专利名称：全息记录装置以及全息记录方法
技术领域：
本发明涉及通过固定入射角的记录光与可变入射角的参考光之间的干 涉来复用记录全息图的全息记录装置以及全息记录方法。
背景技术：
在专利文献1中公开了一种以往的全息记录方法。在该文献所公开的 方法中，向全息记录介质垂直照射记录光，并同时在通过控制多镜面反射
镜(多重^:，一)的倾斜来改变向该记录光的照射部位的入射角的情况下 照射参考光。多镜面反射镜将被支持部件支持的部分作为支点而倾斜，支 持部件被构成为相对于全息记录介质进行平行移动的结构。参考光根据多 镜面反射镜的倾斜来改变向全息记录介质的入射角，此时，通过多镜面反 射镜相对于全息记录介质进行平行移动来使参考光定位于照射部位。根据 这样的结构，在照射部位通过记录光和参考光之间的干涉而复用记录与它 们的交叉角相应的全息图。
专利文献1:日本专利文献特开2005-234145号公报。 但是，在上述已有的全息记录方法中，在针对全息记录介质的参考光 的入射角变大时，根据照度余弦法则，参考光的照射宽度变大，从而与记 录光不重叠的部分也必然增大。即，在作为复用记录了全息图的单位记录 区域的、照射部位的两端部形成仅被多余的参考光曝光的不需要的曝光部 分，该不需要的曝光部分根据参考光的入射角而变大。因此，为了不使仅 被参考光曝光的不需要的曝光部分重叠，必须将相邻的单位记录区域间的 间隔取得较大，从而存在难以提高记录密度的问题。
发明内容
本发明就是基于上述问题完成的。本发明的目的在于，提供一种能够縮小复用记录全息图的单位记录区域的间隔来提高记录密度的全息记录装 置以及全息记录方法。
为了解决上述问题，本发明采取了以下手段。
本发明的第一方面提供一种全息记录装置，其向全息记录介质照射记 录光，并且在可变地控制向所述全息记录介质的入射角的情况下向所述记 录光的照射部位照射参考光，并通过这些记录光和参考光之间的干涉而在 所述照射部位上复用记录全息图，所述全息记录装置的特征在于，包括 至少一个可变反射单元，所述至少一个可变反射单元通过反射将所述参考
光引向所述照射部位，并绕预定的轴摆动，以使所述参考光的入射角改 变；以及遮光单元，所述遮光单元与所述可变反射单元一体地摆动，并部 分地遮挡所述参考光，以使得所述参考光的入射角越大，所述参考光的光 束直径就越小。
优选使所述参考光沿固定的方向并以固定的光束直径向所述可变反射 单元入射，并在被所述可变反射单元反射后穿过所述遮光单元照射在所述 照射部位。
优选包括用固定的反射面反射来自所述可变反射单元的所述参考光的 固定反射单元，所述参考光沿固定的方向并以固定的光束直径向所述可变 反射单元入射，并且在被所述可变反射单元反射之后被所述固定反射单元 再次反射，之后穿过所述遮光单元照射在所述照射部位上。
优选包括作为可变反射单元的第一及第二可变反射单元、以及固定反 射单元，该固定反射单元通过固定于这些第一及第二可变反射单元之间的 固定的反射面来反射所述参考光；所述参考光沿固定的方向并以固定的光 束直径向所述第一可变反射单元入射，并且在刚要被所述第一可变反射单 元反射之前以及刚被反射之后穿过所述遮光单元被引向所述固定反射单 元，之后，在被所述固定反射单元反射后进一步被所述第二可变反射单元 反射，由此被照射到所述照射部位上。
本发明的第二方面提供一种全息记录方法，该方法向全息记录介质照 射记录光，并且在可变地控制对所述全息记录介质的入射角的情况下向所 述记录光的照射部位照射参考光，并通过这些记录光和参考光之间的干涉而在所述照射部位上复用记录全息图，所述全息记录方法的特征在于，当 在可变地控制所述参考光的入射角的情况下将所述参考光引向所述照射部 位时，部分地遮挡所述参考光，以使得该参考光的入射角越大，参考光的 光束直径就越小。
图1是示出应用了本发明的全息记录装置的一个实施方式的立体图2是用于示出图1所示全息记录装置的主要部分的截面图3是用于说明图1所示全息记录装置的光学作用的截面图4是用于说明图1所示全息记录装置的光学作用的截面图5是用于说明没有主要构成部件时的光学作用的参考例的截面图6是示出应用了本发明的全息记录装置的其他实施方式的截面图7是用于说明图6所示全息记录装置的光学作用的截面图8是用于说明图6所示全息记录装置的光学作用的截面图9是示出应用了本发明的全息记录装置的其他实施方式的截面图IO是用于说明图9所示全息记录装置的光学作用的截面图11是用于说明图9所示全息记录装置的光学作用的截面图。
具体实施例方式
下面，参考附图对本发明的优选实施方式进行详细说明。 如图l所示，本发明一个实施方式的全息记录装置A对于圆盘形的全 息记录介质B，以向预定的方向倾斜地构成固定的入射角"(参考图2 等)的方式照射记录光S，并且以与该记录光S相反的方向倾斜的状态对 入射角进行可变控制来向记录光S的照射部位p照射参考光R，并通过这 些记录光S与参考光R之间的干涉来复用记录全息图。
全息记录装置A包括记录光用的光学系统和参考光用的光学系统，记 录光用的光学系统用于照射记录光S，参考光用的光学系统用于向全息记 录介质B可变地控制入射角地来照射参考光R。除图示之外，还设有用于 发射激光束的光源、用于将激光束分离为记录光S和参考光R的分束器、以及用于将激光束转换为平行光的准直透镜等。记录光用的光学系统包括
空间光调制器2、变焦透镜3、分束器4、以及记录光用的物镜5。参考光 用的光学系统包括记录用的可变反射部件(可变反射单元)10、遮光部件 (遮光单元)11、重放用的可变反射部件12、以及使它们一体地进行摆动 的摆动单元20。摆动单元20包括U字型的臂部件21以及驱动马达22。 记录用的可变反射部件10以及遮光部件11被固定在配置于全息记录介质 B上侧的臂部件21的一端。重放用可变反射部件12被固定在配置于全息 记录介质B下侧的臂部件21的另一端。臂部件21通过驱动马达22而围 绕沿全息记录介质B的径向大致平行的预定的轴x进行摆动。这些记录光 用的光学系统以及参考光用的光学系统被安装在可在全息记录介质B的径 向往复移动的移动头(省略图示)上。
如图2所示，全息记录介质B例如具有如下结构，g卩具有作为中间 层的光敏聚合物记录层90，并在该记录层90的两侧层叠了透光性的覆盖 层91、 92。在本实施方式中，例如记录层90的厚度为lmm左右，覆盖层 91、 92为0.5mm左右。当进行记录时，从全息记录介质B的上方照射记 录光S和参考光R。当进行重放时，从全息记录介质B的下方只照射参考 光R。
从图外的光源射出的激光束通过没有图示的准直透镜转换成平行光， 然后经分束器被分离为记录光S和参考光R。记录光S被引向空间光调制 器2，另外参考光R被引向记录用的可变反射部件IO或重放用的可变反射 部件12。
空间光调制器2例如由透过型液晶器件构成，其根据要记录的信息来 将入射的记录光S调制成二维像素图案的光。从空间光调制器2射出的记 录光S经变焦透镜3被引向分束器4，并最终经过记录光用的物镜5以固 定的入射角0照射在全息记录介质B上。在本实施方式中，作为一个示例 而将记录光的入射角0s设定为28deg。
如图2所示，记录用的可变反射部件10以及重放用的可变反射部件 12分别具有平面状的反射面10a、 12a，并且彼此成为一体地绕预定的轴x 摆动。记录用的可变反射部件IO的反射面10a将沿着相对于全息记录介质B大致垂直的方向前进的参考光R朝着照射部位p向斜下方反射。入射到
该反射面10a之前的参考光R的光束直径d总是固定的。重放用的可变反 射部件12的反射面12a将沿着相对于全息记录介质B大致平行方向前进 的参考光R朝着照射部位p向斜上方反射。虽没有特别进行图示，但向该 反射面12a入射的参考光R的光束直径也与记录时一样总是固定的。另 外，可变反射部件可以是电流镜。
遮光部件11与记录用的可变反射部件IO构成一体，并被设置在从反 射面10a引向照射部位p的参考光R的光路上。在该遮光部件11上设置 有开口部lla，以遮住从可变反射部件10的反射面10a朝着照射部位p前 进的参考光R中的对于照射部位p来说多余的光，并使其余的光穿过。在 本实施方式中，作为一个示例，开口部lla的宽度(在图2中为左右方向 上的尺寸)被设定为3.61mm。
在图2中示出了处于在摆动中心的位置处停止的状态的可变反射部件 10、 12以及遮光部件11。处于摆动中心的位置的记录用的可变反射部件 10的反射面10a与入射到该反射面10a上的参考光R所形成的角度(下 面，将其称为"倾斜角")为ce。入射到该反射面10a的参考光R的光束 直径d例如是2mm左右。在本实施方式中，作为一个示例，在反射面10a 反射而入射到照射部位p的参考光R的入射角^"在反射面10a处于摆动中 心的位置的状态下被设定为58deg。在参考光的入射角6r与反射面10a的 倾斜角a之间，有0F2a的关系成立。当在该条件下使参考光R的入射角 0r在士a (=15deg)的范围内变化时，反射面10a的倾斜角a绕预定的轴x 在士a/2 (=7.5deg)的范围内摆动。作为一个示例，对于遮光部件11处于 摆动中心的位置的状态下，将开口部lla的法线与参考光R所形成的角设 定为65.4deg。
重放用的可变反射部件12的反射面12a被设定为使重放时的参考光的 入射角与记录时的入射角0r相同。当将该反射面12a与入射的参考光R所 形成的角度设为/3时，在该角度^与参考光R的入射角0r之间，有0f90 一2/3的关系成立。
作为可变反射部件10、 12的摆动中心的预定的轴x被设定在以照射部位p为基准位置的预定的位置处，以使得参考光的入射角&随着反射面
10a向远离全息记录介质B的方向(逆时针方向)摆动而变小，并相反 地，使得参考光的入射角&随着反射面10a向接近全息记录介质B的方向 (顺时针方向)摆动而变大。具体而言，在本实施方式中，将预定的轴x 设置在从照射部位p中所包含的记录光S的焦点(省略图示)向下偏移 3.95mm、并向右偏移0.38mm的位置处。作为其他的尺寸，在处于摆动中 心的位置的状态下，将从反射面10a中的参考光R的入射中心位置到预定 的轴x的直线距离设定为15.18mm，将从遮光部件11的开口部lla中心到 预定的轴x的直线距离设定为6.42mm。
物镜5将记录光S汇聚后照射到照射部位p，以使其与参考光R重照 射部位p重叠。物镜5相对于全息记录介质B倾斜设置，以使得记录光S 以固定的入射角&照射。因此，对于参考光R来说，能够较大地改变入 射角0r而不受物镜5的遮挡。由此，可对参考光R的入射角0r进行更加 细致的多变量控制，容易提高全息图的复用度。如图2所示，在照射部位 p中包括通过记录光S与参考光R之间的干涉而实际记录全息图的部分 (下面称为"记录部分")p0、以及在记录部分p0的两侧仅被参考光R 曝光的部分(下面称为"不需要的曝光部分")pl。即，在全息记录介质 B的记录层90上形成由上述记录部分p0以及不需要的曝光部分pl构成的 单位记录区域，在该单位记录区域的记录部分p0随着参考光R的入射角 0r发生变化而复用记录不同干涉图案的全息图。
下面，对全息记录装置A的动作、特别是进行记录时的光学作用进行 说明。
如图2所示，在进行记录时可变反射部件10处于摆动中心的位置的 状态下，以固定的入射角& (=28deg)入射的记录光S与以预定的入射角 (=58deg)入射的参考光R在记录层90中发生干涉，从而与该参考光R 的入射角0r相应的全息图被记录在记录部分pO。在记录部分pO的两侧， 形成不与记录光S重叠而是仅由参考光R曝光的不需要的曝光部分pl 。
此时，对于从反射面10a向照射部位p前进的参考光R来说，其边缘 一部分的光被遮光部件11中的开口部lla的周边遮挡，而其余的光则穿过
9开口部lla到达照射部位p。即，参考光R变成向反射面10a入射之前的 光束直径d被遮光部件ll縮小若干的状态。因此，在记录部分pO的两侧 不会形成很大的仅由参考光R曝光的不需要的曝光部分pl。
接着，如图3所示，在以固定的入射角0s照射记录光S的状态下，使 参考光R的入射角从0r变为0r_a (=43deg)。此时，使记录用的可变反 射部件10以预定的轴x为中心向逆时针方向摆动，以使反射面10a的倾斜 角变为a—a/2 (=21.5deg)。由此，记录光S与以预定的入射角0r—a入 射的参考光R在记录层90中发生干涉。其结果是，与参考光R的入射角 0r—a相应的全息图以与前面己记录的全息图光学重叠的状态被记录在记 录部分p0。
此时，在记录部分p0的两侧也形成仅由参考光R曝光的不需要的曝 光部分pl。当参考光R的入射角从0r向0r—a变小时，参考光R几乎不 被遮光部件11所遮挡，从而以保持大致固定的光束直径d的状态到达照 射部位p。此时，根据照度余弦法则，照射部位p中的参考光R的照射宽 度变为最小，不需要的曝光部分pl的大小也变小。这样的不需要的曝光 部分pl成为不被记录全息图的部分，但是由于在被参考光R反复曝光时 灵敏度下降，因此该不需要的曝光部分pl不能再记录全息图。即，与照 射部位p相当的全息图的单位记录区域彼此以空出使不需要的曝光部分pl 不相重叠的程度的间隔来形成。
另外，如图4所示，在以周定的入射角0s照射记录光S的状态下，使 参考光R的入射角从^变为0r+a (=73deg)。此时，使记录用的可变反 射部件10与上述的动作相反，以预定的轴x为中心向顺时针方向摆动， 以使反射面10a的倾斜角变为(=36.5deg)。由此，记录光S与以预 定的入射角0r+a入射的参考光R在记录层90中进行干涉。其结果是，与 参考光R的入射角0r+a相应的全息图以与前面已记录的全息图光学重叠的 状态被记录在记录部分p0。
如上所述，在参考光R的入射角从&向^r+a变大时，对于从反射面 10a向照射部位p前进的参考光R来说，与入射角为0r的时候相比，其边 缘一部分的光被遮光部件11中的开口部lla的周边遮挡较多，而其余的光则穿过开口部lla到达照射部位p。 g卩，参考光R变成向反射面10a入射 之前的光束直径d被充分縮小的状态。因此，虽然在记录部分p0的两侧 形成仅由参考光R曝光的不需要的曝光部分pl，但不会形成很大的不需要 的曝光部分pl。
例如，在将向反射面10a入射之前的参考光R的光束直径d设为2mm 的情况下，到达照射部位p的时刻的参考光R的光束直径d'被遮光部件 ll縮小一定程度，从而参考光R的照射宽度变为d' /cos(0r+a)=3.42 d'。 将不需要的曝光部分pl包括在内的照射部位p的总宽度w例如变为 4.66mm。由此，空出4.66mm左右的间隔而形成单位记录区域。
作为参考例，图5示出了在与图4相同的状态下省略了遮光部件的结 构。如图5所示，当没有遮光部件时，光束直径d为2mm左右的参考光R 光束直径不被縮小而保持原样到达照射部位p。因此，参考光R的照射宽 度为d/cos (0r+a) =3.42d，将不需要的曝光部分pl包括在内的照射部位p 的总宽度w，例如达到7.66mm。即，必须空出7.66mm左右的间隔来形成 单位记录区域，与图4的情况相比必须确保1.7倍左右的间隔。由上述可 知，从获得高记录密度的方面来说，设有遮光部件11的本实施方式的结 构更为有利。
当进行重放时，在对重放用的可变反射部件12进行可变控制以获得 与记录时相同的入射角的情况下从全息图记录介质B的下方向复用记录了 全息图的记录部分p0照射参考光R。在记录部分p0通过参考光R与全息 图发生干涉而产生重放光，通过接收该重放光来重放被记录为全息图的信 息。另外，在原理上也可以与记录用的可变反射部件一样地在重放用的可 变反射部件上设置遮光部件。此时，能够尽可能地抑制在重放时由于不需 要的曝光而导致的散射等。
因此，根据本实施方式的全息图记录装置A，由于设置有与可变反射 部件10成为一体进行摆动的遮光部件11，因此即使参考光R的入射角 变得较大，多余的不需要的曝光部分pl也不会变得很大。由此，对于全 息图记录介质B来说，能够尽可能地縮小单位记录区域的间隔，进而能够 提高整体的记录密度。接着，对本发明的其他实施方式涉及的全息记录装置进行说明。另 外，对于与前面说明的实施方式相同或者类似的构成部分标注相同的标号 并省略其说明。
如图6 图8所示，其他实施方式的全息记录装置Al的参考光用的光 学系统包括记录用的可变反射部件(可变反射单元)10、遮光部件(遮光
单元)11、记录用的固定反射部件(固定反射单元)30、以及使可变反射 部件10与遮光部件11 一体地摆动的摆动单元20。摆动单元20包括支持 记录用的可变反射部件10以及遮光部件11的臂部件21、以及使该臂部件 21绕预定的轴x摆动的驱动马达22。可变反射部件10与遮光部件11以彼 此形成固定的角度的方式被固定在臂部件21的前端。另外，虽没有特别 图示，但在全息记录介质B的下侧设置了结构与记录用的可变反射部件和 固定反射部件等相同的重放用的可变反射部件和固定反射部件等。
参考光R大致与全息记录介质B平行地前进并入射到可变反射部件 10。可变反射部件IO朝着固定反射部件30向斜下方反射参考光R。固定 反射部件30被固定在作为全息记录介质B的上方的预定位置，并使得从 可变反射部件10引导而来的参考光R朝着照射部位p向斜下方反射。
遮光部件11与可变反射部件IO—体地摆动，并被设置在从固定反射 部件30引向照射部件p的参考光R的光路上。支持该遮光部件11的臂部 件21以绕过固定反射部件30的侧部的方式配置。由此，可使遮光部件ll 不与固定反射部件30发生干扰地进行摆动。
图6示出了处于在参考光R的入射角达到最小的位置处停止的状态的 可变反射部件IO和遮光部件11。在该图6的圆中放大示出了参考光R所 穿过的遮光部件11的周边附近。在参考光R的入射角达到最小的状态 下，参考光R几乎不被遮光部件11遮挡而照射到照射部位p上。作为可 变反射部件IO和遮光部件11的摆动中心的预定的轴x被设定在作为固定 反射部件30的后方的预定位置。
如图6所示，在可变反射部件10停止于参考光R的入射角达到最小 的位置处的状态下，以固定的入射角入射的记录光S与以最小入射角入射 的参考光R在记录层90中发生干涉，从而在记录部分p0记录全息图。在记录部分p0的两侧形成不与记录光S重叠而仅由参考光R曝光的不需要
的曝光部分pl。此时，参考光R不被遮光部件11遮挡而到达照射部位 p，照射部位p处的参考光R的照射宽度例如达到1.465mm左右。
接着，如图7所示，使可变反射部件10以及遮光部件11停止在向逆 时针方向稍稍旋转了的位置处，从而参考光R的入射角与图6的时候变 大。此时，如该图7的圆中所示，参考光R的左侧边缘的一部分被遮光部 件11遮挡，其余的光没有被遮光部件11遮挡而到达照射部位p。即，参 考光R变成向固定反射部件30入射之前的光束直径被遮光部件11縮小若 干的状态。由此，在记录部分p0的两侧不会形成很大的仅由参考光R曝 光的不需要的曝光部分pl 。此时的照射部位p处的参考光R的照射宽度例 如为1.549mm左右。
另外，如图8所示，使可变反射部件10以及遮光部件11停止在向逆 时针方向旋转了很大角度的位置处，使参考光R的入射角变为最大。此 时，如该图8的圆中所示，与图7的情况相比，参考光R的左侧边缘的一 部分被遮光部件11遮挡较多，其余的光不被遮光部件11遮挡而到达照射 部位p。由此，即使参考光R的入射角达到最大，在记录部分pO的两侧也 不会形成很大的仅由参考光R曝光的不需要的曝光部分pl。此时，照射部 位p中的参考光R的照射宽度例如为1.487mm左右。假如在没有遮光部件 的情况下如图8所示参考光的入射角达到了最大，则参考光保持固定的光 束直径进行照射，并且照射部位处的参考光的照射宽度例如达到2.042mm 左右，被扩大很多。
因此，根据本实施方式的全息记录装置Al，由于设置有与可变反射 部件10成为一体进行摆动的遮光部件11，因此即使参考光R的入射角变 得较大，多余的不需要的曝光部分pl也不会变得很大，其结果是能够尽 可能地縮小单位记录区域的间隔，进而能够提高整体的记录密度。
并且，如图9 图11所示，其他实施方式的全息记录装置A2的参考 光用的光学系统包括记录用的第一及第二的可变反射部件(第一及第二 可变反射单元)IOA、 IOB，与第一可变反射部件10A构成一体的第一及 第二遮光部件(遮光单元)IIA、 IIB，记录用的固定反射部件(固定反射
13单元)30、以及使第一及第二可变反射部件10A、 10B同时摆动的摆动单 元(省略图示)。第一及第二可变反射部件10A 、 IOB可分别绕穿过其自 身的轴(省略图示)摆动，并构成为彼此连动地进行摆动的结构。固定反 射部件30被固定在作为全息记录介质B的上方的预定位置，使得从第一 可变反射部件10A引导而来的参考光R朝着第二可变反射部件10B向斜 上方反射。虽没有特别图示，但在全息记录介质B的下侧设置了结构与记 录用的可变反射部件和固定反射部件等相同的重放用的两个可变反射部件 和固定反射部件等。
参考光R相对于全息记录介质B向斜下方前进并入射到第一可变反射 部件IOA。第一可变反射部件10A朝着固定反射部件30向斜下方反射参 考光R。固定反射部件30使从第一可变反射部件10A引导而来的参考光 R朝着第二可变反射部件10B向斜上方反射。第二可变反射部件IOB使从 固定反射部件30引导而来的参考光R朝着照射部位p向斜下方反射。在 第一可变反射部件IOA向逆时针方向摆动时，第二可变反射部件IOB被构 成为与第一可变反射部件10A相反地向顺时针方向摆动。在本实施方式 中，使第一及第二可变反射部件IOA、 IOB摆动，以使参考光R的入射角 取为48deg、 60.5deg、 73deg。
第一及第二遮光部件IIA、 11B与第一可变反射部件IOA—体地摆 动。第一遮光部件IIA被设置为可遮挡向第一可变反射部件IOA入射之前 的参考光R上侧边缘的一部分，第二遮光部件IIB被设置为可遮挡被第一 可变反射部件IOA反射之后的参考光R下侧边缘的一部分。
图9示出了处于在参考光R的入射角达到最小(48deg)的位置处停 止的状态的第一及第二可变反射部件IOA、 IOB。在参考光R的入射角达 到最小的状态下，参考光R几乎不被第一及第二遮光部件IIA、 IIB遮挡 而照射到照射部位p上。此时，以固定的入射角入射的记录光S与以最小 入射角入射的参考光R在记录层90中发生干涉，从而在记录部分p0记录 全息图。在记录部分p0的两侧，形成不与记录光S重叠而仅由参考光R 曝光的不需要的曝光部分pl。
接着，如图10所示，使第一及第二可变反射部件IOA、 IOB以向预定的方向稍稍旋转后的状态停止，从而参考光R的入射角比图9的时候变
大。此时，在第一可变反射部件IOA中，参考光R上侧边缘的一部分被第 一遮光部件IIA遮挡，并且参考光下侧边缘的一部分被第二遮光部件11B 遮挡，其余的光不被遮挡地到达照射部位p。例如，在将原来的光束直径 设为1.8mm时，刚要到达照射部位p之前的参考光R的光束直径为 1.41mm左右。因此，在记录部分p0的两侧不会形成很大的仅由参考光R 曝光的不需要的曝光部分pl。
此外，如图11所示，使第一及第二可变反射部件IOA、 IOB在向预定 的方向旋转了较大角度的状态下停止，从而参考光R的入射角变为最大 (73deg)。此时，在第一可变反射部件IOA中，与图IO的时候相比，参 考光R的上侧以及下侧边缘的一部分被第一以及第二遮光部件IIA、 11B 遮挡较多，其余的光不被遮挡而到达照射部位p。例如，此时刚要到达照 射部位p之前的参考光R的光束直径变为l.Olmm左右。由此，即使参考 光R的入射角达到最大，在记录部分p0的两侧也不会形成很大的仅由参 考光R曝光的不需要的曝光部分pl。假如在没有遮光部件的情况下如图 11所示参考光的入射角达到了最大，则参考光保持原来的光束直径 (1.8mm)进行照射，照射部位处的参考光的照射宽度被扩大很多。
因此，通过本实施方式的全息记录装置A2，由于设置有与第一可变 反射部件10A成为一体进行摆动的第一及第二遮光部件IIA、 IIB，因此 即使参考光R的入射角变得较大，多余的不需要的曝光部分pl也不会变 得很大，其结果是能够尽可能地縮小单位记录区域的间隔，进而能够提高 整体的记录密度。
另外，本发明并不限定于上述的实施方式。
在上述实施方式中示出的尺寸等只不过是一个示例，可根据规格适当 地改变设计。
权利要求
1. 一种全息记录装置，其向全息记录介质照射记录光，并且在可变地控制向所述全息记录介质的入射角的情况下向所述记录光的照射部位照射参考光，并通过这些记录光和参考光之间的干涉而在所述照射部位上复用记录全息图，所述全息记录装置的特征在于，包括至少一个可变反射单元，所述至少一个可变反射单元通过反射将所述参考光引向所述照射部位，并绕预定的轴摆动，以使所述参考光的入射角改变；以及遮光单元，所述遮光单元与所述可变反射单元一体地摆动，并部分地遮挡所述参考光，以使得所述参考光的入射角越大，所述参考光的光束直径就越小。
2. 如权利要求1所述的全息记录装置，其中，所述参考光沿固定的方向并以固定的光束直径向所述可变反射单元入 射，并且在被所述可变反射单元反射后穿过所述遮光单元照射在所述照射 部位。
3. 如权利要求1所述的全息记录装置，其中，包括用固定的反射面反射来自所述可变反射单元的所述参考光的固定 反射单元，所述参考光沿固定的方向并以固定的光束直径向所述可变反射 单元入射，并且在被所述可变反射单元反射之后被所述固定反射单元再次 反射，之后穿过所述遮光单元照射在所述照射部位上。
4. 如权利要求1所述的全息记录装置，其中，包括作为所述可变反射单元的第一及第二可变反射单元、以及固定反 射单元，该固定反射单元通过固定于这些第一及第二可变反射单元之间的 反射面来反射所述参考光；所述参考光沿固定的方向并以固定的光束直径向所述第一可变反射单 元入射，并且在刚要被所述第一可变反射单元反射之前以及刚被反射之后 穿过所述遮光单元被引向所述固定反射单元，之后，在被所述固定反射单 元反射后进一步被所述第二可变反射单元反射，由此被照射到所述照射部位上。
5. —种全息记录方法，该方法向全息记录介质照射记录光，并且在可 变地控制对所述全息记录介质的入射角的情况下向所述记录光的照射部位 照射参考光，并通过这些记录光和参考光之间的干涉而在所述照射部位上 复用记录全息图，所述全息记录方法的特征在于，当在可变地控制所述参考光的入射角的情况下将所述参考光引向所述 照射部位时，部分地遮挡所述参考光，以使得该参考光的入射角越大，参 考光的光束直径就越小。
全文摘要
全息记录装置以固定的入射角(θs)向全息记录介质(B)照射记录光(S)，并且在可变地控制对全息记录介质(B)的入射角(θr)的情况下向所述记录光(S)的照射部位(p)照射参考光(S)，从而对全息图进行复用记录，其中包括至少一个可变反射单元(10)，其通过反射将参考光(R)引向照射部位(p)，并绕预定轴(x)摆动，以使该参考光(R)的入射角(θr)改变；以及遮光单元(11)，其与可变反射单元(10)一体地摆动，并部分地遮挡参考光，以使得所述参考光(R)的入射角(θr)越大，该参考光(R)的光束直径就越小。
文档编号G11B7/135GK101449215SQ20068005470
公开日2009年6月3日 申请日期2006年6月9日 优先权日2006年6月9日
发明者吉川浩宁, 宇野和史, 山影让, 岩村康正, 手塚耕一 申请人:富士通株式会社