专利名称：渐变性光学折射系数的光储存媒体的制作方法
技术领域：
本发明有关于一种光储存媒体，特别是有关于一种具有渐变性光学折射系数基板或盖板的光储存媒体。
目前的光学储存媒体(例如CD、CD-R、CD-RW、DVD等光盘)利用激光源经由透镜聚焦后照射于记录层(recording layer)上进行光学的读或写的作用，其能辨识出的记录点(mark)大小会受到物理绕射极限(diffraction limit)0.61λ/NA(λ为激光的波长，NA为物镜的数值孔径(numerical aperture))的限制，例如，CD光盘片使用780nm的光源，NA值为0.45的光学读取头，可以读取记录层上长度0.83μm的记录单位，而DVD光盘片使用635～660nm的光源，NA值为0.6的光学读取头，可以读取记录层上长度0.4μm的记录单位。而为了发展更高记录密度与容量的下一代光储存媒体，则可以使用短波长的激光及高数值孔径的物镜，例如405nm蓝光激光NA0.85光学读写头，以达到更小的聚焦光点，但是NA值是正比于光瞳(物镜)直径，而与物镜的焦距成反比，所以为了达到更大的NA值，若使用传统的非球面光学物镜不仅设计难度增高，实际制造上的合格率也大为降低，造成成本的增加，再者，若使用全像元件，因为透光率下降，以及实际量产化难题的存在，使得距离商用化的程度仍有一段路要走。
一般光学球面透镜，常存有Seidel像差(Seidel aberration)，尤其是球差，像差源自透镜具有有限的孔径与视场，而非近轴近似的理想情况，如图2的示意图，近轴光线202a的聚焦点206a与远轴光线202b的聚焦点206b不同，此称为球差，如图中所示，其远轴成像点206b′偏离中心聚焦点206a。一般而言，消除球差可由多片透镜组或非球面镜，而光储存媒体的光学读写头(pickup head)为了大量制作与成本考量，就以非球面镜配合高阶参数以消除像差，虽然在设计上可完全消除球差，但在实际上制作模具与复制的精确度尚难达到完美的透镜，尤其是高NA的物镜，所以其尚会有球差的存在。
为有效解决上述所述的问题点，本发明的目的之一是将激光源通过光储存媒体记录层之前的基板或盖板改为渐变折射率的膜层，改变光线成像路径，以改善光学读写头的像差(尤其是球差)，进而优化激光聚焦点的成像品质。
本发明目的之二是运用光学记录层之前的基板或盖板改为渐变折射率膜层的光储存媒体，协助光学读取头校正在设计以及制造上因精度不足所可能产生的像差，以使聚焦于记录层上的光点大小更趋近于绕射极限所规范的光点大小。
本发明目的之三在于利用基板或盖板的渐变折射率的膜层所形成的光储存媒体，以减轻对于读写头聚焦物镜的要求，更可能搭配设计良好，且量产性高的聚焦物镜达到更低像差的聚焦点，且此方法相对于纯光学读取头的方法，提供一种较实用且低成本的方向去形成光储存媒体的读取装置。
为达到上述目的，本发明提供一种渐变性光学折射系数光储存媒体，其组成包括一基板；一光学折射系数渐变性膜层于该基板上，形成一体的光学折射系数渐变性的光储存媒体基板；并通过该光学折射系数渐变性光储存媒体基板，以形成一渐变性光学折射系数的光储存媒体。
图2为球差示意图。
图3(a)光储存媒体的光学读写头与盘片架构示意图；图3(b)为聚焦点附近的光线追迹分布图；图3(c)为聚焦点的光点分布图。
图4(a)为光储存媒体的光学读写头与树脂光学折射系数渐变性光盘基板的架构示意图；图4(b)为聚焦点附近的光线追迹分布图；图4(c)聚焦点的光点分布图。
图5(a)为光储存媒体的光学读写头与无机介电光学折射系数渐变性的光盘基板的架构示意图；图5(b)聚焦点附近的光线追迹分布图；图5(c)聚焦点的光点分布图。
图6(a)为DVD光学读写头与盘片架构示意图；图6(b)为聚焦点附近的光线追迹分布图；图6(c)为聚焦点的光点分布图。
图7(a)为DVD光学读写头与光学折射系数渐变性的光盘基板的架构示意图；图7(b)为聚焦点附近的光线追迹分布图；图7(c)为聚焦点的光点分布图。
图8(a)为只读光盘CD(或DVD)盘片实施例示意图；图8(b)为可录一次式盘片或可重复读写式的盘片实施例示意图；图8(c)为DVD架构只读光盘实施例示意图；图8(d)为DVD架构可重复读写式光盘示意图。
图9为本发明另一单面只读型光盘架构下实施例示意图。
图10为本发明非只读型光盘DVD架构下实施例示意图。
图11为本发明的蓝光盘片架构只读型的实施例示意图。
图12为本发明的蓝光盘片架构可录式盘片的实施例示意图。
100、300、400、500、600、700、800、900、110光盘基板101、201、301、401、501、601、701物镜
102、302、602激光束403、503、703、803、903光学折射系数渐变性膜层31第一曲面32第二曲面306、406、506、606、706聚焦点206a、306a近轴聚焦点206b、306b远轴聚焦点306a′、406a′、506a′、606a′、706a′光集中区域306b′、406b′、506b′、606b′、706b′光散布区域307参考长度804、904、114只读记录层804a记录层904a、114a记录膜层202a近轴光线202b远轴光线206b′远轴成像点98、113盖板87光学折射系数渐变性光储存媒体基板85、95、115反射层86保护层96胶合层96a中介膜层
126中介层81读取面再通过ZEMAX(Focus Softwave，Inc.)计算可知其光学性质，以图3(a)、图3(b)、图3(c)表示，其中图3(a)为光储存媒体光学读写头301与盘片架构示意图，图3(b)为图3(a)的聚焦点306附近的光线追迹分布放大侧视图，其近轴光线的聚焦点306(a)与远轴光线的聚焦点306(b)不同。图3(c)则为聚焦点的光点分布正视图，307为相同的参考长度，其近轴光线的聚焦点306a′区域在近轴心位置，而远轴光线的聚焦点306b′分布则偏离轴心集束区域，由此可看出光储存媒体的光学读写头尚有明显的球差存在。
实施例1.树脂光学折射系数渐变薄膜将树脂(resin)光学折射系数渐变性膜层403加入作为光储存媒体基板400中作为基板的一部份，再通过光学的仿真软件ZEMEX，使用U.S.patent No.4,449,792中提出光储存媒体CD光学头的光学参数，请参阅图4(a)～(c)，图4(a)为传统光储存媒体的光学读写头401与树脂光学折射系数渐变性光储存媒体基板的架构图，图4(b)为图4(a)的聚焦点406附近的光线追迹分布放大侧视图，图4(c)为聚焦点的光点分布正视图。其中图4(a)，仿真使用一树脂光学折射系数渐变性膜层403，厚度约为100μm，光学折射系数n(Reflective index)为1.58线性变化至1.38之间，加入基板中作为为基板400的一部份。当加入树脂光学折射系数渐变性膜层403且优化基板400厚度后，从图4(b)的结果与图3(b)的结果比较，可知在基板中加入光学折射系数渐变性膜层403，可改变光线成像路径，因而球差将可被矫正。由聚焦点406附近的光线追迹分布图，可知因在基板中加入光学折射系数渐变性膜层403，可改变光线成像路径，进而可缩小激光在聚焦点光分布，结果如图3(c)与图5(c)所示。由比较图4(c)其聚焦点光分布相对于参考长度307的结果与图3(c)中只有基板的聚焦点光分布相对于参考长度307的结果，可知因在基板中加入光学折射系数渐变性膜层403，聚焦点光分布变得更集中而缩小，即光集中区域406a′已明显较306a′更为集中且光点更小。
2.无机介电光学折射系数渐变薄膜同理，亦可将无机材料(例如SiNx)当作光学折射系数渐变性膜层，再通过光学的仿真软件ZEMEX，图5(a)为传统光驱的光学读写头501与无机介电光学折射系数渐变性光储存媒体基板的架构图，图5(b)为聚焦点506附近的光线追迹分布图，图5(c)为聚焦点的光点分布图。SiNx光学折射系数渐变性膜层503，厚度为100μm，光学折射系数n为2.0线性变化至1.6之间，加入基板中作为基板500的一部份，如图5(a)所示。当加入光学折射系数渐变性层503且优化基板500厚度，从图5(b)的结果与图3(b)的结果比较，可知在基板中加入光学折射系数渐变性膜层503，可改变光线成像路径，因而球差将可被矫正。由聚焦点506附近的光线追迹分布图，可知因在基板中加入光学折射系数渐变性膜层503，可改变光线成像路径，进而可缩小激光在聚焦点光分布，结果如图3(c)与图5(c)所示。由比较图5(c)其聚焦点光分布相对于参考长度307的结果与图3(c)中只有基板的聚焦点光分布相对于参考长度307的结果，可知因在基板中加入光学折射系数渐变性膜层503，聚焦点光分布变得更集中而缩小。
二、在DVD光驱系统中的应用与在传统CD光盘中类似的方法，DVD光驱系统中利用650nm激光源经由NA为0.6的透镜聚焦后照射于记录层上进行光学的读或写的作用，所以当我们知道其系统中的光学参数后，同样可通过光学的仿真软件ZEMAX，计算其光学成像品质。例如U.S.patent，no.5,889,748，″Object lens and optical head for reproducing data fromoptical disks in different thickness of substrate.″其中提出DVD光学头的设计，经由此专利中所描述的光学参数，再通过光学的仿真软件ZEMAX计算可知其光学性质，如图6(a)、图6(b)、图6(c)所示。图6(a)为DVD光学读写头601与盘片架构示意图，图6(b)为聚焦点606附近的光线追迹分布放大侧视图，图6(c)为聚焦点的光点分布正视图，307代表在相同的参考长度下比较。在此基板600(或盖板)厚度为0.6mm、激光波长为650nm、物镜601NA为0.6。
另外将树脂光学折射系数渐变性层703加入DVD的基板700(或盖板)中作为基板的一部份，同样再通过光学的仿真软件ZEMEX，使用U.S.patent，no.5,889,748中提出DVD光学头的光学参数，计算其光学成像品质。图7(a)为DVD光学读写头701与树脂光学折射系数渐变性的光盘基板(或盖板)的架构图，图7(b)聚焦点706附近的光线追迹分布放大侧视图，图7(c)聚焦点的光点分布正视图。当基板加入树脂光学折射系数渐变性层703(厚度为100μm，光学折射系数n为1.38变化至1.58)，如图7(a)所示。比较图7(b)与图6(b)，可得知在基板加入光学折射系数渐变性膜层703且优化基板700厚度，可改变光线成像路径，光学读写头的像差可被改善，如图7(b)及图7(c)所示。由聚焦点附近的光线追迹分布图，可知因在基板(或盖板)中加入光学折射系数渐变性膜层703且优化基板700厚度，可改变光线成像路径，进而可缩小激光在聚焦点光分布，结果如图7(c)与图6(c)所示。由比较图7(c)其聚焦点光分布706a′相对于参考长度307的结果与图6(c)中只有基板的聚焦点光分布606a′相对于参考长度307的结果，可知因在基板(或盖板)中加入光学折射系数渐变性膜层703，聚焦点光分布变得更集中而缩小。
达成光学折射系数渐变性的膜层的具体方法1.树脂光学折射系数渐变性的膜层达成树脂光学折射系数渐变性的膜层的其中一种方法，可用扩散的方式，如热扩散即为其中的一种，以传统光储存媒体为例，在光储存媒体基板(或盖板)上以用旋转涂布(spin coating)镀上约数十微米厚度的高折射率(如1.6)与低折射率(如1.38)树脂，先将两种树脂略微凝固，接着可利用热扩散(Thermal diffusion)方法，将光储存媒体基板放入加温炉中，控制适当温度与时间，在这两层树脂之间即可产生光学折射系数渐变性的膜层。其中树脂的厚度可由树脂黏稠度(viscosity)与旋转涂布转速(rotation speed)控制。
2.无机介电光学折射系数渐变性的膜层达成无机介电光学折射系数渐变性的膜层的其中一种方法，以传统光储存媒体为例，将光储存媒体基板(或盖板)用反应式溅镀(Reactive sputtering)方式镀上约数十微米厚度的无机介电光学折射系数渐变性的膜层，而无机材料如氮化硅(SiNx)。达成无机介电光学折射系数渐变性的膜层的方法，例如使用反应式溅镀，在纯硅靶(Si)溅镀的过程固定氩气(Ar2)进气流量，另外随时间改变反应气体(氮气，N2)的进气流量，如此就可形成光学折射系数渐变性的硅的氮化物膜层的制作。而无机介电光学折射系数渐变性的膜层的光学折射系数可由反应气体与氩气进气流量的比例与溅镀功率决定；无机介电光学折射系数渐变性的膜层的厚度由溅镀功率、硅靶面积大小与时间决定。无机介电光学折射系数渐变性膜层也可为硅的氧化物(SiOx)、铝的氮化物(AlNx)及氧化物(AlOx)等，利用反应式溅镀达成。
光学折射系数渐变性的光储存媒体基板与膜层要求光学折射系数渐变性的光储存媒体的基板(或盖板)为一基板和一个光学折射系数渐变性的膜层所组成，树脂光学折射系数渐变性的膜层的光学折射率可为1.3至1.8之间，另外无机介电光学折射系数渐变性的膜层的光学折射率，如硅的氧化物(SiOx)或氮化物(SiNx)，铝的氧化物(AlOx)或氮化物(AlNx)，光学折射系数渐变性的膜层的厚度为数μm到数百μm之间。光学折射系数渐变性的膜层可放置于光储存媒体基板与记录材料膜层之间；光学折射系数渐变性的膜层的位置，亦可为光储存媒体读取面基板的上方，换句话说，光学折射系数渐变性的膜层的位置介于物镜与基板(或盖板)之间且与基板(或盖板)成为一体。由于光学折射系数渐变性的膜层具有的消球差的特性，因而光学折射系数渐变性的膜层亦可用为更高记录密度(容量)如蓝光光储存媒体的盖板，使得高NA物镜设计更为简单及具有较佳的特性。
在光储存媒体的实施例在激光源与光储存媒体记录膜层之间的路径上，较佳的实施例是在光盘的读取面，加入一光学折射系数渐变性膜层，以形成一光学折射系数渐变性光储存媒体的基板(或盖板)，通过该渐变性光学折射系数基板具修正球差等的特性，以形成一渐变性光学折射系数的光储存媒体。上述的光储存媒体记录膜层，包括公知的只读光盘、可写一次式光盘、可重复读写式光盘记录层，也包括以多层膜组成的各种记录层、有机或无机的记录层等。
请参阅图8(a)是一种最佳实施例，以只读光盘为例，在光盘基板800(例如一CD或DVD的基板)的读取面81，加入一光学折射系数渐变性膜层803，以形成一光学折射系数渐变性光储存媒体基板87，通过该光学折射系数渐变性光储存媒体基板87具修正球差等的特性，以形成一渐变性光学折射系数的光储存媒体；其中该光学折射系数渐变性膜层803位于该基板800靠近激光源的一侧(图中箭头方向表激光源入射方向，以下同)，一只读记录层804于该基板800的另侧，可视为介于基板800与反射层85之间，只读记录层804可以为讯号坑80a的形式(pits and lands)记录数字0与1的信息。反射层85的外侧，多有一保护胶质(lacquer)的物质，用以保护该金属材质的反射层85，如一般在光盘CD惯用的保护层86，或如在图8(c)中所示的，在DVD光盘中的胶合层86a(Bonding layer)或盖板88等即是。
在可录式光盘中，包括如图8(b)的可录一次式有机染料记录层804a，或是可重复读写式光盘记录层，其记录膜层位置均位于基板800与反射层85之间。其余膜层的架构与CD盘片类似，如图8(d)中的DVD重复读写式光盘。
在DVD光盘的结构下，也可发展另一种相类的实施例，请参阅图9，图中例示为一单面只读型光盘，在基板900上，有一只读的记录层904(Pits and lands)，该只读记录层904在基板与基板上的反射层95之间，一光学折射系数渐变性膜层903在基板900对侧的盖板98上，图例中所示位在盖板远离激光源方向的一侧，盖板98与基板900之间，可以有一胶合层96。
至于DVD架构下的非只读型光盘，可集中于图10中说明，一光学折射系数渐变性膜层903在盖板98远离激光源方向的一侧，一反射层95在基板900上，一记录膜层904a于该反射层上，(该记录膜层包括可写一次式记录层，如有机染料或无机金属记录层，也可以是可重复读写式的记录层，如相变化记录层或其它膜层的记录层。)，盖板98与基板900之间，还可以有一中介膜层96a，其也介于记录膜层904a与光学折射系数渐变性膜层903之间，该中介膜层96a端视记录膜层904a的反应性，可能包括胶合作用层或染料保护层或其它光学作用的复合膜层或单一膜层，视不同的盘片而定，在此不予赘述。
图11为一种蓝光盘片(blue-ray disc)只读型的实施例，其盖板(cover layer)的厚度约0.1mm，为一具光学折射系数渐变性膜层的盖板113，其它结构则为包括位于该盖板的对侧基板110，一只读记录层114介于一反射层115与基板110之间。
图12则为蓝光可录式盘片的实施例，其盖板也为一具光学折射系数渐变性膜层的盖板113，一记录膜层114a位于一反射层115与一中介层126之间，记录膜层114a与前例类似，不论为可写一次式或可重复读写式盘片，其记录膜层均介于反射层115与该中介层126之间，而该中介层126，则视该记录膜层124的反应性，可能为一染料保护层或其它光学作用的复合膜层，在此不予赘述。
发明功效本发明通过在激光源与记录层之间的路径上，例如于光储存媒体(如前述的CD、DVD、Blue-ray disc或任何其它光储存媒体)的读取面，如基板或盖板上，加入一层光学折射系数渐变性的膜层(layer)，利用此膜层，改变光线成像路径，以改善光学读写头的像差(尤其是球差)，达到优化成像品质，进而增进光储存媒体的读、写讯号能力。此外，此发明不但可以大幅减轻对于读写头聚焦物镜的要求，更可能搭配设计良好，且量产性高的聚焦物镜达到更低像差的聚焦点。再者，且此方法相对于纯光学读取头的方法，提供一种较实用且低成本的方向去形成光储存媒体的读取装置。
权利要求
1.一种渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，其组成包括一基板；一光学折射系数渐变性膜层于该基板上，形成一体的光学折射系数渐变性的光储存媒体基板；并通过该光学折射系数渐变性光储存媒体基板，以形成一渐变性光学折射系数的光储存媒体。
2.如权利要求1所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一树脂光学折射系数渐变性材料所形成的树脂光学折射系数渐变性膜层。
3.如权利要求1所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一无机介电光学折射系数渐变性材料所形成的无机介电光学折射系数渐变性膜层。
4.如权利要求2所述的树脂光学折射系数渐变性材料，其特征是，该光学折射率可为1.3至1.8之间。
5.如权利要求1所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层的厚度为1μm到300μm之间。
6.如权利要求2所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该树脂光学折射系数渐变性膜层由扩散方法制作。
7.如权利要求3所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该无机介电光学折射系数渐变性材料，包括硅的氧化物(SiOx)或氮化物(SiNx)，铝的氧化物(AlOx)或氮化物(AlNx)。
8.如权利要求3所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该无机介电光学折射系数渐变性膜层是由反应式溅镀(Reactivesputtering)达成。
9.一种渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，包括一基板；一光学折射系数渐变性膜层置于该基板靠近激光源的一侧；一记录膜层介于该基板与一反射层之间。
10.如权利要求9所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该记录膜层，包括只读光盘记录层、可写一次式光盘记录层、可重复读写式光盘记录层。
11.如权利要求9所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光储存媒体的该记录膜层，包括多层膜记录层、有机记录层、无机记录层。
12.如权利要求9所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一树脂光学折射系数渐变性材料所形成的树脂光学折射系数渐变性膜层。
13.如权利要求9所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一无机介电光学折射系数渐变性材料所形成的无机介电光学折射系数渐变性膜层。
14.如权利要求12所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该树脂光学折射系数渐变性材料，其光学折射率可为1.3至1.8之间。
15.如权利要求9所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层的厚度为1μm到300μm之间。
16.如权利要求12所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该树脂光学折射系数渐变性膜层是由扩散方法制作。
17.如权利要求13所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，所述的无机介电光学折射系数渐变性材料，包括硅的氧化物(SiOx)或氮化物(SiNx)，铝的氧化物(AlOx)或氮化物(AlNx)。
18.如权利要求13所述的的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，所述无机介电光学折射系数渐变性膜层是由反应式溅镀(Reactivesputtering)达成。
19.一种渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，包括一盖板；一基板，位于该盖板的对侧；一光学折射系数渐变性膜层于该盖板偏离激光源的一侧；一反射层于该基板上。
20.如权利要求19所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，其更包括一只读记录层，位于该基板与该反射层之间。
21.如权利要求19所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，其更包括一胶合层，该胶合层介于该盖板与该记录膜层之间。
22.如权利要求19所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一树脂光学折射系数渐变性材料所形成的树脂光学折射系数渐变性膜层。
23.如权利要求19所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一无机介电光学折射系数渐变性材料所形成的无机介电光学折射系数渐变性膜层。
24.如权利要求22所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该树脂光学折射系数渐变性材料，其光学折射率可为1.3至1.8之间。
25.如权利要求19所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层的厚度为1μm到300μm之间。
26.如权利要求22所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该树脂光学折射系数渐变性膜层是由扩散方法制作。
27.如权利要求23所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该无机介电光学折射系数渐变性材料，包括硅的氧化物(SiOx)或氮化物(SiNx)，铝的氧化物(AlOx)或氮化物(AlNx)。
28.如权利要求23所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该无机介电光学折射系数渐变性膜层是由反应式溅镀(Reactivesputtering)达成。
29.一种渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，包括一盖板；一基板，位于该盖板的对侧；一光学折射系数渐变性膜层于该盖板偏离激光源的一侧；一反射层于该基板上；一记录膜层于该反射层上。
30.如权利要求29所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该记录膜层，包括只读光盘记录层、可写一次式光盘记录层、可重复读写式光盘记录层。
31.如权利要求29所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光储存媒体的该记录膜层，包括多层膜记录层、有机记录层、无机记录层。
32.如权利要求29所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，更包括一中介膜层，该中介膜层介于该光学折射系数渐变性膜层与该记录膜层之间。
33.如权利要求32所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该中介膜层包括一胶合作用层或染料保护层或其它光学作用的复合膜层或单一膜层。
34.如权利要求29所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一树脂光学折射系数渐变性材料所形成的树脂光学折射系数渐变性膜层。
35.如权利要求29所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一无机介电光学折射系数渐变性材料所形成的无机介电光学折射系数渐变性膜层。
36.如权利要求34所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该树脂光学折射系数渐变性材料，其光学折射率可为1.3至1.8之间。
37.如权利要求29所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层的厚度为1μm到300μm之间。
38.如权利要求29所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是的树脂光学折射系数渐变性膜层是由扩散方法制作。
39.如权利要求35所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该无机介电光学折射系数渐变性材料，包括硅的氧化物(SiOx)或氮化物(SiNx)，铝的氧化物(AlOx)或氮化物(AlNx)。
40.如权利要求35所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该无机介电光学折射系数渐变性膜层系由反应式溅镀(Reactivesputtering)达成。
41.一种渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，包括一具光学折射系数渐变性膜层的盖板；一基板，位于该盖板的对侧；一反射层于该基板上；
42.如权利要求41所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，更包括一只读记录层，位于该基板与该反射层之间。
43.如权利要求41所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一树脂光学折射系数渐变性材料所形成的树脂光学折射系数渐变性膜层。
44.如权利要求41所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一无机介电光学折射系数渐变性材料所形成的无机介电光学折射系数渐变性膜层。
45.如权利要求41所述的树脂光学折射系数渐变性材料，其光学折射率可为1.3至1.8之间。
46.如权利要求41所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层的厚度为1μm到300μm之间。
47.如权利要求43所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该树脂光学折射系数渐变性膜层系由扩散方法制作。
48.如权利要求44所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该无机介电光学折射系数渐变性材料，包括硅的氧化物(SiOx)或氮化物(SiNx)，铝的氧化物(AlOx)或氮化物(AlNx)。
49.如权利要求44所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该无机介电光学折射系数渐变性膜层是由反应式溅镀(Reactivesputtering)达成。
50.一种渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，包括一具光学折射系数渐变性膜层的盖板；一基板，位于该盖板的对侧；一反射层于该基板上；一记录膜层于该反射层与该盖板之间。
51.如权利要求50所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该记录膜层，包括只读光盘记录层、可写一次式光盘记录层、可重复读写式光盘记录层。
52.如权利要求50所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光储存媒体的该记录膜层，包括多层膜记录层、有机记录层、无机记录层。
53.如权利要求50所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，更包括一中介层，该中介层介于该盖板与该记录膜层之间。
54.如权利要求53所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该中介层，包括染料保护层、复合膜层或单一膜层。
55.如权利要求50所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一树脂光学折射系数渐变性材料所形成的树脂光学折射系数渐变性膜层。
56.如权利要求50所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一无机介电光学折射系数渐变性材料所形成的无机介电光学折射系数渐变性膜层。
57.如权利要求55所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是该树脂光学折射系数渐变性材料，其光学折射率可为1.3至1.8之间。
58.如权利要求50所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层的厚度为1μm到300μm之间。
59.如权利要求55所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该树脂光学折射系数渐变性膜层是由扩散方法制作。
60.如权利要求56所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该无机介电光学折射系数渐变性材料，包括硅的氧化物(SiOx)或氮化物(SiNx)，铝的氧化物(AlOx)或氮化物(AlNx)。
61.如权利要求56所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该无机介电光学折射系数渐变性膜层是由反应式溅镀(Reactivesputtering)达成。
62.一种渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，其组成包括一盖板；一光学折射系数渐变性膜层于该盖板上，形成一体的光储存媒体盖板；并通过该光学折射系数渐变性光储存媒体盖板，以形成一渐变性光学折射系数的光储存媒体。
63.如权利要求62所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一树脂光学折射系数渐变性材料所形成的树脂光学折射系数渐变性膜层。
64.如权利要求62所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层为一无机介电光学折射系数渐变性材料所形成的无机介电光学折射系数渐变性膜层。
65.如权利要求62所述的树脂光学折射系数渐变性材料，其光学折射率可为1.3至1.8之间。
66.如权利要求62所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该光学折射系数渐变性膜层的厚度为1μm到300μm之间。
67.如权利要求63所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该树脂光学折射系数渐变性膜层系由扩散方法制作。
68.如权利要求64所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该无机介电光学折射系数渐变性材料，包括硅的氧化物(SiOx)或氮化物(SiNx)，铝的氧化物(AlOx)或氮化物(AlNx)。
69.如权利要求64所述的渐变性光学折射系数光储存媒体，其特征是，该无机介电光学折射系数渐变性膜层系由反应式溅镀(Reactivesputtering)达成。
全文摘要
一种渐变性光学折射系数的光储存媒体，主要系由光学折射系数渐变性的基板或盖板所构成的光储存媒体。本发明在基板或盖板加入一层光学折射系数渐变性的膜层，利用此膜层，改变光线成像路径，以改善光学读写头的像差(尤其是球差)，进而优化激光聚焦点的成像品质，以形成一光学折射系数渐变性光储存媒体，可广泛应用于现行及未来各种不同类型的只读或可录式光储存媒体，包括光盘CD、DVD、HD－DVD、蓝光盘片等。
文档编号G11B7/24GK1466137SQ0214051
公开日2004年1月7日 申请日期2002年7月5日 优先权日2002年7月5日
发明者陈炳茂, 王式禹 申请人:铼德科技股份有限公司