专利名称：光记录媒体及其制造方法
技术领域：
本发明涉及光记录媒体，具体来说，涉及基片上具有在特定波长区间例如400～800nm波长区间吸收特强(例如相对多地吸收该区间波长光)的化合物、即所谓色素材料所形成的记录膜，可用半导体激光写入信息，并可读出所写入信息的光记录媒体(或光记录盘)，及其制造方法。
背景技术：
如上所述的光记录媒体，已有记录膜中用色素材料，例如花青类、酞菁类等有机色素材料，用户可一次性写入信息的一次性写入式光盘(所谓CD-R光盘)作为光记录媒体进入实用化。
这种光盘的制造，要在基片上形成记录膜，一般采用旋涂法，将色素材料溶解于溶剂得到溶液，用旋涂机将它涂覆于基材上，并使之干燥。
这样形成的记录膜，通常厚度为0.1～0.3μm，基片整面厚度要求均匀。为了满足这些条件，提出了包含旋涂机转台精密控制在内的色素材料涂覆技术本身的技术开发，以及实施涂覆的周围环境和基片表面状态的全面管理等种种对策。
但上述旋涂法，若所要形成的记录膜其厚度很薄，例如近乎0.1μm的话，用现有的记录膜形成技术、记录膜形成环境管理等，将每张光盘间记录膜厚度误差和/或同一光盘内记录膜厚度误差抑制在规定范围，就不太容易了。
而且，旋涂法存在记录膜厚度沿盘片径向变化这种情况，具体来说，存在这样一种固有问题，即所形成的记录膜厚度趋向于盘片外周一侧比内周一侧厚。由于这种原因，因而存在极难在每张盘片间或同一盘片内稳定形成具有均匀厚度的记录膜这种问题。
此外还知道，可用其特征在于利用所谓干燥工艺之一的真空蒸镀法在基片上形成记录膜这种光记录媒体制造方法，来替代上述旋涂法。尽管推想此方法可改善所形成记录膜厚度的均匀性，但有生产效率低和尘埃附着这些其他问题。要高效地实施真空蒸镀法，希望减少和减轻这些问题，最好是实际解决这些问题。
发明概述本发明目的在于，提供一种减轻、最好实际解决上述问题，抑制每一光记录媒体间和/或同一光记录媒体内记录膜厚度误差所造成的光记录媒体性能误差，最好抑制或消除记录膜厚度误差、进而抑制或消除性能差异，直至基本上避免光记录媒体使用中问题的发生，使质量本身及其稳定性提高，可批量生产的光记录媒体，以及这种光记录媒体的制造方法。
为了达到上述目的，本发明其解决手段在于，在基片上靠蒸镀法形成由色素材料所成的记录膜时，在高于色素材料蒸发起始温度但低于2.5倍蒸发起始温度的、内含色素材料的蒸发容器的温度下，使色素材料蒸发，将它蒸镀到基片上。本申请说明书中，温度是指摄氏温度。
因而，本发明第一方面提供一种光记录媒体制造方法，通过在高真空下将色素材料蒸镀到基片上，来制造基片上具有记录膜的光记录媒体，其中包含一蒸镀工序，将内含色素材料的蒸发容器加热至高于色素材料蒸发起始温度但低于2.5倍蒸发起始温度的温度，最好是1.2～2.3倍蒸发起始温度的温度，由此使色素材料蒸发，将所蒸发的色素材料蒸镀到基片上。
具体来说，本发明所提供的光记录媒体例如一次性写入式光记录媒体的制造方法，包含下列工序(1)上述基片上形成记录膜的工序，(2)记录膜上形成反射膜的工序，和(3)反射膜上形成保护膜的工序。
因而，基片上形成有记录膜的状态(即具有记录膜的基片)，可视为光记录媒体的半成品(备用光记录媒体)。
对于工序(2)和(3)来说，可用公知方法和材料来实施。
本发明第二方面提供一种光记录媒体(例如CD-R或DVD-R)，具有在高真空下将色素材料蒸镀到基片上所形成的记录膜，其中所蒸镀的色素材料，随内含色素材料的蒸发容器加热至高于色素材料蒸发起始温度但低于2.5倍蒸发起始温度的温度，使色素材料蒸发，并蒸镀这样蒸发的色素材料，从而具有提高的记录膜厚度均匀性。
也就是说，本发明提供一种基片上具有用上述本发明方法所形成的记录膜，该记录膜上具有反射膜，而该反射膜上又具有保护膜的光记录媒体。
本发明中所说的记录膜厚度的均匀性，是指每一光记录媒体互相间的厚度误差或同一光记录媒体中的厚度误差、最好是两者的误差，至少与现有旋涂法所制造的光记录媒体相比具有同等误差，最好是更小。具体来说，光记录媒体记录层厚度的误差，相应于所要形成的规定厚度而变化，但本发明中可以减小为小于规定厚度的约±10％、最好是小于约±5％的误差。
本发明中，内含色素材料的蒸发容器，只要具有可保持色素材料进行加热并使之蒸发的功能就行，原则上来说，其材质、形状、大小等都没有具体限定。例如，容器可以是盘子，也可以是舟皿形状的，也可以是箱子形状或筒状的容器。
本发明中，色素材料的蒸发和蒸镀通常是在高真空下实施的。可用的具体真空度，一般可以是色素材料靠真空蒸镀形成记录膜过程中所用的操作压力。例如，相应于所用的色素材料、所成的记录膜厚度等，希望适当选择在10-3Torr以下，最好是10-4～10-7Torr范围。
附图简要说明
图1(a)是实施本发明方法制造光记录媒体时记录膜形成装置的概略构成图。
图1(b)是上述记录膜形成装置所用的保持基片的基片座的立体图。
图2是将蒸发容器辐射率作为参数表示蒸发容器温度(与蒸发起始温度之比)和色素材料蒸发速率之间关系的曲线图。
图3是示意按照本发明形成的光记录媒体一例局部结构的剖面图。
附图中标号表示下列组成部分1…进料室，2…表面处理室，3…记录膜形成室，4…反射膜形成室，5…取出室，6…闸阀，7…投入门扉，8…取出门扉，9…排气装置，10…基片，11…基片座，12…加热灯，13…放电电极，14…色素材料，15…蒸发容器，16…加热器，17…反射膜材料，18…蒸发容器，19…加热器，20…记录膜，21…反射膜，22…保护膜发明的详细说明本发明中所说的色素材料，是指光记录媒体中形成为信息记录层的光记录媒体记录膜其构成材料。具体来说，将能够随规定波长激光发生变化，在记录膜中形成记录坑点，并通过向记录膜照射特定波长激光再检出反射光，来读取记录膜所记录信息的材料称为色素材料。
本发明的色素材料，希望是光记录媒体记录膜中所用的有机色素材料为宜，例如可列举出偶氮类、酞菁类、蒽醌类、吡啶偶氮类、卟吩(ポリフイリン)类、苝类、喹吖啶类、吡咯并吡咯类、部花青类、苯乙烯基类、若丹明类、试卤灵(レヅルフイン)类、茜素类色素材料等。
本发明中所说的内含色素材料的蒸发容器的温度，是指保持色素材料的容器其至少一部分、即为了使色素材料蒸发而实际供热对色素材料加热的那部分温度。通常，这种部分可以是与色素材料相接触那部分，或与色素材料相接触部分及其附近。例如，可以是放入了色素材料的容器底面、即其上面配置有色素材料那部分温度。
本发明中所说的色素材料蒸发起始温度，是指在保持1×10-4Torr或以上真空度的腔室中，将色素材料放入蒸发容器(例如舟皿状容器，由钼制成)，通过加热蒸发容器来蒸发色素材料，使色素材料蒸镀到距蒸发容器30cm上方配置的光记录媒体用基片(由聚碳酸酯制成，为50℃或以下温度)形成记录膜时，通过其中埋设的热电偶测定蒸发容器的温度(与蒸发容器中配置的色素材料相接触那部分温度，即加热色素材料的温度)，并且，边通过石英振子型蒸发速率监视器(测定基片上所成的膜厚的装置，日本真空技术株式会社制造的产品名CRTM-5000)测定，边慢慢加热蒸发容器，当成膜速率超过1(/sec)时蒸发容器的温度。
如上所述，本发明中，实施真空蒸镀法时，通过将内含色素材料的蒸发容器加热至高于色素材料蒸发起始温度但低于2.5倍蒸发起始温度的温度，来确保相对稳定地加热色素材料，防止色素材料急剧加热。因此，实际上可以以分子水平在基片上形成记录膜，即便是形成膜厚为十分之1μm左右记录膜的场合，也能够就基片整体形成均匀性提高的记录膜。
在较佳实施例中，考虑成膜速度(进而考虑光记录媒体制造所需时间)，蒸发容器的加热温度可以是色素材料蒸发起始温度的1.5～2.3倍，尤其在1.8-2.2倍范围内，例如2倍。这种蒸发容器的加热温度，在选取酞菁类色素(例如铜酞菁)、卟吩(ポルフイリン)类、若丹明类、含金属偶氮类、苝类、喹吖啶类、吡咯并吡咯类、部花青类等色素作为色素材料形成记录膜时，配合得尤其好(例如参照下面示出的表1)。
本发明中，蒸发容器的加热温度设定为低于2.5倍色素材料蒸发起始温度时，(尽管可能随所用的色素材料和后面所述蒸发容器辐射率等的不同有所变化，但)一般来说，若将蒸发容器的加热温度设定为高于约1.5～2.0倍蒸发起始温度，便可以按与旋涂法大致相同量级的工序所需时间(节奏)形成记录膜。而且，蒸发容器的加热温度设定为低于2.5倍色素材料蒸发起始温度时，可抑制由于蒸发容器温度与蒸发容器内色素材料温度之间的不平衡而可能发生的飞溅，因此还可以减少飞溅所造成的尘埃附着。
本发明较佳实施例中，保持色素材料的蒸发容器中向色素材料供热的部分、通常指与色素材料相接触面中至少一部分，最好是与色素材料相接触面及其周围面、通常指蒸发容器规定放入色素材料部分的面(进而指蒸发容器表面)，其在蒸发容器加热温度下的辐射率至少为0.1，较好是至少为0.2，更好是至少为0.3，故可以有效加热色素材料。所说的辐射率，是指物体所辐射能量与理想黑体所辐射能量之比。
通过将蒸发容器表面辐射率设定为高于0.1，即便在真空中也能够有效地将热量传递至色素材料，因此可改善蒸发容器温度与色素材料温度之间的不平衡，飞溅进一步减少。具体来说，可以将钼、钽、钨这类金属、它们的氧化物、陶瓷材料等用于蒸发容器。用这些材料的某种组合(例如，钨制的舟皿状蒸发容器仅使保持色素材料的表面氧化的方式)也行。
本发明其他较佳实施例中，以电气方式直接加热保持色素的容器。例如，通过蒸发容器直接流过电流，用由此产生的焦耳热加热容器本身，来加快对色素材料的热传递，改善蒸发响应性，从而蒸镀速率容易控制。间接加热蒸发容器，与直接加热相比，需要温度更高的热源。但为了确保加热稳定，高温热源未必理想。因而，考虑到这点还是直接加热为好。
具体来说，蒸发容器可以是例如钼、钽、钨这类材料形成的例如舟皿状(整体而言是细长或矩形的盘子，而中央部分则具有存放色素材料的低洼部分这种形状的)容器，也可以是盘子两端与电流源连接、盘子流过电流以直接加热盘子这种结构。当然也可以间接加热蒸发容器(例如在蒸发容器中埋设加热器)。
以下参照附图更为详细地说明本发明。
图1(a)是光记录媒体制造方法中在塑料基片(一般用于光记录媒体的基片、例如聚碳酸酯基片)上形成记录膜工序其实施装置的概略构成图。
成膜装置是进料室(或预备室)1、表面处理室2、色素材料记录膜形成室3、反射膜形成室4和取出室5所组成的所谓5室一字型装置。各室间的隔板装配有闸阀6a、6b、6c和6d，进料室1装配有投入扉门7，而取出室5装配有取出扉门8。各室分别具有排气装置9a、9b、9c、9d和9e，由此可以排气，以独立维持规定的真空度。装上多张基片的基片座11依次通过这些室，在装置内输送基片。
光记录媒体经如下工序来制造首先将所需张数(图中示出的是3张)例如直径120mm的聚碳酸酯基片10装在基片座11上，打开投入扉门7后将该基片座11送入进料室1。
接下来，将进料室1抽排至规定真空度后，基片座11输送至已维持规定真空度的表面处理室2。在这里，靠加热灯12进行脱气处理(出气处理)，将基片上所附着的挥发成份(包括水分)除去，接着靠放电电极13对基片进行表面改质处理(尤其改善基片表面润湿性(基片与记录膜之间的附着性))。
脱气处理可以用例如远红外线加热器加热基片表面10秒钟左右达到例如80～120℃，除去基片所吸附的水份等来实施。表面改质处理例如可以向表面处理室2导入氧气和/或氩气，在放电电极上按13.56MHz加上500～1500V高频电压，产生等离子体，让该等离子体处理基片表面10秒钟左右来实施。
接着，将基片座11输送至保持规定真空度的色素材料记录膜形成室3，在这里按例如0.1～0.3μm范围的规定膜厚蒸镀例如偶氮类、酞菁类、恩醌类等色素材料14。蒸镀色素材料时的真空度，一般是在超过10-3Torr的高真空度下进行，但较好的是在10-4～10-7Torr、例如10-4Torr真空度下实施，色素材料的蒸发便进一步稳定。蒸发容器15可以由例如金属(例如钼、钨)、陶瓷材料(例如铝氧粉、氮化硅)制成，而表面由陶瓷包覆的金属、或者表面经氧化或氮化的金属制成，其形状为例如上部或顶部开口的中空圆柱或直方体，或者舟皿形状。
这种蒸发容器15做成为能够检出色素材料接触部分例如容器底面中央部位的温度。例如做成为在底面中央部位埋设热电偶，逐次监测蒸发容器15的温度。靠这样检测出的温度对蒸发容器加热温度进行控制，使之为低于2.5倍蒸发起始温度的规定温度。记录膜形成室中基片座附近的温度(进而是基片温度)通常可以是室温或与此相近的温度(例如20～50℃左右，尤其是30℃)。
而且，记录膜形成室3中在基片座配置位置附近设置了石英振子型蒸镀速率监测仪(未图示)，逐次监测基片上蒸镀的色素材料的厚度，由此结果计算得出色素材料的蒸镀速率，相应于所得到的蒸镀速率，调节蒸发容器的加热程度，可得到规定膜厚。蒸发容器加热温度也并不一定总是需要恒定，只要是低于2.5倍蒸发起始温度的温度，即便相应于蒸镀速率有所变动也行。
色素材料的蒸发，是将色素材料14放入蒸发容器15，利用电能由加热器16加热，使得蒸发容器15的温度达到本发明加热条件，例如大致100～600℃范围内的规定温度，并且边用石英振子型监测仪监测膜厚，边调整加热速度，控制色素材料的蒸发。所需的蒸发容器温度可根据色素材料的种类和蒸镀速率作适当选择，但不高于大约2.5倍蒸发起始温度。
接着，将基片座11移至反射膜形成室4，在记录膜上附着一层反射膜用材料(可以是一般用于光记录媒体的材料)。反射膜形成室4在其他蒸发容器18中存放有金、银、铝等反射膜用材料17，用利用电能的加热器19加热、蒸发，在记录膜上形成0.05～0.1μm膜厚的反射膜。此时，也可以采用其他成膜方法，例如离子镀膜法、等离子CVD法等利用真空条件的某种适当办法。
然后，基片座11移至取出室5，打开取出扉门8将它取出，送至下一工序，即保护膜形成工序，在这里完成光记录媒体。保护膜的形成是通过在反射膜上形成一层一般用于光记录媒体制造的材料(例如紫外线硬化树脂)来实施的。
本发明如上所述，其特征在于，侧重记录膜形成时色素材料在记录膜形成室3中的规定温度条件。
图2是示意酞菁类色素材料即铜酞菁的蒸镀速率随蒸发容器温度变动的曲线图。
将放入作为色素材料的铜酞菁粉末14的舟皿15送入记录膜形成室3，在1×10-4Torr真空度下，边靠埋设于相同位置的镍铬-镍铝热电偶测定粉末接触的舟皿底面温度(即蒸发容器温度)，边调节舟皿所流电流来加热蒸发容器，使色素材料蒸发。另外，基片及其附近温度为50℃。
如上所述，靠设于基片附近的石英振子型膜厚计(蒸镀速率监测仪)，作为蒸镀速率(这也对应于色素材料的蒸发速率)得到膜厚的形成速率(每秒钟基片上蒸镀的膜厚(/sec))。另外，图2中，蒸发容器温度按蒸发起始温度T(铜酞菁场合为180℃)归一化(即用蒸发容器温度与蒸发起始温度之比来表示。因而，2.5T相当于蒸发容器温度为450℃)。此外，图2中所说的现有工艺水平，是指用旋涂法形成记录膜场合员工序所需时间内形成的膜厚相对应的记录膜形成速度，也就是说，旋涂法所能达到的记录膜形成速度大约为50(/sec)。
另外，图2中X是蒸发容器与色素材料相接触面的表面辐射率为0.1的情形(用的是钼制舟皿)，Y是0.2的情形(用的是钽制舟皿)，Z是0.3情形(用的是钨制舟皿)。
采用上述铜酞菁的蒸镀实验，若归一化蒸发容器温度超过大约2.8，飞溅现象便会明显，在光记录媒体实用性方面可能有问题发生。
由图2显然可知，以大约2.5T的蒸发容器温度为界，蒸发容器温度提高的效果减少。所以，蒸发容器温度尽管高于2.5T，但得不到低于2.5T温度那种蒸发速率增大的效果。也就是说，图2曲线显然可由大约2.5T的蒸发容器温度分成2个区域(A区和B区)。A区是蒸镀速率随蒸发容器温度大致成正比增大的区域，而B区则是所形成的记录膜其蒸镀速率的增大开始产生饱和的区域。
蒸发容器温度一旦超过大约2.5T，并非不能实施蒸镀，但蒸发容器温度升高的效果会饱和或淡化，此外，若进一步提高蒸发容器温度，还会发生色素材料容易飞溅这种问题。实际在B区成膜的话(尤其高于2.8T时)，可以观察到，飞溅的发生频度急剧增高。而且，对于蒸镀速率的饱和现象来说，由于色素材料结块给其升华性带来不良影响，色素材料部分变质，以及用粉末色素时色素材料受到的热浪晃动等原因，结果可推定，很可能造成色素材料按飞溅这种形式飞散。
因而，要获得品质和性能稳定的记录膜，最好在A区成膜，而实际就A区来说，能够形成品质和性能均得到提高的记录膜。
如上所述这种蒸发容器温度同蒸镀速率之间关系以及同记录膜品质之间关系的倾向，在酞菁类以外有机色素材料(材料的组成元素可以部分是金属元素)，例如偶氮类、蒽醌类、吡啶偶氮类、卟吩(ボリフイリン)类、苝类、喹吖啶类、吡咯并吡咯类色素材料当中均发现同样存在。因而，在光记录媒体制造方面，一般认为保持蒸发起始温度和蒸发容器温度之间特定关系来形成记录膜较佳。
而且，比较曲线X、曲线Y和曲线Z可知，蒸发容器与色素材料相接触面的表面辐射率越大，所能达到的蒸镀速率越高。因而，较好是采用具有较大辐射率的材料所制成的蒸发容器，可以获得与现有工艺同等或比它更好的蒸镀速率，该速率能够在工序所需时间内生产，此外还可抑制飞溅，从而可获得品质提高的光记录媒体。这可推测，是由于辐射率大，因而对色素材料的热传递效率高，因此减少了蒸发容器和色素材料之间温度不平衡程度的缘故。
此外，蒸发容器直接流过电流，由焦耳热直接加热蒸发容器本身时，还有对色素材料的热传递迅速，可达到提高蒸发响应性的目的，色素材料容易进行蒸发控制这种优点。
利用真空蒸镀法制造光记录媒体的较佳实施例中，为了确保基片上记录膜面向均匀性，除了上述蒸发容器温度和色素材料蒸发起始温度之间关系以外，可通过调整色素材料蒸发容器的形状、基片座和蒸发容器之间的位置关系、膜厚修正用屏蔽板等来获得合适的记录膜。
此外，通过设置基片的自转公转机构，使基片座本身绕其中心自转(因而基片绕基片座中心转动)的同时，使所保持的基片绕基片中心自转，可有效抑制同一腔室中基片间记录膜性质的差异范围。
此外，除了石英振子型监测仪之外，也可以通过设置更高精度的光学型监测仪，或设置光闸机构进行记录膜膜厚管理，来进一步提高各批次间的均匀性。
图3中示意性地表示如上制作的光记录媒体其构成剖面图。光记录媒体形成为聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA)等塑料基片10、色素材料的记录膜20、反射膜21、保护膜22的迭层结构。保护膜22上可根据需要形成具有种种表示的印刷层。
本发明方法制造的光记录媒体，得到上述图2结果时，取蒸发容器加热温度为370℃，用钼制舟皿制造的光记录媒体，其色素材料的记录膜20的膜厚利用级差型膜厚计测定的话，该膜厚为0.1μm时，膜厚误差形成为在10％以内。此外，与自转公转机构组合的时候可形成误差在±5％以内。
而且，用光学显微镜对所得到的光记录媒体表面进行观察，或是由电气特性评价装置测定误差率，其结果可确认，与B区条件下制作记录膜的光记录媒体相比，A区条件下制作记录膜的光记录媒体其尘埃附着减少一个量级以上，因此误差率也减少一个量级以上。
另外，用作比较，还实施由旋转法涂覆的记录膜成膜，但其误差当膜厚0.1μm时为20～30％,0.2μm时为10～20％。这时涂覆时间需要20～30秒钟。
为了制作图2曲线图所进行的蒸镀法光记录媒体制作例和旋涂法光记录媒体制作例，其具体细节以及对所制作光记录媒体的评价法如下
(1)蒸镀法光记录媒体制造例(色素材料铜酞菁)(ⅰ)A区例子使放入铜酞菁的蒸发容器(钼制舟皿)流过80A电流进行加热(压力为3×10-5Torr)，蒸镀容器温度370℃时，打开光闸，向基片蒸镀色素，形成记录膜。此时的蒸镀速率为35/s。取出所得到的基片，通过放大镜对规定面积(10cm2)中的飞溅污斑进行计数，可确认有7个。
然后，蒸镀作为反射层的Au1000再取出。最后利用旋涂法形成5～10μm紫外线硬化树脂SD-301(大日本インキ公司制)作为保护层，经紫外线硬化炉硬化后制成光记录媒体。
由CD-R测试仪(バルスチツク公司制)对该光记录媒体进行评价的结果是区域误差率为40cps。
(ⅱ)B区例子在与上述(ⅰ)相同的蒸发容器中放入相同色素材料，流过110A电流进行加热，当蒸发容器温度达到550℃时，打开光闸，向基片蒸镀色素，形成记录膜。此时的蒸镀速率为60/s。取出基片用相同方法对飞溅污斑进行计数，可确认有70个。
再与上述(ⅰ)场合相同制作光记录媒体，评价结果区域误差率为300cps，作为光记录媒体品质存在问题。
(2)旋涂法光记录媒体制造例将花青色素OM55(富士照相胶片公司制)溶解于乙基溶纤剂(ェチルセロソルブ)，制成4重量％溶液，由旋涂机涂覆溶液并使之干燥，形成记录层。然后，溅射1000Au作为反射层，再与上述相同形成保护层，制造光记录媒体。
(3)膜厚测定法对成品盘片的膜厚测定用扫描型电子显微镜(SEM)观测和评价盘片剖面。
此外，与上述相同，还采用其他色素材料在基片上形成记录膜，得到光记录媒体，对其品质进行评价，得出对品质开始有影响的临界蒸发容器温度(Tc，即蒸发容器加热温度超过Tc便可能对光记录媒体品质产生影响)。以下表1中将此结果连同蒸发起始温度(T)一起给出。对品质的影响是如上所述，通过用放大镜目视观察有无飞溅污斑及其数量，和通过测定所得到的光记录媒体其区域误差率是否达220cps加以判断的。
表1色素材料蒸发起始温度临界温度 T/Tc(℃、T) (℃、Tc)铜酞菁(东京化成公司制) 180 500 2.8二[1-(4-甲基-2-吡啶基偶氮)-2- 170 420 2.5萘酚]锌*a)5,10,15,20-四(4-三氟苯基)21H,23H175 440 2.5卟吩(Aldrich公司制)部花青NK 2045 120 320 2.7(日本感光色素研究所制)若丹明B(东京化成制) 130 330 2.55,10,15,20-四(4-甲氧基苯基) 180 460 2.6卟吩钴(Ⅱ)(Aldrich公司制)紫色素GE 3315 220 550 2.5(苝类色素)(山阳色素公司制)红色素GE 3301 260 680 2.6(喹吖啶类色素)(山阳色素公司制)红色素GE 3312 200 520 2.6(吡咯并吡咯类色素)(山阳色素公司制)α,α,α,α-四(2,2,3,3,3-五氟丙氧基)170 430 2.5铜花菁*b)α,α,α,α-四[2-(三氟甲基)苯氧基]锌150 420 2.8花菁*c)*a)二〔1-(4-甲基-2-吡啶基偶氮)-2-萘酚〕锌的制造方法
(1)1-(4-甲基-2-吡啶基偶氮)-2-萘酚的合成往反应烧瓶中加入2-氨基-4-甲基吡啶16g、乙醇50ml、乙醇钠11g，边搅拌边用30分钟滴加亚硝酸异戊酯17g。
继续搅拌1小时后，开始加热，在75-80℃搅拌3小时。停止加热，将反应液冷却至室温后，用50分钟滴加将2-萘酚13g溶解在乙醇15ml中后而得到的溶液。
继续在室温加热1小时，并在75-80℃搅拌2小时后，停止加热，静置过夜。将反应液过滤，滤去不溶物，用旋转蒸发器将滤液浓缩固化。将固化物溶解在乙酸乙酯100ml中，用氢氧化钠水溶液、水依次洗涤后，用旋转蒸发器将乙酸乙酯相浓缩，往残留物中加入甲醇，进行结晶。将结晶滤集，干燥，得到2.7g橙红色结晶。
(2)二〔1-(4-甲基-2-吡啶基偶氮)-2-萘酚〕锌的合成往装有冷却管、搅拌器的反应烧瓶中加入由(1)得到的偶氮色素1.1g、乙酸锌二水合物0.45g、甲醇25ml，在55-60℃搅拌3小时。
停止加热，冷却至室温，滴加水10ml，过滤后得到紫红色粗结晶。将该粗结晶加入到甲醇20ml中，边加热边搅拌2小时后，冷却、过滤、干燥，得到纯化的结晶1.0g。
*b)α,α,α,α-四(2,2,3,3,3-五氟丙氧基)铜酞菁的制造方法(1)3-(2,2,3,3,3-五氟丙氧基)邻苯二甲腈的合成往反应烧瓶中加入3-硝基邻苯二甲腈8.7g、2,2,3,3,3-五氟丙醇9.0g、无水碳酸钾13.8g、二甲亚砜350ml，在氮气流下边搅拌边升温至50℃。在50℃搅拌4小时后，停止加热，将反应液冷却后，注入到水500ml中，滤集析出的结晶，干燥，得到13.2g的目的化合物。
(2)α,α,α,α-四(2,2,3,3,3-五氟丙氧基)铜酞菁的合成接着，往反应烧瓶中加入上述邻苯二甲腈衍生物13.1g、1-戊醇90ml、1,8-二氮杂双环〔5,4,0〕十一碳-7-烯(DBU)10.8g、氯化亚铜1.5g，在氮气流下边搅拌边升温至110℃。在110℃搅拌5小时后，停止加热，将反应液注入到甲醇400ml中，滤集析出的结晶，干燥，得到10.1g粗制品。将该粗制品溶解在二甲亚砜800ml中，边搅拌边升温至60℃，加入活性白土1g，搅拌30分钟，过滤，除去活性白土相后，用旋转蒸发器将滤液浓缩固化。将固态物分散在甲醇400ml中后，过滤、干燥，得到目的化合物α,α,α,α-四(2,2,3,3,3-五氟丙氧基)铜酞菁3.3g。
*c)α,α,α,α-四〔2-(三氟甲基)苯氧基〕锌酞菁的制造方法(1)3-〔2-(三氟甲基)苯氧基〕邻苯二甲腈的合成往装有冷却管的反应烧瓶中加入3-硝基邻苯二甲腈8.7g、2-(三氟甲基)苯酚9.4g、无水碳酸钾13.8g、二甲亚砜350ml，在氮气流下边搅拌边升温至50℃。在50℃搅拌3小时后，停止加热，将反应液冷却后，注入到水500ml中，滤集析出的结晶，干燥，得到13.5g的目的化合物。
(2)α,α,α,α-四〔2-(三氟甲基)苯氧基〕锌酞菁的合成接着，往装有冷却管的反应烧瓶中加入上述邻苯二甲腈衍生物3.5g、1-戊醇18ml、1,8-二氮杂双环〔5,4,0〕十一碳-7-烯(DBU)2.7g、氯化锌0.4g，在氮气流下于110℃搅拌5小时后，停止加热，将反应液注入到甲醇200ml中，再加入水40ml，滤集析出的结晶，干燥，得到1.8g粗制品。
通过柱色谱法(硅胶/甲苯∶乙酸乙酯=40∶1)对该粗制品进行纯化，得到目的化合物α,α,α,α-四〔2-(三氟甲基)苯氧基〕锌酞菁1.6g。
产业实用性综上所述，本发明在向基片蒸镀色素材料时，采取将加热色素材料的蒸发容器温度设定为低于2.5倍色素材料蒸发起始温度的方法，可抑制飞溅，减少尘埃附着，达到减少由此造成的误差的目的，可获得品质提高的光记录媒体。
而且，同一光记录媒体整面可获得例如约±10％以下的记录膜厚度均匀性，而且可获得不同光记录媒体间相同水平的均匀性。因此，可以抑制记录膜厚度不够均匀所造成的光记录媒体输出变化、最佳功率变化等电气性能差异。
此外，就记录膜形成时间而言，也可以按与现有方法(旋涂法)相同长短(例如20-30秒)时间形成记录膜。因而，本发明涉及利用干式工艺的光记录媒体制造，故具有较大实用价值。
权利要求
1．一种光记录媒体制造方法，通过在高真空下将色素材料蒸镀到基片上，来制造基片上具有记录膜的光记录媒体，其特征在于，将内含色素材料的蒸发容器加热至高于色素材料蒸发起始温度但低于2.5倍蒸发起始温度的温度，由此使色素材料蒸发，将所蒸发的色素材料蒸镀到基片上。
2．如权利要求1所述的光记录媒体制造方法，其特征在于，与色素材料接触的蒸发容器其至少一部分具有至少0.1的辐射率。
3．如权利要求1所述的光记录媒体制造方法，其特征在于，通过蒸发容器流过电流所产生的焦耳热加热蒸发容器本身，来进行蒸发容器的加热。
4．如权利要求1所述的光记录媒体制造方法，其特征在于，蒸发容器的加热温度为色素材料蒸发起始温度的1.2～2.3倍。
5．如权利要求1所述的光记录媒体制造方法，其特征在于，基片上形成的记录膜上，形成反射膜，再在该反射膜上形成保护膜。
6．一种光记录媒体，具有在高真空下将色素材料蒸镀到基片上所形成的记录膜，其特征在于，色素材料随内含色素材料的蒸发容器加热至高于色素材料蒸发起始温度但低于2.5倍蒸发起始温度的温度而蒸发，这样蒸发后便蒸镀到基片上。
7．如权利要求6所述的光记录媒体，其特征在于，具有记录膜上形成的反射膜和该反射膜上形成的保护膜。
全文摘要
本发明光记录媒体的制造方法,在高真空度条件下,通过蒸镀色素材料在基片上形成记录膜,其中,加热色素材料使之蒸发的蒸发容器的温度(℃)设定为低于2.5倍色素材料蒸发起始温度的温度。
文档编号G11B7/24GK1220761SQ98800392
公开日1999年6月23日 申请日期1998年3月30日 优先权日1997年3月31日
发明者国枝敏明, 冈崎祯之, 神山俊之 申请人:松下电器产业株式会社