技术特征：
技术总结
本发明涉及用于工艺感知维度目标的先进工艺控制，揭示数种用于特定工艺的先进工艺控制(APC)的方法。在晶圆上进行特定工艺(例如，光刻或蚀刻工艺)以建立由特征组成的图案。测量目标特征的参数并且将该参数的数值使用于APC。不过，APC的进行是基于调整参数值，而不是直接基于实际参数值。具体言之，应用一偏移量(其是先前基于所有特征的参数值分布的平均值而确定者)于实际参数值以获取一调整参数值，这更适于代表图案中的大多数特征。进行此APC方法可最小化每次在相同晶圆的另一区域上或在不同晶圆上使用该特定工艺产生相同图案时每一个图案的维度变异。
技术研发人员：P·亚申斯基;F·卡伦贝格;S·克兰普;R·席翁;R·泽尔特曼
受保护的技术使用者：格罗方德半导体公司
技术研发日：2017.05.05
技术公布日：2018.01.12