技术特征：
技术总结
本发明涉及一种晶圆清洗装置，包括对称设置在一晶圆两侧的清洗组件，清洗组件包括刷体、第一管路及第二管路；第一管路及第二管路均设置于刷体内，且第一管路套设于第二管路外，刷体外壁上设置有沿轴向螺旋形分布的凹槽；第二管路上设置有若干沿轴向螺旋形分布的支管，支管与凹槽的底部连通，第一管路中流经的清洗液对晶圆进行清洗，第二管路中流经的清洗液通过支管流入凹槽内以对刷体的外壁进行清洗。本发明能够减少刷体表面颗粒物的积累，还可以进一步提高刷体的自清洗能力。
技术研发人员：刘亚文
受保护的技术使用者：上海华力微电子有限公司
技术研发日：2018.08.31
技术公布日：2018.12.18