渐变式方阻薄膜的制作方法与工艺

技术特征：
1.一种渐变式方阻薄膜，包括薄膜体(1)以及位于所述薄膜体(1)上的金属层(2)；其特征是：所述金属层(2)在薄膜体(1)的方阻值呈渐变分布；所述金属层(2)采用质量比为4：6的金属锌、金属铝蒸镀在薄膜体(1)上形成；所述金属层(2)的方阻值为2～20Ω/口，金属层(2)在薄膜体(1)上方阻值的分布特征为2e11t/5D，其中，e为常数2.718，D为薄膜体(1)的宽度，t∈[0D]。2.根据权利要求1所述的渐变式方阻薄膜，其特征是：所述薄膜体(1)采用聚丙烯薄膜。