一种电容式触摸屏感应器镀铜ito黄光工艺的剥膜与抗氧化同步处理方法

文档序号:6521873阅读:535来源:国知局
一种电容式触摸屏感应器镀铜ito黄光工艺的剥膜与抗氧化同步处理方法
【专利摘要】本发明涉及一种电容式触摸屏感应器镀铜ITO在黄光工艺处理过程中的剥膜与抗氧化同步处理方法,包括:在药水添加槽中加入剥膜液和铜抗氧化剂,再加入纯净水,稀释为混合药液;对混合药液先加热,再加入表面活性剂,制得剥膜抗氧化液;待剥膜产品在的剥膜抗氧化液中浸泡,对待剥膜产品进行剥膜与抗氧化同步处理。具有简化工艺、提高产品优良品率、提高生产效率、降低生产成本的优点。
【专利说明】一种电容式触摸屏感应器镀铜ITO黄光工艺的剥膜与抗氧化同步处理方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种电容式触摸屏感应器镀铜ITO在黄光工艺处理过程中的剥膜与抗氧化同步处理方法。
【背景技术】
[0002]电容式触摸屏感应器镀铜ITO的黄光工艺处理过程中,感应器镀铜ITO在线路图案成型后,其铜线裸露在空气中容易氧化,为了延长存放日期,必须使用进行铜抗氧化保护。[0003]一般情况下,在感应器线路成型后的最后一道剥膜工序中,剥膜液通常带有0.1%左右的抗氧化剂,能起到抗氧化作用,但作用甚微,最后仍要进行铜抗氧化的处理工序,而且在进行抗氧化工序前必须经过脱脂清洗等繁杂程序,无形中增加了设备成本、人力成本和药水成本,同时增加了在每道工序之间的人为操作所产生的产品次品率。

【发明内容】

[0004]本发明的目的是针对上述存在问题,提供一种简化工艺、提高产品优良品率、提高生产效率、降低生产成本的电容式触摸屏感应器镀铜ITO黄光工艺的剥膜与抗氧化同步处理方法。
[0005]本发明,包括以下步骤:
a)、在药水添加槽中,以重量份计,加入剥膜液:铜抗氧化剂=5份:2份,再加入40-45份纯净水,稀释为混合药液;稀释后,混合药液中剥膜液的氢氧化钠的浓度为2±0.5%wt,铜抗氧化剂的甲醇的浓度为2±0.5%wt ;
b)、上述100重量份的混合药液先加热至30±5°C,再加入0.5~2重量份的表面活性剂,制得剥膜抗氧化液;
C)、待剥膜产品在上述药水添加槽的剥膜抗氧化液中浸泡40±10 S,对待剥膜产品进行剥膜与抗氧化同步处理。
[0006]本发明,所述表面活性剂为浓度为10±5%wt的烷基磺酸盐溶液。
[0007]本发明,所采用药液、药剂介绍如下:
剥膜液,市售产品,可采用清英电子(昆山)有限公司生产销售的型号为SR-215的剥膜液。
[0008]铜抗氧化剂,市售产品,可采用昆山信达光擎电子材料有限公司生产销售的型号为XG-7220的铜抗氧化剂。
[0009]表面活性剂,采用市售的烷基磺酸盐溶液产品。
[0010]本发明,具有如下积极效果:
1)、在剥膜与抗氧化工序间无需进行清洗,节省了清洗机的设备成本;
2)、无需进行在剥膜与抗氧化工序之间的清洗,节省了脱脂剂、清洗剂的药水成本; 3)、无需进行在剥膜与抗氧化工序之间的清洗,减轻了的用水量,节省了纯水的制作成
本;
4)、剥膜与抗氧化工序同步进行,免去了工序之间的物料转移,节省了人力成本,减少了材料磨损、脏污和人为损伤,提闻了广品优良品率;
5)、剥膜与抗氧化工序同步进行,节省了生产时间,提高了生产效率。
[0011]所以,本发明,具有突出的实质性特点和显著的积极效果。
[0012]本发明,具有简化工艺、提闻广品优良品率、提闻生广效率、降低生广成本的优点。
【具体实施方式】
[0013]实施例:一种电容式触摸屏感应器镀铜ITO在黄光工艺处理过程中的剥膜与抗氧化同步处理方法,包括以下步骤:
a)、在药水添加槽中,以重量份计,加入剥膜液:铜抗氧化剂=5份:2份,再加入43份纯净水,稀释为混合药液;稀释后,混合药液中剥膜液的氢氧化钠的浓度为2±0.5%wt,铜抗氧化剂的甲醇的浓度为2±0.5%wt ;
b)、上述100重量份的混合药液先加热至30±5°C,再加入I重量份的浓度为10±5%wt的烷基磺酸盐溶液,制得剥膜抗氧化液;
C)、待剥膜产品即镀铜ITO在黄光工艺处理过程中的剥膜工序中,镀铜ITO在上述药水添加槽的剥膜抗氧化液中浸泡40±10 S,对待剥膜产品进行剥膜与抗氧化同步处理,即可在剥膜的同时获得抗氧化效果。
【权利要求】
1.一种电容式触摸屏感应器镀铜ITO黄光工艺的剥膜与抗氧化同步处理方法,包括以下步骤: a)、在药水添加槽中,以重量份计,加入剥膜液:铜抗氧化剂=5份:2份,再加入40-45份纯净水,稀释为混合药液;稀释后,混合药液中剥膜液的氢氧化钠的浓度为2±0.5%wt,铜抗氧化剂的甲醇的浓度为2±0.5%wt ; b)、上述100重量份的混合药液先加热至30±5°C,再加入0.5~2重量份的表面活性剂,制得剥膜抗氧化液; C)、待剥膜产品在上述 药水添加槽的剥膜抗氧化液中浸泡40±10 S,对待剥膜产品进行剥膜与抗氧化同步处理。
2.根据权利要求1所述的剥膜与抗氧化同步处理方法,其特征在于:所述表面活性剂为浓度为10±5%wt的烷基磺酸盐溶液。
【文档编号】G06F3/044GK103593103SQ201310635715
【公开日】2014年2月19日 申请日期:2013年12月3日 优先权日:2013年12月3日
【发明者】许明旭, 敖龙华, 陈睿源, 何子鑫, 曾昭杰 申请人:广东泰通科技股份有限公司
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