专利名称：用于光磁记录器材的铝镁合金涂膜工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及铝镁合金涂膜工艺，尤指一种用于光磁记录器材的铝镁合金涂膜工艺。
本发明的优越功效在于1、材料的氧化层厚度≥1.5μm。
2、处理后的材料是明亮的银白色光泽，没有彩虹现象及花斑，亮度可达到光学全反射率70％以上。
3、氧化层铅笔硬度≥6H。
4、材料拉伸强度≥270Mpa。
5、耐腐蚀性能，在200小时连续盐雾试验中，没有发生任何的腐蚀现象，在室内常温下不生锈。
附图为本发明的生产工艺流程图。
膜的成份为85％AL2O3+15％AL2O3H2O和N1(OH)2。
权利要求
1.一种用于光磁记录器材的铝镁合金涂膜工艺，其特征在于其生产工艺流程先开卷、经过脱脂、水洗脱膜中和、再送入加工槽中进行氧化处理、再经水洗、然后用封闭剂对其进行封闭处理、再水洗、烘干、收卷；氧化过程的硫酸浓度20％，温度33～35℃，电流密度0.8～1安培/分米2，时间60～90秒；膜的成份为85％AL2O3+15％AL2O3H2O和N1(OH)2；氧化层厚度≥1.5μm。
全文摘要
一种用于光磁记录器材的铝镁合金涂膜工艺，其特点是将铝镁合金卷材先开卷，经过脱脂、水洗脱膜中和、再送入加工槽中进行氧化处理，通过独特的化学配制药液及严格的电极和温度控制使其表面产生一层氧化膜后，再经水洗，然后用封闭剂对其进行封闭处理，经水洗，最后烘干、收卷。从开卷到收卷整个过程均未将箔材分割，而是直接进行连续的氧化处理。在整个氧化过程中温度都通过专用冷冻和加热设备进行控制。氧化过程的硫酸浓度为20％，温度33～35℃，电流密度0.8～1安培/分米
文档编号G11B11/00GK1461001SQ03116680
公开日2003年12月10日 申请日期2003年4月29日 优先权日2003年4月29日
发明者李凡 申请人:上海财大电子有限公司