专利名称：一种可调节凹模斜度的分散灌装料条系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及半导体分立器件封装设备，特别是一种可调节凹模斜度的分散灌装料 条系统。
背景技术：
在先申请201120001313公开了可调节凹模斜度的分散灌装料条系统，解决了半 导体分立器件封装设备需要大量的人力来手动灌装料条，容易造成产品外观不良主要表现 为手指印或表面划伤、效益低且人工成本高费时费力；需要液压冲床系统，设备损耗大同时 浪费电力的问题。但是底座和凹模底板组件之间采用固定连接的方式，使其在运转的过程 中不便于对凹模地板之间进行角度调节。
发明内容
为了解决现有技术的可调节凹模斜度的分散灌装料条系统，底座和凹模底板组件 之间采用固定连接的方式，使其在运转的过程中不便于对凹模地板之间进行角度调节问 题，本发明提供一种可调节凹模斜度的分散灌装料条系统。本发明的目的通过以下技术方案来具体实现
一种可调节凹模斜度的分散灌装料条系统，包括底座，其特征在于，在底座上安装一个 起支撑作用的滑动支撑架，所述滑动支撑架在底座上的位置可滑动调节，滑动支撑架呈L 形，并且在滑动支撑架的顶部安装有辊轮，在底座和滑动支撑架上架设具有凹模的凹模座 板组件，在底座和凹模座板组件之间的连接位置设有凹槽和铰接盖板，所述铰接盖板与凹 槽配合并将凹模座板组件的铰轴包含于其中，在凹模底板组件的一端铰接凸模刀架，并在 凸模刀架上安装凸模，所述凸模与凹模相配合。本发明提供的可调节凹模斜度的分散灌装料条系统，通过铰接盖板将底座和凹模 座板组件形成铰接端，而通过滑动支撑架的设置，可以使凹模座板组件的翻转角度可以进 行微调，使凹模座板组件的翻转变得更为容易，便于操作者进行相关的操作。
下面根据附图和实施例对本发明作进一步详细说明。图1是本发明实施例所述可调节凹模斜度的分散灌装料条系统的结构图。
具体实施例方式如图1所示，本发明实施例所述的一种可调节凹模斜度的分散灌装料条系统，包 括底座，在底座1上安装一个起支撑作用的滑动支撑架2，所述滑动支撑架2在底座上的位 置可滑动调节，滑动支撑架2呈L形，并且在滑动支撑架2的顶部安装有辊轮，在底座1和 滑动支撑架2上安装具有凹模6的凹模座板组件3，在凹模底板组件3的一端铰接凸模刀架 4，并在凸模刀架4上安装凸模5，所述凸模5与凹模6相配合，在底座和凹模座板组件3之间的连接位置设有凹槽和铰接盖板7，所述铰接盖板7与凹槽配合并将凹模座板组件3的铰 轴包含于其中。 本发明提供的可调节凹模斜度的分散灌装料条系统，通过铰接盖板将底座和凹模 座板组件形成铰接端，而通过滑动支撑架的设置，可以使凹模座板组件的翻转角度可以进 行微调，使凹模座板组件的翻转变得更为容易，便于操作者进行相关的操作。间的连接位置设有凹槽和铰接盖板7，所述铰接盖板7与凹槽配合并将凹模座板组件3的铰 轴包含于其中。 本发明提供的可调节凹模斜度的分散灌装料条系统，通过铰接盖板将底座和凹模 座板组件形成铰接端，而通过滑动支撑架的设置，可以使凹模座板组件的翻转角度可以进 行微调，使凹模座板组件的翻转变得更为容易，便于操作者进行相关的操作。
权利要求
1.一种可调节凹模斜度的分散灌装料条系统，包括底座，其特征在于，在底座上安装一个起支撑作用的滑动支撑架，所述滑动支撑架在底座上的位置可滑动调节，滑动支撑架呈L形，并且在滑动支撑架的顶部安装有辊轮，在底座和滑动支撑架上架设具有凹模的凹模座板组件，在底座和凹模座板组件之间的连接位置设有凹槽和铰接盖板，所述铰接盖板与凹槽配合并将凹模座板组件的铰轴包含于其中，在凹模底板组件的一端铰接凸模刀架，并在凸模刀架上安装凸模，所述凸模与凹模相配合。
全文摘要
本发明公开了一种可调节凹模斜度的分散灌装料条系统，包括底座，其特征在于，在底座上安装一个起支撑作用的滑动支撑架，所述滑动支撑架在底座上的位置可滑动调节，滑动支撑架呈L型，并且在滑动支撑架的顶部安装有辊轮，在底座和滑动支撑架上架设具有凹模的凹模座板组件，在底座和凹模座板组件之间的连接位置设有凹槽和铰接盖板，所述铰接盖板与凹槽配合并将凹模座板组件的铰轴包含于其中，在凹模底板组件的一端铰接凸模刀架，并在凸模刀架上安装凸模，所述凸模与凹模相配合。本发明提供的可调节凹模斜度的分散灌装料条系统，通过铰接盖板将底座和凹模座板组件形成铰接端，而通过滑动支撑架的设置，可以使凹模座板组件的翻转角度可以进行微调，使凹模座板组件的翻转变得更为容易，便于操作者进行相关的操作。
文档编号H01L21/67GK102956528SQ201210467570
公开日2013年3月6日 申请日期2012年11月19日 优先权日2012年11月19日
发明者鲍安良 申请人:无锡九条龙汽车设备有限公司