一种干刻机腔室装置的制作方法

本实用新型涉及干法刻蚀技术领域，具体涉及一种干刻设备。

背景技术：

干刻蚀工艺是指以反应气体为主要媒体，在射频电场的作用下形成高密度等离子体，对半导体材料进行刻蚀，从而形成所需要的器件外形结构。

在干刻工艺过程中，会产生很多研磨颗粒等刻蚀残留物，虽然大部分残留物会随着气流循环的方向被抽走，但是少数仍会残留在腔室中，腐蚀腔室本体。所以在腔室中，通常会设置台板来沉积这些刻蚀残留物以防止其腐蚀腔室本体中的其他部件。图1所示为现有技术中的一种装置，用于支撑和固定台板5，如图1所示，支撑台1的上表面呈阶梯形，其中靠近外侧的平面3低于靠近内侧的平面4，固定部件2的一侧壁的中间位置设置有小凸部6，小凸部6置于平面3上，其上表面与平面4在同一平面上，共同支撑上方的台板5，螺钉7插入小凸部6将固定部件2固定在支撑台1上，则两固定部件2间的台板5也相应地固定在了固定部件2与支撑台1间。由于台板5和支撑台1一般都为金属板，它们侧壁相接触的位置很容易受反应气体的腐蚀，所以固定部件2不仅具有固定台板5的作用，其设置在台板5与支撑台1的侧壁相接触的位置，能够避免这个位置被腐蚀。为了能使固定部件2具有更强的耐腐蚀性，耐轰击性及耐高温性，固定部件2通常会选择陶瓷材料。从图1中，我们看出，由于固定部件2与支撑台1连接的部分(即小凸部6)较小，而且其结构设计需要小凸部6与支撑台1一起承担其上方台板5的重力，所以在使用中固定部件2很容易从小凸部6处发生断裂。另外，在刻蚀过程中产生的很多研磨微粒会附着在台板5和固定部件2上，所以到了一定周期就需要将固定部件2拆卸下来进行清洗，由于其陶瓷材质与结构设计等原因，在拆卸过程中也很容易损坏。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型实施例提供了一种干刻机腔室装置，对现有技术中的固定部件进行了改良，有效地解决了其易破损的问题，降低了清洗更换的破损风险，降低了生产成本。

本实用新型一实施例提供的一种干刻机腔室装置，包括支撑台、台板和固定部件，所述台板固定在所述支撑台顶部，所述支撑台顶部外侧边缘形成梯台，所述台板的侧壁与所述梯台的侧壁平齐，所述固定部件的侧壁设有凸部，所述凸部与所述梯台配合，所述凸部侧壁与所述台板和所述梯台的侧壁贴合；

其中，所述凸部的上下端面间距，与所述梯台高度及所述台板厚度之和相等；

其中，所述凸部的上下端面间距，高于所述梯台高度及所述台板厚度之和，高出所述台板的所述凸部的侧壁向所述台板中部延伸，部分遮挡所述台板的上端面；

其中，所述台板为铝板；

其中，所述支撑台为铝质材料制成的；

其中，所述固定部件为陶瓷材料制成的；

其中，所述凸部与支撑台通过螺钉固定连接。

本实用新型实施例所提供的干刻机腔室装置，通过加大固定部件与支撑台的连接体积以及将固定部件的凸部与台板进行并排设置这一技术方案，避免了支撑台与台板侧壁连接处受刻蚀气体腐蚀的同时，有效地解决了固定部件易破损的问题，降低了清洗更换的破损风险，降低了生产成本。

附图说明

图1所示为现有技术中的一种干刻机腔室装置的结构示意图。

图2所示为本实用新型一实施例提供的一种干刻机腔室装置的结构示意图。

图3所示为本实用新型另一实施例提供的一种干刻机腔室装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图2～3所示，本实用新型提供的干刻机腔室装置，包括支撑台1、台板5和固定部件8(或固定部件9)，台板5固定在支撑台1的顶部，支撑台1顶部外侧边缘形成梯台，台板5的侧壁10与梯台的侧壁11平齐，固定部件8的侧壁设有凸部12(固定部件9的侧壁设有凸部13)，凸部12(或凸部13)与梯台配合，凸部12(或凸部13)的侧壁与台板的侧壁10和梯台的侧壁11贴合。

其中，图2所示为本实用新型一实施例所提供的干刻机腔室装置的结构示意图。如图2所示，凸部12的上下端面间距，与梯台高度及台板5厚度之和相等。在本实用新型一实施例中，凸部12与支撑台1通过螺钉7固定连接，其中，螺钉7的头部套有陶瓷帽，以防止螺钉7的头部暴露在外面被刻蚀气体腐蚀。在另一实施例中，如图2所述，螺钉7穿过固定部件8的凸部12插入支撑台1，使固定部件8固定在支撑台1上，同时台板5也固定在了固定部件8与支撑台1之间。

本实用新型实施例提供的干刻机腔室装置，固定部件8的凸部12设置在台板5与支撑台1的侧壁连接处，有效地避免了连接处受刻蚀气体的腐蚀。本实施例的结构设计，凸部12一直延伸至固定部件8的顶部，增大了固定部件8与支撑台1的连接体积，从而减小了固定部件8断裂的风险，而且台板5的侧壁10与梯台的侧壁11平齐，使得凸部12可以与台板5并排放置，从而不必承担台板5的一部分重力，进一步减小了凸部12破损的概率。另外，与支撑台1固定连接的凸部8直接暴露于整个装置的外表面，需要清洗更换时可直接将固定部件8拆卸，再取下台板5即可，减小了台板5与凸部12间的相互摩擦，从而也降低了清洗更换时固定部件8的破损，降低了生产成本。

图3所示为本实用新型另一实施例所提供的干刻机腔室装置的结构示意图。如图3所示，本实施例中，凸部13的上下端面间距，高于梯台高度及台板5厚度之和，高出台板5的凸部13的侧壁向台板5中部延伸，部分遮挡台板5的上端面。本实用新型一实施例中，凸部13与支撑台1通过两个螺钉7固定连接，每个螺钉7的头部均套有陶瓷帽，其中一个螺钉7穿过固定部件9直接插入支撑台1，另一个螺钉7依次穿过凸部13及台板5插入支撑台1，使固定部件9固定在支撑台1上，同时台板5也固定在了凸部13以及支撑台1之间。

本实用新型实施例提供的干刻机腔室装置，高出台板5并向台板5中部延伸的凸部13进一步加大了固定部件9与支撑台1的连接体积，减小了其断裂的风险，同时凸部13部分遮挡了台板5的上端面，使得台板5被夹在支撑台1和凸部13贴合所形成的空间中，进一步加强了台板5与支撑台1及固定部件9间的牢固性。

在本实用新型一实施例中，台板5为铝板，支撑台1为铝质材料制成的。

在本实用新型另一实施例中，固定部件8或9为陶瓷材料制成的。

本实用新型实施例所提供的干刻机腔室装置，通过加大固定部件与支撑台的连接体积以及将固定部件的凸部与台板进行并排设置这一技术方案，避免了支撑台与台板侧壁连接处受刻蚀气体腐蚀的同时，有效地解决了固定部件易破损的问题，降低了清洗更换的破损风险，降低了生产成本。

本实用新型实施例所提供的以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。