专利名称：电容式触摸屏及其制作方法
技术领域：
本发明涉及触摸屏制造技术领域，尤其涉及电容式触摸屏及其制作方法。
背景技术：
触摸屏是一种简单、方便、自然 的人机交互设备，早已被广泛应用在各种场所。触摸屏种类繁多，按照原理主要分为电阻式、电容式、红外式和表面声波式。电容式触摸屏因其突出的优点，如可进行多指触控、分辨率高、透光性好，所以得到广泛地应用。电容式触摸屏是利用透明基板上的电极与人体之间的静电结合所产生的电容变化所产生的诱导电流来检测其被触摸位置的坐标。感应原理以电压作用在屏幕感应区的四个角落并形成一个固定电场，当手指碰屏幕时，可使电场引发电流，借助控制器测定，依电流四个角落比例的不同，即可计算出触摸位置。现有的电容式触摸屏的制作方法中，不论是单层透明电极触摸屏还是双层透明电极触摸屏，均需制作两层有机透明绝缘层(0C)。这样，两层有机透明绝缘层(OC)均需采用黄光制程，制程繁琐且成本较高。
发明内容
有鉴于此，本发明提供了一种电容式触摸屏及其制作方法，以克服上述技术问题。为了达到上述目的，本发明的技术方案是一种电容式触摸屏的制作方法，包括提供透明基板；在所述透明基板之上制作金属走线；在所述金属走线之上制作有机透明绝缘层，所述有机透明绝缘层覆盖第一金属走线段，其中，所述第一金属走线段是所述金属走线的一部分；在所述有机透明绝缘层之上制作第一透明电极层，所述第一透明电极层与第二金属走线段桥接，其中所述第二金属走线段未被所述有机透明绝缘层覆盖，且是所述金属走线的一部分。较优地，所述在所述有机透明绝缘层之上制作第一透明电极层之后，还包括在所述第一透明电极层上制作透明保护层。较优地，所述透明保护层由二氧化硅、二氧化钛或二氧化锌制成。本发明还提供了另外一种电容式触摸屏的制作方法包括提供透明基板；在所述透明基板上制作第一透明电极层，所述第一透明电极层覆盖第一部分所述透明基板；在未被所述第一透明电极层覆盖的第二部分所述透明基板上制作金属走线；在所述第一透明电极层和所述金属走线之上制作有机透明绝缘层，所述有机透明绝缘层覆盖全部所述金属走线，所述有机透明绝缘层覆盖第一部分所述第一透明电极层；
在所述有机透明绝缘层之上制作第二透明电极层，所述第二透明电极层与第二部分所述第一透明电极层桥接，其中所述第二部分所述第一透明电极层未被所述有机透明绝
缘层覆盖。较优地，所述在所述有机透明绝缘层之上制作第二透明电极层之后，还包括在所述第二透明电极层上制作透明保护层。 较优地，所述透明保护层由二氧化硅、二氧化钛或二氧化锌制成。本发明还提供了一种电容式触摸屏，包括透明基板、形成于所述透明基板之上的金属走线、形成于所述金属走线之上的有机透明绝缘层、形成于所述有机透明绝缘层和所述透明基板之上的第一透明电极层；其中，所述金属走线由第一金属走线段和第二金属走线段构成，且所述第一金属走线段被所述有机透明绝缘层覆盖，所述第二金属走线段未被所述有机透明绝缘层覆盖，所述第一透明电极层与所述第二金属走线段桥接。 较优地，所述电容式触摸屏还包括形成于所述第一透明电极层之上的透明保护层。较优地，所述透明保护层由二氧化硅、二氧化钛或二氧化锌制成。本发明还提供了另一种电容式触摸屏，包括透明基板、形成于所述透明基板之上的第一透明电极层、形成于未被所述第一透明电极层覆盖的第二部分所述透明基板之上的金属走线、形成于所述第一透明电极层和所述金属走线之上的有机透明绝缘层以及形成于所述有机透明绝缘层之上的第二透明电极层；其中，所述有机透明绝缘层完全覆盖所述金属走线，所述有机透明绝缘层覆盖第一部分所述第一透明电极层，所述第二透明电极层与未被所述有机透明绝缘层覆盖的第二部分所述第一透明电极层桥接。较优地，所述电容式触摸屏还包括形成于所述第二透明电极层之上的透明保护层。较优地，所述透明保护层由二氧化硅、二氧化钛或二氧化锌制成。相较于现有技术，本发明提供的制作电容式触摸屏的方法将制作金属走线制程提到制作有机透明绝缘层制程的前面。该制作方法节省了一道有机透明绝缘层的黄光制程、简化了制作工艺、节约了成本。此外，该制作方法采用厚度较厚的有机透明绝缘层来保护金属走线，在一定程度上加强了对金属走线的保护，提升了触摸屏功能方面的保障。
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。图I是本发明实施例一的电容式触摸屏的制作方法流程图；图2是本发明实施例二的电容式触摸屏的制作方法流程图；图3是本发明实施例三的电容式触摸屏的制作方法流程图；图4是本发明实施例四的电容式触摸屏结构示意图；图5是本发明实施例五的电容式触摸屏的结构示意图；图6是本发明实施例六的电容式触摸屏的结构示意图。
具体实施例方式为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式
做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采用其它不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。在描述过程中使用的术语“第一”、“第二”等术语用来将一个元件和另一个元件区分开，而所述元件并不受到上述术语的定义。实施例一请参阅图I。图I为本发明提供的含有一层透明电极层的电容式触摸屏制作方法的实施例一的方法流程图。 S101、提供透明基板提供一透明基板。对透明基板的材料不加限制，可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚砜(PES)、环烯烃聚合物(C0C)、玻璃或钢化玻璃等等。S102、在所述透明基板上制作金属走线采用黄光制程在所述透明基板上制作金属走线。该黄光制程的步骤具体包括涂胶、预烘、曝光、显影、坚膜、酸刻蚀、脱模。所制作的金属走线的厚度通常为3000A左右，所采用的金属一般与透明基板的结合力较大，可以为钥(Mo)或铝(Al)。该金属走线可以采用多层结构、例如，Mo为500A、A1为2000 2500A、Mo为500A。S103、在所述金属走线上制作有机透明绝缘层采用黄光制程在上述形成的金属走线上制作有机透明绝缘层。该有机透明绝缘层仅覆盖第一金属走线段，该第一金属走线段是金属走线的一部分。该黄光制程的步骤具体包括涂胶、预烘、曝光、显影、坚膜、酸刻蚀、脱模。该有机透明绝缘层覆盖第一金属走线段，将步骤S102中制作的金属走线和S104步骤中制作的第一透明电极层绝缘隔开。该有机透明绝缘层的厚度通常为1.3μπι左右。而步骤S102制作的金属走线的厚度一般为3000 A左右，所以用厚度为I. 3μπι左右的有机透明绝缘层保护厚度为3000人左右的金属走线，能够对金属走线实现很好地保护。即使只采用这一层有机透明绝缘层来保护金属走线就能达到良好的效果。S104、在所述有机透明绝缘层和所述透明基板上制作第一透明电极层采用黄光制程在所述有机透明绝缘层和所述透明基板上制作第一透明电极层。该第一透明电极层与未被有机透明绝缘层覆盖的第二金属走线段通过搭桥的方式实现桥接，该第二金属走线段是金属走线的一部分且未被有机透明绝缘层覆盖。该第一透明电极层优选为ITO电极层。该第一透明电极层上具有预定的电极图案。该电极图案可以为倒三角形、菱形或六边形等等。当使用者利用一触控物件(如手指或其它导电物体)触碰时，金属走线和第一透明电极层会产生电容耦合，将对应的轴向X、Y的位置通过送出一个电位变化的触控信号给控制器(附图未示出)，触控位置由此检测出，达到触控的效果。
本实施例将制作金属走线制程放在制作有机透明绝缘层之前。这样仅需一层有机透明绝缘层就能将金属走线和透明电极层实现绝缘隔开，同时，该有机透明绝缘层起到对金属走线的保护作用，使其不受腐蚀或氧化。相较于现有传统技术，本发明实施例提供的电容式触摸屏制作方法节省了一层有机透明绝缘层，进而减少了一道黄光制程。进而使得电容式触摸屏的制作流程变得简化，降低了成本。 实施例一示例出本发明提供的只含有一层透明电极层的电容式触摸屏的制作方法。此外，本发明还提供了含有两层透明电极层的电容式触摸屏的制作方法。请参阅实施例二和图2。实施例二实施例二和图2示例了含有两层透明电极层的电容式触摸屏的制作方法。S201、提供透明基板
提供一透明基板。对透明基板的材料不加限制，可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚砜(PES)、环烯烃聚合物(C0C)、玻璃或钢化玻璃等等。S202、在所述透明基板上制作第一透明电极层采用黄光制程在所提供的透明基板上制作第一透明电极层。该黄光制程的步骤具体包括涂胶、预烘、曝光、显影、坚膜、酸刻蚀、脱模。该第二透明电极层优选为ITO电极层。该第一透明电极层上具有预定的第一电极图案。该第一电极图案可以为倒三角形、菱形或TK边形等等。S203、在所述透明基板上制作金属走线采用黄光制程在所提供的未被第一透明电极层覆盖的部分透明基板上制作金属走线。所制作的金属走线的厚度通常为3000A,所采用的金属一般与透明基板的结合力较大，可以为钥(Mo)或铝(Al)。该金属走线可以采用多层结构、例如，Mo为500A、A1为2000-2500A、Mo 为500A 。S204、在所述金属走线上制作有机透明绝缘层采用黄光制程在所述金属走线上制作有机透明绝缘层。该黄光制程的步骤具体包括涂胶、预烘、曝光、显影、坚膜、酸刻蚀、脱模。该有机透明绝缘层的厚度通常为1.3μπι。该有机透明绝缘层完全覆盖所述金属走线，且仅覆盖第一部分第一透明电极层。S205、在所述有机透明绝缘层和所述透明基板上制作第二透明电极层采用黄光制程在所述有机透明绝缘层和所述透明基板上制作第二透明电极层。该第二透明电极层与部分未被所述有机透明绝缘层覆盖的第二部分第一透明电极层部分桥接。当使用者利用一触控物件(如手指或其它导电物体)触碰时，第一透明电极层和第二透明电极层会产生电容耦合，将对应的轴向X、Y的位置通过送出一个电位变化的触控信号给控制器(附图未示出)，触控位置由此检测出，达到触控的效果。本实施例将制作金属走线制程放在制作有机透明绝缘层之前。这样仅需一层有机透明绝缘层就能将金属走线和第二透明电极实现绝缘隔开，同时，该有机透明绝缘层起到对金属走线的保护作用，使其不受腐蚀或氧化。相较于现有传统技术，本发明实施例提供的电容式触摸屏制作方法节省了一层有机透明绝缘层，进而减少了一道黄光制程。进而使得电容式触摸屏的制作流程变得简化，降低了成本。实施例一示例的含有一层透明电极层的制作方法和实施例二示例的含有两层透明电极层的制作方法中均仅采用一层有机透明绝缘层来保护金属走线不被腐蚀或氧化。为了更安全起见，实施例一在制作第一透明电极层之后或实施例二在制作第二透明电极层之后，还可以采用磁控溅射的方法在实施例一中的第一透明电极层之上或在实施例二的第二透明电极层之上制作透明保护层，对金属走线采用双层保护，增强电容式触摸屏功能方面的保障。详细参见实施例三和附图3。实施例三实施例三是在实施例二的基础上进行了改进，在制作完第二透明电极层之后又制作了透明保护层。当然也可以在实施例一的基础上进行改进，同样在制作完第一透明电极层之后制作透明保护层。步骤S301 步骤S305与上述实施例二中的步骤S201 步骤S205相同，为简化起见，在此不再赘述，相应步骤请参阅上述实施例二中的步骤S201 步骤S205。S306、在所述第二透明电极层上制作保护层采用磁控溅射方法在所述第二透明电极层上制作透明保护层。该透明保护层的厚度一般为500A。该透明保护层的目的是进一步防止金属走线被氧化和腐蚀。优选情况下，该透明保护层由具有低反应性的材料制成。该透明保护层可以采用具有高介电常数的材·料，这能提高触摸屏受到触碰时的传感灵敏度。透明保护层可以由二氧化硅、二氧化钛或二氧化锌制成。实施例四基于上述电容式触摸屏制作方法的实施例一，本发明还提供了一种电容式触摸屏。详细参见图4。图4示例出本发明实施例四中提供的一种含有一层透明电极层的电容式触摸屏的结构示意图。。该电容式触摸屏包括一透明基板401、形成于该透明基板之上的金属走线402、形成于该金属走线402之上的有机透明绝缘层403、形成于该有机透明绝缘层403和该透明基板401之上的第一透明电极层404。其中，该有机透明绝缘层403覆盖第一金属走线段402，该第一金属走线段402是金属走线的一部分。本实施例对透明基板401的材料不加限制，可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚砜(PES)、环烯烃聚合物(C0C)、玻璃或钢化玻璃等等。本实施例采用黄光制程方法制作金属走线402，该黄光制程的步骤具体包括涂胶、预烘、曝光、显影、坚膜、酸刻蚀、脱模。所制作的金属走线402的厚度一般为3000A,所采用的金属一般与透明基板401的结合力较大，可以为钥(Mo)或铝(Al)。该金属走线402可以采用多层结构、例如，Mo为500A、A1为2000、.2500A、Mo为500A。本实施例中的有机透明绝缘层403采用黄光制程制作在已形成的金属走线402之上。该黄光制程的步骤具体包括涂胶、预烘、曝光、显影、坚膜、酸刻蚀、脱模。该有机透明绝缘层403覆盖第一金属走线段402，将制作的金属走线402和后续步骤中制作的第一透明电极层404绝缘隔开。该有机透明绝缘层403的厚度通常为1.3μπι左右。而制作的金属走线402的厚度一般为3000 A左右，所以用厚度为I. 3 μ m左右的有机透明绝缘层403保护厚度为3000 A左右的金属走线402，能够对金属走线402实现很好地保护。即使只采用这一层有机透明绝缘层403来保护金属走线402就能达到良好的效果。本实施例中采用黄光制程在所述有机透明绝缘层403和所述透明基板401之上制作第一透明电极层404。该第一透明电极层优选为ITO电极层。该第一透明电极层404上具有预定的第一电极图案。该电极图案可以为倒三角形、菱形或六边形等等。该第一透明电极层与第二金属走线段桥接，其中，该第二金属走线段是未被所述有机透明绝缘层覆盖的金属走线部分。当使用者利用一触控物件(如手指或其它导电物体)触碰时，金属走线402和第一透明电极层404会产生电容耦合，将对应的轴向X、Y的位置通过送出一个电位变化的触控信号给控制器(附图未示出)，触控位置由此检测出，达到触控的效果。本实施例中示例的电容式触摸屏的结构向较于现有传统技术，通过将金属走线制程放在有机透明绝缘层制程的前面，仅采用了一层有机透明绝缘层。相较于现有传统技术采用两层有机透明绝缘层，减少了一道黄光制程，简化了制作电容式触摸屏的工艺，进而降·低了生产成本。实施例五基于上述含有两层透明电极层的电容式触摸屏制作方法的实施例二，本发明还提供了一种电容式触摸屏，详细参见图5。图5示例出本发明提供的一种含有两层透明电极层的电容式触摸屏的结构示意图。该电容式触摸屏包括一透明基板501、形成于该透明基板之上的第一透明电极层502、形成于未被该第一透明电极层覆盖的透明基板之上的金属走线503、形成于该第一透明电极层和该金属走线之上的有机透明绝缘层504、以及形成于该有机透明绝缘层和该透明基板之上的第二透明电极层505。其中，该有机透明绝缘层504完全覆盖该金属走线，且覆盖第一透明电极层502的一部分。第二透明电极层505与未被有机透明绝缘层504覆盖的第一透明电极层部分通过搭桥的方式桥接在一起。本实施例中的电容式触摸屏所采用的材料和制作工艺方法与上述实施例四中含有一层透明电极层的电容式触摸屏所采用的材料和制作工艺方法相同。为了简要起见，不再描述，详细描述请参阅上述实施例四。本实施例中的电容式触摸屏，当使用者利用一触控物件(如手指或其它导电物体)触碰时，第一透明电极层502和第二透明电极层505会产生电容耦合，将对应的轴向X、Y的位置通过送出一个电位变化的触控信号给控制器(附图未示出)，触控位置由此检测出，达到触控的效果。本实施例中示例的电容式触摸屏的结构向较于现有传统技术，通过将金属走线制程放在有机透明绝缘层制程的前面，仅采用了一层有机透明绝缘层。相较于现有传统技术采用两层有机透明绝缘层，减少了一道黄光制程，简化了制作电容式触摸屏的工艺，进而降低了生产成本。实施例四不例的含有一层透明电极层的电容式触摸屏和实施例五不例的含有两层透明电极层的电容式触摸屏中，均仅采用一层有机透明绝缘层来保护金属走线以防被腐蚀和氧化。为了更安全起见，实施例四示例的电容式触摸屏还可以包括形成于第一透明电极层之上的透明保护层，实施例五示例的电容式触摸屏还可以包括形成于第二透明电极层之上的透明保护层。这样，通过一层有机透明绝缘层和一层透明保护层实现对金属走线的双层保护，从而增强了电容式触摸屏功能方面的保障。实施例六请参阅图6。图6示例出含有两层透明电极层的电容式触摸屏还包括形成于第二透明电极层之上的透明保护层。当然，含有一层透明电极层的电容式触摸屏也可以还包括形成于第一透明电极层之上的透明保护层。图6示例的电容式触摸屏包括一透明基板601、形成于该透明基板之上的第一透明电极层602、形成于该未被第一透明电极层602覆盖的透明基板601部分之上的金属走线603、形成于该第一透明电极层602和该金属走线603之上的有机透明绝缘层604、形成于该 有机透明绝缘层604和该透明基板601之上的第二透明电极层605以及形成于第二透明电极层605之上的透明保护层606。其中，该有机透明绝缘层604完全覆盖该金属走线603，且覆盖部分第一透明电极层602。第二透明电极层605与未被有机透明绝缘层604覆盖的第一透明电极层602通过搭桥的方式桥接在一起。该触摸屏中的透明基板601、第一透明电极层602、金属走线603、有机透明绝缘层604以及第二透明电极层605的结构及其制作方法与实施例五中的相同，为了简要起见，不再详细描述，详细描述可参见实施例五。该透明保护层606采用磁控溅射方法制作在第二透明电极层605上。该透明保护层的厚度一般为500A。该透明保护层606的目的是进一步防止金属走线被氧化和腐蚀。优选情况下，该透明保护层606由具有低反应性的材料制程。该透明保护层可以采用具有高介电常数的材料，这能提高触摸屏受到触碰时的传感灵敏度。本实施例中采用一层厚度大约为I. 3μπι的有机透明绝缘层和一层厚度大约为500Α的透明保护层来保护厚度为3000Α的金属走线。很大程度上强化了对金属走线的保护，进一步提升了电容式触摸屏功能方面的保障。以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制。虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非以限定本发明。任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质上对以上实施例所做的任何简单修改，等同变化及修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
权利要求
1.一种电容式触摸屏的制作方法，其特征在于，包括 提供透明基板； 在所述透明基板之上制作金属走线； 在所述金属走线之上制作有机透明绝缘层，所述有机透明绝缘层覆盖第一金属走线段，其中，所述第一金属走线段是所述金属走线的一部分； 在所述有机透明绝缘层之上制作第一透明电极层，所述第一透明电极层与第二金属走线段桥接，其中所述第二金属走线段是所述金属走线的一部分且未被所述有机透明绝缘层覆盖。
2.根据权利要求I所述的制作方法，其特征在于，所述在所述有机透明绝缘层之上制作第一透明电极层之后，还包括在所述第一透明电极层上制作透明保护层。
3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述透明保护层由二氧化硅、二氧化钛或二氧化锌制成。
4.一种电容式触摸屏的制作方法，其特征在于，包括 提供透明基板； 在所述透明基板上制作第一透明电极层，所述第一透明电极层覆盖第一部分所述透明基板； 在未被所述第一透明电极层覆盖的第二部分所述透明基板上制作金属走线； 在所述第一透明电极层和所述金属走线之上制作有机透明绝缘层，所述有机透明绝缘层覆盖全部所述金属走线，所述有机透明绝缘层覆盖第一部分所述第一透明电极层； 在所述有机透明绝缘层之上制作第二透明电极层，所述第二透明电极层与第二部分所述第一透明电极层桥接，其中，所述第二部分所述第一透明电极层未被所述有机透明绝缘层覆盖。
5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述在所述有机透明绝缘层之上制作第二透明电极层之后，还包括在所述第二透明电极层上制作透明保护层。
6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述透明保护层由二氧化硅、二氧化钛或二氧化锌制成。
7.一种电容式触摸屏，其特征在于，包括透明基板、形成于所述透明基板之上的金属走线、形成于所述金属走线之上的有机透明绝缘层、形成于所述有机透明绝缘层和所述透明基板之上的第一透明电极层；其中，所述金属走线由第一金属走线段和第二金属走线段构成，且所述第一金属走线段被所述有机透明绝缘层覆盖，所述第二金属走线段未被所述有机透明绝缘层覆盖，所述第一透明电极层与所述第二金属走线段桥接。
8.根据权利要求7所述的触摸屏，其特征在于，还包括形成于所述第一透明电极层之上的透明保护层。
9.根据权利要求8所述的触摸屏，其特征在于，所述透明保护层由二氧化硅、二氧化钛或二氧化锌制成。
10.一种电容式触摸屏，其特征在于，包括透明基板、形成于所述透明基板之上的第一透明电极层、形成于未被所述第一透明电极层覆盖的第二部分所述透明基板之上的金属走线、形成于所述第一透明电极层和所述金属走线之上的有机透明绝缘层以及形成于所述有机透明绝缘层之上的第二透明电极层；其中，所述有机透明绝缘层完全覆盖所述金属走线，所述有机透明绝缘层覆盖第一部分所述第一透明电极层，所述第二透明电极层与未被所述有机透明绝缘层覆盖的第二部分所述第一透明电极层桥接。
11.根据权利要求10所述的触摸屏，其特征在于，还包括形成于所述第二透明电极层之上的透明保护层。
12.根据权利要求11所述的触摸屏，其特征在于，所述透明保护层由二氧化硅、二氧化钛或二氧化锌制成。
全文摘要
本发明提供了一种电容式触摸屏及其制作方法，该制作方法包括提供透明基板；在所述透明基板之上制作金属走线；在所述金属走线之上制作有机透明绝缘层；在所述有机透明绝缘层之上制作第一透明电极层，所述第一透明电极层与第二部分所述金属走线段桥接。本发明提供的制作电容式触摸屏的方法将制作金属走线制程提到制作有机透明绝缘层制程的前面。该制作方法节省了一道有机透明绝缘层的黄光制程，简化了制作工艺、节约了成本。此外，该制作方法采用厚度较厚的有机透明绝缘层来保护金属走线，在一定程度上加强了对金属走线的保护，提升了触摸屏功能方面的保障。
文档编号G06F3/044GK102902446SQ201210422498
公开日2013年1月30日 申请日期2012年10月26日 优先权日2012年10月26日
发明者周伟杰, 吕以森, 曹绪文, 肖枫, 张锦炀, 李建华 申请人:信利光电(汕尾)有限公司