与上述基底面积基本相同。
本实施例中碳源气可选用乙炔、乙烯、曱烷等化学性质较活泼的碳氢化
合物，本实施例优选的碳源气为乙炔；保护气体为氮气或惰性气体，本实施 例优选的保护气体为氩气。
可以理解，本实施例提供的碳纳米管阵列不限于上述制备方法。也可为 石墨电极恒流电弧放电沉积法、激光蒸发沉积法等。
步骤二采用 一拉伸工具从碳纳米管阵列中拉取获得一碳纳米管薄膜。 其具体包括以下步骤(a)从上述碳纳米管阵列中选定一定宽度的多个碳纳 米管片断，本实施例优选为采用具有一定宽度的胶带接触碳纳米管阵列以选 定一定宽度的多个碳纳米管片断；(b)以一定速度沿基本垂直于碳纳米管阵 列生长方向拉伸该多个碳纳米管片断，以形成一连续的碳纳米管薄膜。
在步骤(a)中，本实施例优选为采用具有一定宽度的胶带接触碳纳米 管阵列以选定一定宽度的多个碳纳米管片断。当需要荻得的碳纳米管薄膜宽 度较窄时，可以采用一端面较窄的工具，如一镊子，选取该多个碳纳米管片 段。在步骤(b)的拉伸过程中，该多个碳纳米管片段在拉力作用下沿拉伸 方向逐渐脱离基底的同时，由于范德华力作用，该选定的多个碳纳米管片段 分别与其他碳纳米管片断首尾相连地连续地被拉出，从而形成一碳纳米管薄 膜。
请参阅图3，该碳纳米管薄膜为择优取向排列的多个碳纳米管束首尾相 连形成的具有一定宽度的碳纳米管薄膜。该碳纳米管薄膜中碳纳米管的排列 方向基本平行于碳纳米管薄膜的拉伸方向。该直接拉伸获得的择优取向排列 的碳纳米管薄膜比无序的碳纳米管薄膜具有更好的均匀性，即具有更均匀的 厚度以及具有均匀的导电性能。同时该直接拉伸获得碳纳米管薄膜的方法简 单快速，适宜进行工业化应用。
本实施例中，该碳纳米管薄膜的宽度与碳纳米管阵列所生长的基底的尺 寸有关，该碳纳米管薄膜的长度不限，可根据实际需求制得。本实施例中采 用4英寸的基底生长超顺排碳纳米管阵列，该碳纳米管薄膜的宽度可为l微 米 10厘米，该碳纳米管薄膜的厚度为0.5纳米 100微米。当碳纳米管薄膜 中的碳纳米管为单壁碳纳米管时，该单壁碳纳米管的直径为5纳米 50纳米。 当碳纳米管薄膜中的碳纳米管为多壁碳纳米管时，该多壁碳纳米管的直径为0.5纳米 10纳米。
在上述拉伸过程中，该多个碳纳米管片断在拉力作用下沿拉伸方向逐渐 脱离基底的同'时，由于范德华力作用，该选定的多个碳纳米管片断分别与其 他碳纳米管片断首尾相连地连续地被拉出，从而形成一碳纳米管薄膜。
可以理解，由于本实施例超顺排碳纳米管阵列中的碳纳米管非常纯净， 且由于碳纳米管本身的比表面积非常大，所以该碳纳米管薄膜本身具有较强 的粘性。因此，该碳纳米管薄膜作为电极28可直接粘附在基体22的第一表 面221或透明导电层24上。当该电极28为多层碳纳米管薄膜重叠设置时， 可将依据上述方法制备的多个碳纳米管薄膜沿任意方向重叠地粘附在基体 22的第一表面221或透明导电层24上。优选地，该多个碳纳米管薄膜沿不 同方向黏附在透明导电层24远离基体的表面上形成电极28。
可以理解，电极28的设置并不限于上述直接黏附于基体表面的方式。 例如，也可用银胶等导电粘结剂将上述的四个电极28粘结在透明导电层24 上。因此，只要能使上述的电极28与透明导电层24之间形成电连接的方式 都应在本发明的保护范围内。
另外，可使用有机溶剂处理上述粘附在基体22的第一表面221或透明 导电层24上的碳纳米管薄膜。具体地，可通过试管将有机溶剂滴落在碳纳 米管薄膜表面浸润整个碳纳米管薄膜。该有机溶剂为挥发性有机溶剂，如乙 醇、曱醇、丙酮、二氯乙烷或氯仿，本实施例中采用乙醇。该多层碳纳米管 薄膜经有机溶剂浸润处理后，在挥发性有机溶剂的表面张力的作用下，该碳 纳米管薄膜可牢固地贴附在基体表面，且表面体积比减小，粘性降低，具有 良好的机械强度及韧性。
可以理解，所述电极28和基体22的形状可以根据触摸屏20的触摸区 域的形状进行选择。例如触摸屏20的触摸区域可为具有一长度的长线形触 摸区域、三角形触摸区域及矩形触摸区域等。本实施例中，触摸屏20的触 摸区域为矩形触摸区域。
可以理解，当本实施例采用碳纳米管薄膜作为电极28时，为使电极与 导电层之间更好配合，从而进一步提高该触摸屏的准确度，相应地，可以釆 用与形成电极28相似的方法在基体22的一个表面上黏附碳纳米管薄膜作为 透明导电层24。该触摸屏的大小形状不受碳纳米管薄膜尺寸的限制。当碳纳米管薄膜宽度小于触摸屏宽度时，为使碳纳米管薄膜覆盖整个基体表面，可 将多个具有一定宽度的碳纳米管薄膜无缝铺设于基体表面，形成一完整的导 电层。
进一步地，为了延长透明导电层24的使用寿命和限制耦合在接触点与 透明导电层24之间的电容，可以在透明导电层24和电极之上'设置一透明的 防护层26,防护层26可由氮化硅、氧化硅、苯丙环丁烯(BCB)、聚酯膜或 丙烯酸树脂等形成。该防护层26具有一定的硬度，对透明导电层24起保护 作用。可以理解，还可通过特殊的工艺处理，从而使得防护层26具有以下 功能，例如减小炫光、降低反射等。
在本实施例中，在形成有电极28的透明导电层24上设置一二氧化硅层 用作防护层26,该防护层26的硬度达到7H。可以理解，防护层26的硬度 和厚度可以根据需要进行选择。所述防护层26可以通过粘结剂直接粘结在 透明导电层24上。
此外，为了减小由显示设备产生的电磁干扰，避免从触摸屏20发出的 信号产生错误，还可在基体22的第二表面222上设置一屏蔽层25。该屏蔽 层25可由铟锡氧化物(ITO)、锑锡氧化物(ATO)或碳纳米管薄膜等透明 导电材料形成。当所述的屏蔽层25包含一碳纳米管薄膜时，该碳纳米管薄 膜可以是定向排列的或其它结构的碳纳米管薄膜。本实施例中，该碳纳米管 薄膜包括多个碳纳米管，且在上述的碳纳米管薄膜中定向排列，其具体结构 可与透明导电层24相同。该碳纳i管薄膜作为电接地点，起到屏蔽的作用， 从而使得触摸屏20能在无干扰的环境中工作。
请参阅图4,本技术方案实施例提供一显示装置100，该显示装置100 包括一触摸屏20， 一显示设备30。该显示设备30正对且靠近触摸屏20设 置。进一步地，上述的显示设备30正对且靠近触摸屏20的基体22第二表 面222设置。上述的显示设备30与触摸屏20可间隔一预定距离设置或集成 设置。
显示设备30可以为液晶显示器、场发射显示器、等离子显示器、电致 发光显示器、真空焚光显示器及阴极射线管等显示设备中的一种。
请参阅图5，进一步地，当显示设备30与触摸屏20间隔一定距离设置 时，可在触摸屏20的屏蔽层25远离基体22的一个表面上设置一钝化层104，
ii该钝化层104可由氮化硅、氧化硅等材料形成。该钝化层104与显示设备30 的正面间隔一间隙106设置。具体地，在上述的钝化层104与显示设备30 之间设置两个支撑体108。该钝化层104作为介电层使用，所述钝化层104 与间隙106可保护显示设备30不致于由于外力过大而损坏。
当显示设备30与触摸屏20集成设置时，触摸屏20和显示设备30之间 接触设置。即将支撑体108除去后，上述钝化层104无间隙地设置在显示设 备30的正面。
另外，上述的显示装置100进一步包括一触摸屏控制器40、 一显示设备 控制器60及一中央处理器50。其中，触摸屏控制器40、中央处理器50及 显示设备控制器60三者通过电路相互连接，触摸屏控制器40连接触摸屏20 的电极28,显示设备控制器60连接显示设备30。
本实施例触摸屏20及显示装置IOO在应用时的原理如下触摸屏20在 应用时可直接设置在显示设备30的显示面上。触摸屏控制器40根据手指等 触摸物70触摸的图标或菜单位置来定位选择信息输入，并将该信息传递给 中央处理器50。中央处理器50通过显示器控制器60控制显示设备30显示。
具体地，在使用时，透明导电层24上施加一预定电压。电压通过电极 28施加到透明导电层24上，从而在该透明导电层24上形成等电位面。使用 者一边视觉确认在触摸屏20后面设置的显示设备30的显示， 一边通过手指 或笔等触摸物70按压或接近触摸屏20的防护层26进行操作时，触摸物70 与透明导电层24之间形成一耦合电容。对于高频电流来说，电容是直接导 体，于是手指从接触点吸走了一部分电流。这个电流分别从触摸屏20上的 电极中流出，并且流经这四个电极的电流与手指到四角的距离成正比，触摸 屏控制器40通过对这四个电流比例的精确计算，得出触摸点的位置。之后， 触摸屏控制器40将数字化的触摸位置数据传送给中央处理器50。然后，中 央处理器50接受上述的触摸位置数据并执行。最后，中央处理器50将该触 摸位置数据传输给显示器控制器60，从而在显示设备30上显示接触物70 发出的触摸信息。
本技术方案实施例提供的触摸屏20及显示装置IOO具有以下优点其 一，由于碳纳米管层具有很好的韧性和机械强度，故，采用上述的碳纳米管 层代替现有的金属镀层或金属箔片作电极28 ，可以相应的提高触摸屏20的耐用性，进而提高了使用该触摸屏的显示装置ioo的耐用性，尤其当触摸屏
20的基体22采用一柔性材料从而形成一柔性触摸屏时，以碳纳米管层作为 电极28可增进电极28的耐弯折性，并提高柔性触摸屏的使用寿命；其二， 采用直接拉伸的方法制备得到碳纳米管薄膜的工艺操作筒单、成本较低，且 可利用直接拉伸的碳纳米管薄膜直接黏附在基体或导电层上，故，利于大规 模生产采用碳纳米管薄膜结构作电极28的触摸屏20及显示装置100;其三， 由于碳纳米管具有优异的导电性能，故，采用碳纳米管形成的碳纳米管薄膜 作电极28具有均匀的导电性能，从而提高触摸屏20及显示装置100的分辨 率和精确度；其四，当电极28与导电层24均采用碳纳米管薄膜时，可以使 电极28与导电层24更好的配合，使该触摸屏20线性准确度进一步提高。
另外，本领域技术人员还可在本发明精神内做其他变化，当然，这些依 据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
权利要求
1. 一种触摸屏，包括一基体；一透明导电层，该透明导电层设置于上述基体的一表面；以及至少两个电极，该至少两个电极间隔设置，并与该透明导电层电连接；其特征在于，上述至少一电极进一步包括一碳纳米管层。
2. 如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，该碳纳米管层包括一层碳纳米管 薄膜或重叠设置的多层碳纳米管薄膜。
3. 如权利要求2所述的触摸屏，其特征在于该碳纳米管薄膜中的碳纳米管为 无序排列或各向同性排列。
4. 如权利要求3所述的触摸屏，其特征在于该碳纳米管薄膜中的碳纳米管平 行于碳纳米管薄膜表面。
5. 如权利要求3所述的触摸屏，其特征在于该碳纳米管薄膜中的碳纳米管相 互缠绕。
6. 如权利要求2所述的触摸屏，其特征在于该碳纳米管薄膜中的碳纳米管为 沿一个固定方向择优取向排列或沿不同方向择优取向排列。
7. 如权利要求6所述的触摸屏，其特征在于该沿一个固定方向排列的碳纳米 管具有相等的长度且通过范德华力首尾相连，从而形成的连续的碳纳米管束。
8. 如权利要求2所述的触摸屏，其特征在于，该碳纳米管薄膜的厚度为0.5纳 米 100孩i米。
9. 如权利要求2所述的触摸屏，其特征在于，该碳纳米管薄膜的宽度为l微米 10厘米。
10. 如权利要求7所述的触摸屏，其特征在于，该多个重叠设置的碳纳米管薄膜 中相邻的两层碳纳米管薄膜中的碳纳米管束形成一夹角a,且0°<0^90°。
11. 如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，该碳纳米管层中的碳纳米管为单 壁碳纳米管、双壁碳纳米管或多壁碳纳米管。
12. 如权利要求11所述的触摸屏，其特征在于，该单壁碳纳米管的直径为0.5纳 米 50纳米，该双壁^f友纳米管的直径为1.0纳米 50纳米，该多壁^i内米管的直径为1.5纳米~50纳米。
13. 如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，该触摸屏进一步包括一防护层， 该防护层设置在透明导电层远离基体的一个表面上。
14. 如权利要求13所述的触摸屏，其特征在于，该防护层材料为氮化硅、氧化硅、 苯丙环丁烯、聚酯膜或丙烯酸树脂。
15. 如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，该触摸屏是平面触摸屏或者曲面 触摸屏。
16. 如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，该基体的材料为玻璃、石英、金 刚石或柔性透明材料。
17. 如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，该触摸屏进一步包括一屏蔽层， 该屏蔽层设置于基体远离透明导电层的一表面，该屏蔽层材料为铟锡氧化物 薄膜、锑锡氧化物薄膜或碳纳米管薄膜。
18. 如权利要求17所述的触摸屏，其特征在于，该屏蔽层为碳纳米管薄膜，且该 碳纳米管薄膜包括多个碳纳米管，上述的多个碳纳米管在上述的碳纳米管薄 膜中定向排列。
19. 如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，该至少两个电极间隔地设置在透 明导电层远离基体的一表面。
20. 如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，该透明导电层包含一碳纳米管层。
21. —种显示装置，包括一触摸屏，该触摸屏包括一基体； 一透明导电层，该透明导电层设置于上述基体的一表面；以及至少两个电极，该至少两个电极间隔设置在透明导电层表面，并与该透明导电层电连接；以及一显示设备，该显示设备正对且靠近于触摸屏的基体设置；其特征在于，上述至少一电极进一步包括一碳纳米管层。
22. 如权利要求21所述的显示装置，其特征在于，该显示设备为液晶显示器、场 发射显示器、等离子显示器、电致发光显示器、真空焚光显示器及阴极射线 管中的一种。
23. 如权利要求21所述的显示装置，其特征在于，该显示设备与触摸屏间隔设置 或集成。
24. 如权利要求21所述的显示装置，其特征在于，该触摸屏进一步包括一钝化层， 所述钝化层设置于触摸屏和显示设备之间，与触摸屏相接触设置，与显示设 备间隔一定距离设置。
25. 如权利要求24所述的显示装置，其特征在于，该钝化层材料为氮化硅和氧化 硅。
26. 如权利要求25所述的显示装置，其特征在于，该显示装置进一步包括一触摸 屏控制器、 一显示设备控制器及一中央处理器，其中，触摸屏控制器与触摸 屏相连接、显示设备控制器与显示设备相连接，该触摸屏控制器与该触摸屏 相连接，该显示设备控制器与该显示设备相连接。
全文摘要
本发明涉及一种触摸屏，该触摸屏包括一基体；一透明导电层，该透明导电层设置于上述基体的一表面；以及至少两个电极，该至少两个电极间隔设置并与该透明导电层电连接。其中，所述的电极包括一碳纳米管层。进一步地，本发明还涉及一种显示装置，其包括一显示设备及一触摸屏。
文档编号G06F3/044GK101458594SQ20071012510
公开日2009年6月17日 申请日期2007年12月12日 优先权日2007年12月12日
发明者亮 刘, 姜开利, 范守善 申请人:清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司