1.一种当渲染场景以用于输出时操作图形处理系统的方法，其中，限定表示要渲染的所述场景的全部或部分的体的包围体；所述方法包括以下步骤：
针对所述包围体上或内的至少一个采样点，通过以下步骤确定指示由所述包围体外部的光源投射在所述采样点上的阴影量的透明度参数：
确定所述包围体上与从所述采样点至所述光源的矢量相交的位置；
使用所述相交位置来确定要用于对表示所述场景中的所述包围体的表面的透明度的图形纹理进行采样的矢量；以及
使用所确定的矢量对所述图形纹理进行采样，以确定针对所述采样点的所述光源的透明度参数值。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，表示所述包围体的所述表面的所述透明度的所述纹理包括如下纹理，该纹理针对围绕该纹理包围的体内的参考位置的表面上的点指示并存储针对每个点的透明度值，该纹理然后基于从针对该纹理的所述参考位置开始的方向被采样。
3.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中：
使用所述包围体上的所确定的相交位置来确定要用于对表示图形纹理的所述透明度进行采样的所述矢量包括：
使用所述包围体上的所确定的相交位置来确定从关于其限定所述纹理的参考位置至所确定的相交点的矢量；以及
所述方法还包括以下步骤：
然后使用从所述参考位置至所确定的相交点的所确定的矢量对所述透明度指示纹理进行采样。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中：
所述透明度指示纹理被提供作为mipmap的集合；以及
所述方法还包括以下步骤：
使用从所述采样点至所述采样点至光源矢量在所述包围体上的所述相交位置的距离来确定对所述透明度指示纹理进行采样的mipmap等级。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，所述方法还包括以下步骤：
确定所述采样点是否位于背朝被考虑的所述光源的表面上，并且当确定所述采样点关于被考虑的所述光源位于背向表面上时，将所述采样点看作从所述光源被完全遮蔽，并且不对所述透明度指示纹理进行采样。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，所述方法还包括以下步骤：对于在所述包围体外部的多个光源中的每个，针对所述包围体上或内的采样点确定指示由在所述包围体外部的光源投射在所述采样点上的所述阴影量的透明度参数。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，所述方法还包括以下步骤：结合用于确定并模拟所述阴影效果的一个或更多个其它技术使用前述权利要求中任一项所述的方法。
8.一种当渲染场景以用于输出时生成在图形处理系统中使用的纹理的方法，所述方法包括以下步骤：
生成包括纹理纹素的阵列的图形纹理；
设置所述纹理中的纹素值，使得所述纹素值均存储透明度值，所述透明度值表示所述纹理表示的包围体的表面沿从关于其对所述纹理进行采样的参考位置开始的给定方向的透明度；以及
存储表示所述纹理的所述纹素值并且指示关于其对所述纹理进行采样的所述参考位置的数据。
9.根据权利要求8所述的方法，所述方法还包括以下步骤：在所述纹理被生成之后，使所述纹理经受一个或更多个处理操作。
10.根据权利要求8或9所述的方法，所述方法还包括以下步骤：
生成所述纹理表示的且要一起使用的所述包围体；以及
与所述纹理关联地存储表示所述包围体的数据。
11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述包围体为包围盒的形式。
12.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述纹理是立方体纹理。
13.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述纹理存储透明度数据通道和一个或更多个颜色数据通道两者。
14.一种图形处理流水线，所述图形处理流水线包括：
多个处理阶段，所述多个处理阶段至少包括：光栅，所述光栅栅格化输入图元，以生成要处理的图形片段，每个图形片段具有与之关联的一个或更多个采样位置；以及渲染器，所述渲染器处理由所述光栅生成的片段，以生成输出片段数据；
并且其中，当渲染场景以用于输出时，所述图形处理流水线被构造为执行以下处理，其中，针对所述场景限定表示要渲染的所述场景的全部或部分的体的包围体，并且在所述场景中存在能够在所述包围体中投射阴影的外部光源：
针对所述包围体上或内的至少一个采样点，通过以下步骤确定指示由在所述包围体外部的光源投射在所述采样点上的阴影量的透明度参数：
确定所述包围体上与从所述采样点至所述光源的矢量相交的位置；
使用所述相交位置来确定要用于对表示所述场景中的所述包围体的所述表面的透明度的图形纹理进行采样的矢量；以及
使用所确定的矢量对所述图形纹理进行采样，以确定针对所述采样点的所述光源的透明度参数值。
15.根据权利要求14所述的流水线，其中，表示所述包围体的所述表面的所述透明度的所述纹理包括如下纹理，该纹理针对围绕该纹理包围的所述体内的参考位置的表面上的点指示并存储针对每个点的透明度值，该纹理然后基于从针对该纹理的所述参考位置开始的方向被采样。
16.根据权利要求14或15所述的流水线，其中，所述处理电路被构造为：
通过使用所述包围体上的所确定的相交位置来确定从关于其限定所述纹理的参考位置至所确定的相交点的矢量，使用所述包围体上的所确定的相交位置来确定要用于对表示图形纹理的所述透明度进行采样的所述矢量；以及
然后使用从所述参考位置至所确定的相交点的所确定的矢量对所述透明度指示纹理进行采样。
17.根据权利要求14至16中任一项所述的流水线，其中：
所述透明度指示纹理被提供为mipmap的集合；以及
所述处理电路被构造为：
使用从所述采样点至所述采样点至光源矢量在所述包围体上的所述相交位置的距离来确定对所述透明度指示纹理进行采样的mipmap等级。
18.根据权利要求14至17中任一项所述的流水线，其中，所述处理电路被构造为：
确定所述采样点是否位于背朝被考虑的所述光源的表面上，并且当确定所述采样点关于被考虑的所述光源位于背向表面上时，将所述采样点看作从所述光源被完全遮蔽，并且不对所述透明度指示纹理进行采样。
19.根据权利要求14至18中任一项所述的流水线，其中，所述处理电路被构造为：
对于在所述包围体外部的多个光源中的每个，针对所述包围体上或内的采样点，确定指示由在所述包围体外部的光源投射在所述采样点上的所述阴影量的透明度参数。
20.根据权利要求14至19中任一项所述的流水线，其中，所述处理电路被构造为：
使用用于确定并模拟所述阴影效果的一个或更多个其它技术。
21.一种用于当渲染场景以用于输出时生成在图形处理系统中使用的纹理的设备，所述设备包括处理电路，所述处理电路被构造为：
生成包括纹理纹素的阵列的图形纹理；
设置所述纹理中的纹素值，使得所述纹素值均存储透明度值，所述透明度值表示所述纹理表示的包围体的表面沿从要关于其对所述纹理进行采样的参考位置开始的给定方向的透明度；以及
存储表示所述纹理的所述纹素值并且指示要关于其对所述纹理进行采样的所述参考位置的数据。
22.根据权利要求21所述的设备，其中，所述处理电路被构造为：
在所述纹理被生成之后使所述纹理经受一个或更多个处理操作。
23.根据权利要求21或22所述的设备，其中，所述处理电路被构造为：
还生成所述纹理表示的且要一起使用的所述包围体；以及
与所述纹理关联地存储表示所述包围体的数据。
24.根据权利要求14至23中任一项所述的流水线或设备，其中，所述包围体为包围盒的形式。
25.根据权利要求14至24中任一项所述的流水线或设备，其中，所述纹理是立方体纹理。
26.根据权利要求14至25中任一项所述的流水线或设备，其中，所述纹理存储透明度数据通道和一个或更多个颜色数据通道两者。
27.一种当渲染场景以用于输出时在图形处理系统中使用的纹理，所述纹理包括：
纹理纹素的阵列，其中：
纹素值被设置成使得所述纹素值均存储透明度值，所述透明度值表示所述纹理表示的包围体的表面沿从要关于其对所述纹理进行采样的参考位置开始的给定方向的透明度。
28.一种包括软件代码的计算机程序，所述软件代码适于当所述程序在数据处理系统上运行时执行根据权利要求1至13中任一项所述的方法。
29.一种大致如在这里参照附图中的任一个描述的操作图形处理系统的方法。
30.一种大致如在这里参照附图中的任一个描述的生成在图形处理系统中使用的纹理的方法。
31.一种大致如在这里参照附图中的任一个描述的图形处理流水线。
32.一种大致如在这里参照附图中的任一个描述的生成在图形处理系统中使用的纹理的设备。
33.一种大致如在这里参照附图中的任一个描述的图形纹理。