一种湿法刻蚀用盖板的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开一种湿法刻蚀用盖板，在刻蚀TFT基板的湿法刻蚀设备中位于所述TFT基板的竖直上方，所述盖板包括面向并倾斜于所述TFT基板的下表面。所述盖板由相互连接成人字形结构的两个侧板组成，每个侧板均包括面向并倾斜于所述TFT基板的下表面。所述盖板的下方沿与盖板设置的倾斜方向相垂直的方向间隔排列有多个凸条。所述凸条包括相互连接成人字形结构的两个侧边，且凸条的两端与盖板的下表面相固定，两个侧边的人字形结构连接处与盖板的下表面之间留有间距。本实用新型提供的湿法刻蚀用盖板，利用盖板下表面的凸条将盖板上凝结的药液滴引流至TFT基板的两侧，避免酸性液滴落到TFT基板上影响刻蚀均一性，从而提高产品合格率。
【专利说明】一种湿法刻蚀用盖板
【技术领域】
[0001]本实用新型属于湿法刻蚀的【技术领域】，尤其涉及一种湿法刻蚀用盖板。
【背景技术】
[0002]湿法刻蚀工艺主要是指采用液态化学品对被刻蚀物进行去除的技术。对TFT(ThinFilm Transistor)基板进行湿法刻蚀时，利用化学药液与刻蚀物进行化学反应，使无光刻胶覆盖的部分脱离TFT基板表面。在生产过程中，酸性液体的挥发和喷淋出的液滴附着在湿法刻蚀槽的盖板上，附着在盖板上的酸性小液滴逐渐累积，将逐渐凝结成大的酸性液滴，最终掉落到基板上，导致刻蚀不均，影响产品合格率。
实用新型内容
[0003]本实用新型提供一种湿法刻蚀用盖板，可以避免液滴落在基板上，提高产品合格率。
[0004]本实用新型提供一种湿法刻蚀用盖板，在刻蚀TFT基板的湿法刻蚀设备中位于所述TFT基板的竖直上方，所述盖板包括面向并倾斜于所述TFT基板的下表面。
[0005]进一步地，所述盖板由相互连接成人字形结构的两个侧板组成，每个侧板均包括面向并倾斜于所述TFT基板的下表面。
[0006]进一步地，所述盖板的下表面沿与盖板设置的倾斜方向相垂直的方向间隔形成有多个凹槽。
[0007]进一步地，所述盖板的下方沿与盖板设置的倾斜方向相垂直的方向间隔排列有多个凸条。
[0008]进一步地，所述凸条相对于盖板的下表面倾斜设置，且凸条的两端中距离TFT基板较近的一端与盖板的下表面相固定，距离TFT基板较远一端与盖板的下表面之间留有间距。
[0009]进一步地，所述凸条的上表面与盖板的下表面之间的夹角为10°?30°。
[0010]进一步地，所述凸条包括相互连接成人字形结构的两个侧边，且凸条的两端与盖板的下表面相固定，两个侧边的人字形结构连接处与盖板的下表面之间留有间距，且每个凸条的两个侧边的人字形结构连接处均朝向两个侧板的人字形结构连接处设置。
[0011]进一步地，所述两个侧板的下方均设置有相互平行设置的多个凸条。
[0012]进一步地，所述凸条的上表面与盖板的下表面之间的夹角为10°?30°。
[0013]进一步地，所述凸条的两个侧边之间的夹角、盖板的两个侧板之间的夹角均为120。?170。。
[0014]本实用新型具有的优点在于:
[0015]本实用新型提供的湿法刻蚀用盖板，利用盖板下表面将盖板上凝结的药液滴引流至TFT基板的两侧，避免酸性液滴落到TFT基板上影响刻蚀均一性，从而提高产品合格率。【专利附图】
【附图说明】
[0016]图1:本实用新型提供的湿法刻蚀用盖板的主视图；
[0017]图2:本实用新型提供的湿法刻蚀用盖板的仰视图；
[0018]图3:本实用新型提供的湿法刻蚀用盖板中凸条与盖板的位置关系示意图；
[0019]图4:本实用新型提供的湿法刻蚀用盖板与TFT基板传送方向的对照图；
[0020]图5:对于图4中凸条部分的局部放大图。
[0021]图中:1-盖板；101-两个侧板的人字形结构连接处；2-凸条；201-两个侧边的人字形结构连接处；3_TFT基板。
【具体实施方式】
[0022]下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好的理解本实用新型并能予以实施，但所举实施例不作为对本实用新型的限定。
[0023]实施例1提供一种湿法刻蚀用盖板，在刻蚀TFT基板3的湿法刻蚀设备中位于所述TFT基板3的竖直上方，所述盖板I包括面向并倾斜于所述TFT基板3的下表面。通过盖板I倾斜的下表面可以有效的将盖板I上凝结的药液引流至盖板I的侧边。
[0024]实施例2提供一种湿法刻蚀用盖板，与实施例1的区别在于，所述盖板I由相互连接成人字形结构的两个侧板组成。每个侧板均包括面向并倾斜于所述TFT基板的下表面。
[0025]实施例3提供一种湿法刻蚀用盖板，与实施例2的区别在于，所述盖板I沿板体长度方向间隔形成有多个凹槽。所述板体长度方向与盖板设置的倾斜方向相垂直。
[0026]实施例4提供一种湿法刻蚀用盖板，与实施例3的区别在于，所述盖板I沿板体长度方向间隔排列有多个凸条2。所述板体长度方向与盖板设置的倾斜方向相垂直。
[0027]实施例5提供一种湿法刻蚀用盖板，与实施例4的区别在于，所述盖板I该盖板I的下方可以倾斜设置多个凸条2，如图1所示，凸条2的两端中距离TFT基板3较近的一端与盖板I之间固定，距离TFT基板3较远的一端与盖板I之间保持一定间距而悬空。
[0028]实施例6提供一种湿法刻蚀用盖板，与实施例5的区别在于，可以使整个凸条2与盖板I的下表面之间的夹角为10°?30°，优选为20°。
[0029]所述盖板I的人字形结构的两个侧板之间的夹角Q1SUCT?170°，优选为120。。
[0030]实施例7提供一种湿法刻蚀用盖板，与实施例4的区别在于，如图2所示，所述盖板I的下表面设置有沿着盖板I纵向间隔一定距离设置的多个凸条2，所述凸条2也为人字形结构，包括左右连接的两个侧边，其中凸条2布置方向为使两个侧边的人字形结构连接处201朝向盖板的两个侧板的人字形结构连接处101。如图3所示，凸条2的两个侧边的端部与盖板I的下表面之间固定连接，两个侧边的人字形结构连接处201与盖板I的下表面之间相间隔，从而能够很好的收集液滴。
[0031]实施例8提供一种湿法刻蚀用盖板，与实施例7的区别在于，所述盖板I的两个侧板的下方均设置有相互平行设置的多个凸条2。
[0032]实施例9提供一种湿法刻蚀用盖板，与实施例8的区别在于，所述凸条2的上表面与盖板I的下表面之间的夹角为10°?30°。
[0033]实施例10提供一种湿法刻蚀用盖板，与实施例9的区别在于，所述凸条2的两个侧边之间的夹角、盖板I的两个侧板之间的夹角均为120°?170°。
[0034]如图4所示，刻蚀时TFT基板3的传送方向为沿着盖板I的纵向进行传送，即与盖板I短边即横向方向相垂直。如图5所示，为图4中凸条2位置的局部放大图，其中凸条2的下表面为圆弧形，便于液滴向下流动。
[0035]以上所述实施例仅是为充分说明本实用新型而所举的较佳的实施例，本实用新型的保护范围不限于此。本【技术领域】的技术人员在本实用新型基础上所作的等同替代或变换，均在本实用新型的保护范围之内。本实用新型的保护范围以权利要求书为准。
【权利要求】
1.一种湿法刻蚀用盖板，在刻蚀TFT基板的湿法刻蚀设备中位于所述TFT基板的竖直上方，其特征在于，所述盖板包括面向并倾斜于所述TFT基板的下表面。
2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀用盖板，其特征在于，所述盖板由相互连接成人字形结构的两个侧板组成，每个侧板均包括面向并倾斜于所述TFT基板的下表面。
3.根据权利要求2所述的湿法刻蚀用盖板，其特征在于，所述盖板的下表面沿与盖板设置的倾斜方向相垂直的方向间隔形成有多个凹槽。
4.根据权利要求2所述的湿法刻蚀用盖板，其特征在于，所述盖板的下方沿与盖板设置的倾斜方向相垂直的方向间隔排列有多个凸条。
5.根据权利要求4所述的湿法刻蚀用盖板，其特征在于，所述凸条相对于盖板的下表面倾斜设置，且凸条的两端中距离TFT基板较近的一端与盖板的下表面相固定，距离TFT基板较远一端与盖板的下表面之间留有间距。
6.根据权利要求5所述的湿法刻蚀用盖板，其特征在于，所述凸条的上表面与盖板的下表面之间的夹角为10°?30°。
7.根据权利要求4所述的湿法刻蚀用盖板，其特征在于，所述凸条包括相互连接成人字形结构的两个侧边，且凸条的两端与盖板的下表面相固定，两个侧边的人字形结构连接处与盖板的下表面之间留有间距，且每个凸条的两个侧边的人字形结构连接处均朝向两个侧板的人字形结构连接处设置。
8.根据权利要求7所述的湿法刻蚀用盖板，其特征在于，所述两个侧板的下方均设置有相互平行设置的多个凸条。
9.根据权利要求8所述的湿法刻蚀用盖板，其特征在于，所述凸条的上表面与盖板的下表面之间的夹角为10°?30°。
10.根据权利要求8所述的湿法刻蚀用盖板，其特征在于，所述凸条的两个侧边之间的夹角、盖板的两个侧板之间的夹角均为120°?170°。
【文档编号】H01L21/67GK203631508SQ201320818674
【公开日】2014年6月4日 申请日期:2013年12月13日 优先权日:2013年12月13日
【发明者】刘海亮, 李素华, 高峰 申请人:昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司, 昆山国显光电有限公司