专利名称：一种电容式触摸屏的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种触摸屏，特别是涉及一种电容式触摸屏。
背景技术：
随着电子技术的发展和信息科技的进步，将两者完美结合形成触摸屏技术。根据实现原理触摸屏技术可以分成很多种。最普遍采用的有电阻式触摸屏和电容式触摸屏，其中电容式触摸屏是近年发展起来的新技术。电阻式触摸屏以其制造简单，低成本，容易实现，使其成为早期的触摸屏最广为采用的技术，各领域都有大量的产品应用。但是随着电阻式触摸屏的大量使用，诸如表面不耐磨损、透光率差、不能实现精准定位、随着时间延续定位精度变差、不能实现复杂的触摸功能、使用寿命短等缺陷逐渐突出出来。电容式触摸屏完全克服了电阻式触摸屏的不足，可以实现各种复杂的触摸功能。电容式触摸屏以其结构和检测触摸点的方式可分类为自电容式和互电容式触摸屏。现有的电容式触摸屏有多种结构形式，每种形式的电容式触摸屏都存在以下基本结构两层电极的电容式触摸屏的结构通常由两层内表面覆有ITO导电镀膜的玻璃基板构成电容的两个电极，在两个电极极板间组合有绝缘材料的隔离层。隔离层的上表面涂布OCA光学固化胶，上表面与上层电极基板下表面对位，真空覆膜粘合，然后在隔离层的下表面涂布OCA光学固化胶，与下电极基板的上表面对位，真空覆膜粘合。在上层电极基板的外表面上叠加一层保护层。保护层的下表面涂布OCA光学固化胶，然后和上层电极基板的上表面间对位，真空覆膜粘合。在对位粘合后组成的电容式触摸屏的保护层的上表面附着一层AR减反射薄膜， 形成电容式触摸屏。AR减反射薄膜也可以在上层电极基板与隔离层对位附着前先附着在上层电极基板的外表面上。上述方法制造的电容式触摸屏，制作程序繁琐、结构复杂，两层ITO导电膜加上中间隔离层材料会使屏板的透光性有较大损失；制造成本较高；而且制造中需要多次对位、 真空覆膜操作，对生产过程的良品率有很大的影响。另外上述方法制造的电容式触摸屏，厚度尺寸较大，难以适于对便携高要求的电子产品的需求。
发明内容
本发明为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种制造工艺简单、生产成本低的电容式触摸屏。本发明为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是一种电容式触摸屏，包括基板组件和盖板组件；所述基板组件包括基板，所述基板的上下表面均镀有SiA膜，两个所述SiA膜上均形成有条状钼铝钼丝网电极组，两个条状钼铝钼丝网电极组互相垂直，每个条状钼铝钼丝网电极组上均覆盖有钝化膜，
所述盖板组件包括盖板，所述盖板的上表面上镀有防护膜，所述盖板的下表面上镀有AR减反射膜，所述AR减反射膜的四周设有油墨视窗窗口 ；所述盖板组件的下面和所述基板组件的上面粘接。位于上部的所述条状钼铝钼丝网电极为若干个形状相同的X行钼铝钼丝网电极， 所述χ行钼铝钼丝网电极的网孔为正方形，对角线与X轴线平行；位于下部的所述条状钼铝钼丝网电极为若干个形状相同的Y列钼铝钼丝网电极， 所述Y列钼铝钼丝网电极的网孔为正方形，网孔的对角线与Y轴线平行。所述条状钼铝钼丝网电极的厚度为300纳米，形成所述条状钼铝钼丝网电极的金属膜的表面电阻为0.3Ω / 口。所述X行钼铝钼丝网电极的钼铝钼丝线的间距为200-350微米，钼铝钼丝线的线宽为8-12微米；所述Y列钼铝钼丝网电极的钼铝钼丝线的间距为200-350微米，钼铝钼丝线的线宽为8-12微米。所述SiA膜的厚度为30纳米。所述基板为厚度是0. l-3mm的化学强化玻璃板。所述盖板为厚度是0. 4-2mm的PMMA板、厚度是0. 4_2mm的PC板、厚度是0. 4_2mm 的PC/PMMA复合板和厚度是0. 4-2mm的化学强化玻璃板中的任意一种。本发明具有的优点和积极效果是采用一层化学强化玻璃，在化学强化玻璃的两面采用低成本的金属材料做电容极板电极，并克服了金属不透光的问题；触摸屏的整个制造过程无需真空覆膜对位，极大地简化了制造工艺；制造中没有采用价格高昂的稀土材料， 使制造成本、生产效率和产品优良率都大为提升。并且本发明结构简单，厚度可以做得很薄，适于广泛作为手持电子产品的信息输入设备。
图1为本发明的侧视图；图2为本发明X行钼铝钼丝网电极的结构示意图；图3为本发明Y列钼铝钼丝网电极的结构示意图；图4为本发明AR减反射膜上油墨视窗的结构示意图。图中1、基板，2、盖板，3、SiO2膜，4、Y列金属丝网电极，5、下钝化膜，6、SiO2膜，7、 X行金属丝网电极，8、上钝化膜，9、下电极柔性排线，10、上电极柔性排线，11、防护膜，12、导电胶，13、导电胶，14、油墨视窗窗口，15、AR减反射膜，16、不干胶。
具体实施例方式为能进一步了解本发明的发明内容、特点及功效，兹例举以下实施例，并配合附图详细说明如下请参阅图1 图4，一种电容式触摸屏包括基板组件和盖板组件。基板组件包括基板1，基板1的上下表面均镀有SiO2膜6、3，一个SW2膜上形成有条状χ行金属丝网电极组，另一个SiA膜上形成有条状γ列金属丝网电极组，χ行金属丝网电极组和Y列金属丝网电极组上均连接有导线，在条状X行金属丝网电极组上和条状Y列金属丝网电极组上覆盖有钝化膜。
基板组件的制作在经过清洁处理的厚度为0. l-3mm的化学强化玻璃基板1的上、下表面分别采用真空镀形成SW2非金属材料膜6、3，SiO2薄膜6、3的厚度均为30纳米；在SiA膜6、3上采用真空镀形成钼铝钼金属材料膜，膜厚均为300纳米，膜厚偏差和均勻性控制在士5%;上述两层金属膜的表面电阻均小于0.3 Ω / 口。如果表面电阻没有达到，需要调整制作参数，直至满足表面电阻要求。在上述任意一钼铝钼膜上，刻蚀形成若干个形状相同的X行金属丝网电极，在另一钼铝钼膜上刻蚀形成若干个形状相同的Y列金属丝网电极。在本实施例中，刻蚀位于上部的钼铝钼膜，形成X行金属丝网电极7，X行金属丝网电极7为条形网状，网孔为正方形， 网孔的对角线与X轴线平行，金属丝线的间距为200-350微米，金属丝线的线宽为8-12微米。刻蚀位于下部的钼铝钼膜，形成若干个形状相同的Y列金属丝网电极4，Y列金属丝网电极为条形网状，网孔为正方形，网孔的对角线与Y轴线平行，金属丝线的间距为200-350 微米，金属丝线的线宽为8-12微米。上述网孔对角线与轴线的平行度误差不超过士0. 05mm，每两条金属丝线的间距误差不超过士0. 02mm，每条金属线的线宽误差不超过士0. 02mm。两层金属丝网电极制作完成后的基板中间组件的光学透过率应控制在不低于91 %。在Y列金属丝网电极上留出粘合下电极柔性排线9的面积，其余部分面积采用旋转覆膜方法，覆制一层50纳米厚度的钝化薄膜，然后UV固化，形成下钝化膜5 ；在X行金属丝网电极上留出粘合上电极柔性排线10的面积，其余金属膜面上采用旋转覆膜方法，覆制一层2000纳米，即2. 0微米厚度的钝化薄膜，然后进行UV固化，形成上钝化膜8。在裸露的Y列金属丝网电极上涂布导电胶13，将下电极柔性排线9粘合在其上面； 在裸露的X行金属丝网电极层上涂布导电胶12，将上电极柔性排线10粘合在其上面。下电极柔性排线9和上电极柔性排线10与触摸检测IC模块连接。盖板组件包括盖板2，盖板2的上表面上镀有防护膜11，盖板2的下表面上镀有AR 减反射膜15，AR减反射膜15的四周设有油墨视窗窗口 14。盖板组件的下面和基板组件的上面采用不干胶16粘接。盖板组件的制作盖板2在选材上根据产品不同可以采取四种方案0.4-2mm厚的PMMA材料； 0. 4-2mm厚的PC材料；0. 4_2mm厚的PC/PMMA复合材料；0. 4_2mm厚的化学强化玻璃材料。 四种方案的制作方法步骤相同。以0. 4-2mm厚的化学强化玻璃材料为例进行阐述在盖板2的下表面上真空镀膜一层AR减反射薄膜15。膜系采用Ti02/Si&多层组合，使光学透过率在94%以上。在AR减反射膜15上印刷油墨视窗窗口 14。在盖板2的上表面上真空镀膜一层防油污、防指纹的防护膜11，膜层水滴接触角大于110°。在油墨视窗14的四周均勻涂布一层不干胶，将盖板组件的下面与基板组件的上面对位粘合。盖板与基板通过粘合合为一体，形成电容式触摸屏板组件。组件光学透过率不小于85%。
在下电极柔性排线9和上电极柔性排线10上用导电胶粘合触摸检测IC模块，触摸检测IC模块通过互电容式触摸屏触点检测方法确定触点的坐标。尽管上面结合附图对本发明的优选实施例进行了描述，但是本发明并不局限于上述的具体实施方式
，上述的具体实施方式
仅仅是示意性的，并不是限制性的，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可以作出很多形式，这些均属于本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种电容式触摸屏，其特征在于，包括基板组件和盖板组件；所述基板组件包括基板，所述基板的上下表面均镀有SiA膜，两个所述SiA膜上均形成有条状钼铝钼丝网电极组，两个条状钼铝钼丝网电极组互相垂直，每个条状钼铝钼丝网电极组上均覆盖有钝化膜，所述盖板组件包括盖板，所述盖板的上表面上镀有防护膜，所述盖板的下表面上镀有 AR减反射膜，所述AR减反射膜的四周设有油墨视窗窗口 ；所述盖板组件的下面和所述基板组件的上面粘接。
2.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，位于上部的所述条状钼铝钼丝网电极为若干个形状相同的X行钼铝钼丝网电极，所述X行钼铝钼丝网电极的网孔为正方形，对角线与X轴线平行；位于下部的所述条状钼铝钼丝网电极为若干个形状相同的Y列钼铝钼丝网电极，所述 Y列钼铝钼丝网电极的网孔为正方形，网孔的对角线与Y轴线平行。
3.根据权利要求2所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述条状钼铝钼丝网电极的厚度为300纳米，形成所述条状钼铝钼丝网电极的金属膜的表面电阻为0. 3Ω / 口。
4.根据权利要求2所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述X行钼铝钼丝网电极的钼铝钼丝线的间距为200-350微米，钼铝钼丝线的线宽为8-12微米；所述Y列钼铝钼丝网电极的钼铝钼丝线的间距为200-350微米，钼铝钼丝线的线宽为8-12微米。
5.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述SiO2膜的厚度为30纳米。
6.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述基板为厚度是0.l-3mm的化学强化玻璃板。
7.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述盖板为厚度是0.4-2mm的 PMMA板、厚度是0. 4-2mm的PC板、厚度是0. 4_2mm的PC/PMMA复合板和厚度是0. 4_2mm的化学强化玻璃板中的任意一种。
全文摘要
本发明公开了一种电容式触摸屏，包括基板组件和盖板组件；所述基板组件包括基板，所述基板的上下表面均镀有SiO2膜，两个所述SiO2膜上均形成有条状钼铝钼丝网电极组，两个条状钼铝钼丝网电极组互相垂直，每个条状钼铝钼丝网电极组上均覆盖有钝化膜；所述盖板组件包括盖板，所述盖板的上表面上镀有防护膜，所述盖板的下表面上镀有AR减反射膜，所述AR减反射膜的四周设有油墨视窗窗口；所述盖板组件的下面和所述基板组件的上面粘接。本发明制造工艺简单、生产成本低。
文档编号G06F3/044GK102402359SQ201110444549
公开日2012年4月4日 申请日期2011年12月27日 优先权日2011年12月27日
发明者吴克坚, 沈励, 许沐华, 迟晓晖, 陈奇 申请人:天津美泰真空技术有限公司