1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底、第一电极和像素界定层；
所述第一电极和所述像素界定层均设在所述衬底上，所述像素界定层设置在相邻的所述第一电极之间，且所述第一电极和所述像素界定层之间具有间隙。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括平坦层；
所述衬底具有与所述第一电极连接的TFT，所述平坦层设在所述衬底上以覆盖所述TFT，所述第一电极和所述像素界定层均设在所述平坦层上。
3.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极与所述像素界定层之间间隙的间距为1～10μm。
4.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极为金属氧化物导电层或金属导电层；
和/或所述第一电极的厚度为30～150nm。
5.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层为疏水性像素界定层。
6.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1至5任一项所述的显示基板。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，还包括发光功能层和第二电极；
所述发光功能层为有机电致发光功能层、量子点发光功能层或者所述有机电致发光功能层和所述量子点发光功能层相结合形成的混合发光功能层，所述发光功能层设于所述第一电极上；
所述第二电极设在所述发光功能层上或所述发光功能层和所述像素界定层上。
8.一种显示器，其特征在于，包括权利要求6或7所述的显示面板。
9.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供衬底；
在所述衬底上形成图案化的第一电极；
在相邻的所述第一电极之间形成像素界定层，并使所述第一电极和所述像素界定层之间具有间隙，即得。
10.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
按照权利要求9所述的显示基板的制作方法制备获得所述显示基板；
在所述第一电极上形成发光功能层；
在所述发光功能层上或所述发光功能层和所述像素界定层上形成第二电极；
封装，即得。