一种OGS触摸屏黑色边框的制作方法与流程

本发明涉及触摸屏领域，具体涉及一种OGS触摸屏黑色边框的制作方法。

背景技术：
电容式触摸屏是继电阻式触摸屏之后新一代触摸屏产品，其在性能上比上一代的产品有了质的飞跃，不仅表现在反应灵敏，支持多点触控，而且寿命长。而新一代的OGS产品是电容式触摸屏的新的发展方向，从技术层面来看，OGS技术较之目前主流的G/G触控技术结构简单，轻、薄、透光性好；由于省掉一片玻璃基材以及贴合工序，利于降低生产成本、提高产品良率。目前，常见的OGS触摸屏模组制作方法如图1所示，在钢化玻璃基板11上涂布黑色感光材料（BM）12，之后再在其上面覆盖有机流平层（OC）17,以便后续制备ITO导电膜，然后制作ITO电极层13并且图形化，将FPC14（带有触控IC15）通过热压连接到ITO图案电极层的引脚之上，最后在sensor功能区贴附一层防爆膜16起保护作用。这种方法的最大缺点是:(1)由于材料的自身原因，BM膜必须较厚（一般情况下厚度为2μm）才能达到遮光区的黑度要求，较厚的BM膜将给后续工艺产生苛刻的要求，增大了后续工艺实施的难度；(2)BM材料不能耐高温，由于随后的工艺流程需要在其表面覆盖OC层，温度大于250℃即会发生碳化现象，这将给后续的ITO镀膜造成极大困难，同时形成游离的电极，会干扰正常触摸的电容信号。

技术实现要素：
本发明的目的主要针对现有的黑框BM材料厚度较厚、而且不能耐高温的技术问题，提出一种改进的基于薄膜方法技术路线的可以提高产品质量和外观、降低OGS触摸屏产品不良率，提高生产效率的OGS触摸屏黑色边框的制作方法。为解决上述技术问题，本发明提供的技术方案是:一种OGS触摸屏黑色边框的制作方法，其特征在于，采用光刻技术实现黑色绝缘薄膜图形化，从而形成黑色边框的工艺方案，具体包括以下步骤：（1）清洗，将盖板玻璃插到钛合金制作的碱液槽里进行超声波碱液预清洗，清洗时间：15～20分钟，碱液浓度：1.0～1.5mol/L，碱液槽温度：35±5℃，碱液槽超声频率：60%～90%，清洗完之后将其投入到清水槽进行超声清洗，温度及超声频率同上；然后将盖板玻璃投入到自动清洗线进行清洗，彻底去除油污和灰尘；自动清洗线包括隔离、纯水刷洗、液切、纯水喷淋、末端滴水、风刀吹干，各部分参数如下：清洗线的传送速度：200±50cm/min，清洗温度：35±5℃，纯水刷洗和纯水喷淋压力：上：0.6±0.1kg/cm2，下：0.4±0.1kg/cm2，液切压力：上：1.0±0.5KPa，下：0.5±0.3KPa，末端滴水的水流量：8～10L/min，吹干压力：上：2.0±0.5KPa，下：1.0±0.5KPa；（2）溅射黑色绝缘薄膜，将清洗好的盖板玻璃放入真空磁控溅射自动生产线，通过机械泵和分子泵抽气，控制真空真空度在10-4~10-3Pa范围，通入反应气体氧气，控制氧气的流量在2.0~3.0L/min之间，溅射功率设定在3.0~6.5KW之间，溅射温度设定为室温，通过溅射形成黑色绝缘薄膜；（3）涂胶，把镀有黑色绝缘薄膜的玻璃再次清洗，经过UV固化炉进行水分的烘干，UV固化炉六段都为90mj/mm2，传送速度：2.2±0.2m/min；然后置于一个平台上，利用旋涂机将光刻胶刮涂在玻璃上，光刻胶均匀地附着在整张玻璃基材上，利用旋涂机旋转将光刻胶的厚度控制在几个微米以内，通过IR炉进行预烘；光刻胶的厚度控制在1000~2000nm，均匀性5%以内，预烘温度为80~90℃之间；（4）曝光，对盖板玻璃上的光刻胶层进行曝光，即在光刻胶上光刻电极图形，曝光条件为：紫外光波长：365nm，光通量：100~120mj，电极图案的光罩是铬版，距离基板的尺寸100um~200um；（5）显影和坚膜，对光刻胶进行显影并坚膜硬化，采用NaOH溶液，浓度0.1~0.08MOL/L，温度：20~35℃，时间50秒~120秒，坚膜温度：100~120℃，时间30~35分钟；（6）蚀刻，通过蚀刻形成黑色绝缘薄膜层图形，蚀刻使用材料：HNO340%~50%+HO240%~50%，温度：40~45℃，时间：120~220秒；（7）去膜，去除光刻胶，形成黑色遮光层图形，即黑色边框，使用材料：NaOH，浓度2.0~1.5MOL/L，温度：30~35℃，时间100秒~120秒，最后用纯水漂洗并检验。所述的OGS触摸屏黑色边框的制作方法，其特征在于，所述的黑色绝缘薄膜为无机绝缘金属氧化物材料，采用氧化镍材料。本发明的优点是：与现有的技术相比，本发明OGS触摸屏黑色边框的制作方法可以大大提高产品质量，彻底解决BM材料厚度较厚、不能耐高...