盖板和显示装置的制作方法

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种盖板和显示装置。

背景技术：

现有的一类有机发光二极管(oled)显示面板包括相对设置的显示基板和盖板。在显示基板内设置有机发光层，盖板则作为显示基板的保护结构。在显示基板中，通常在其中的有机发光层上设置透光的顶电极，有机发光层发出的光透过顶电极到达用户眼睛。为了增大透光率，顶电极的材料通常选取氧化铟锡(ito)、氧化铟锌(izo)或减薄的金属。但这类顶电极的电阻过大，产生的功耗过高，故需降低顶电极电阻。

技术实现要素：

本发明至少部分解决现有的有机发光二极管显示面板中如何有效地降低顶电极电阻的问题，提供一种盖板和显示装置。

根据本发明的第一方面，提供一种盖板，包括第一基底和设在第一基底上的辅助电极，在辅助电极的远离第一基底的表面上设置有导电支撑结构，所述导电支撑结构用于与显示基板的顶电极接触；导电支撑结构具有与辅助电极相接触的第一表面、与第一表面相对的第二表面、连通第一表面的中部区域和第二表面的中部区域的内部空间，在内部空间内填充有导电材料，在内部空间外包裹有有机绝缘材料。

可选地，所述有机绝缘材料包括绝缘光刻胶。

可选地，所述导电材料包括导电光刻胶。

可选地，所述导电光刻胶包括光刻胶本体和掺杂在所述光刻胶本体中导电金属颗粒。

可选地，所述导电光刻胶中，所述导电金属颗粒的质量占比在50％-80％之间。

可选地，所述导电材料包括磁性金属颗粒和导电接触物，磁性金属颗粒填充在所述第一表面上，导电接触物填充在磁性金属颗粒的远离所述第一表面的界面上。

可选地，所述磁性金属颗粒的总体积为所述内部空间体积的20％-50％。

可选地，所述导电材料的靠近所述第二表面的界面与所述第二表面平齐。

可选地，在所述第一基底与所述辅助电极之间还设置有黑矩阵，所述导电支撑结构在所述第一基底的投影位于所述黑矩阵在所述第一基底上的投影的内部。

根据本发明的第二方面，提供一种显示装置，包括显示基板和盖板，显示基板包括裸露的顶电极，盖板为根据本发明第一方面所提供的盖板，顶电极与所述导电支撑结构中的导电材料相接触。

可选地，所述显示基板包括一体的有机发光层和多个呈凸起状的像素界定层，有机发光层覆盖像素界定层，所述顶电极为一体结构且覆盖有机发光层，所述导电支撑结构的位置与像素界定层的位置相对应。

附图说明

图1为现有的oled显示面板的截面图；

图2为本发明的实施例的一种盖板的截面图；

图3为本发明的实施例的一种显示面板的截面图；

其中，附图标记为：1、盖板；11、第一基底；12、彩膜；13、黑矩阵；14、平坦层；15、凸起块；16、辅助电极；2、显示基板；21、第二基底；22、像素界定层；23、有机发光层；24、顶电极；3、导电支撑结构；31、导电材料；32、有机绝缘材料；311、导电接触物；312、磁性金属颗粒。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

在本发明中，“构图工艺”是指形成具有特定的图形的结构的步骤，其可为光刻工艺，光刻工艺包括形成材料层、涂布光刻胶、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等步骤中的一步或多步；当然，“构图工艺”也可为压印工艺、喷墨打印工艺等其它工艺。

实施例1：

如图1所示，现有降低顶电极24电阻的方法是在盖板1上设置辅助电极16，辅助电极16的选材同样为氧化铟锡(ito)、氧化铟锌(izo)或减薄的金属等透明材料。在盖板1的对应显示基板2的像素界定层22位置处(此处为非显示区域)，辅助电极16被凸起块15顶起，正好与像素界定层22所顶起的顶电极24的凸起部分相对。

但在显示基板2与盖板1封装压合的过程中，由于顶电极24和辅助电极16都是硬质且相对较脆的材料形成，如压合力过大，容易造成辅助电极16的脆裂、甚至是断开，这就无法达到降低顶电极24电阻的目的。

本实施例提供一种盖板1，包括第一基底11和设在第一基底11上的辅助电极16，在辅助电极16的远离第一基底11的表面上设置有导电支撑结构3，导电支撑结构3用于与显示基板2的顶电极24接触；导电支撑结构3具有与辅助电极16相接触的第一表面、与第一表面相对的第二表面、连通第一表面的中部区域和第二表面的中部区域的内部空间，在内部空间内填充有导电材料31，在内部空间外包裹有有机绝缘材料32。

盖板1上的辅助电极16用于在后续应用中与显示基板2的顶电极24并联，从而降低顶电极24整体的等效电阻。

辅助电极16与顶电极24的电连接通过导电支撑结构3实现。参见图2，按照图2当前视角，导电支撑结构3中的导电材料31的前后左右被一圈有机绝缘材料32包裹。而这个导电材料31是与辅助电极16接触并电连接的。

参见图3，如将该盖板1应用于显示面板中，二者对合时，导电支撑结构3中的导电材料31与显示基板2中的顶电极24接触从而实现电连接，进而实现顶电极24与辅助电极16的电连接。而导电支撑结构3外围的有机绝缘材料32因其具有一定的弹性，在压合的过程中可以起到对导电材料31的保护作用，从而避免导电材料31受损而使得辅助电极16与顶电极24的连接失败。

可选地，导电支撑结构3的高度在5-10um之间。该高度过低不易加工，而该高度过高则导电材料31还是容易脆裂。导电支撑结构3的截面直径优选在15-20um之间，该直径范围与通常的黑矩阵的尺寸相对应。

可选地，有机绝缘材料32包括绝缘光刻胶。通常的光刻胶大多都是绝缘光刻胶，可以利用现有的光刻胶的构图工艺(例如包括曝光、显影、烘培等工艺)制作出上述有机绝缘材料32的外形结构。即利用现有的半导体工艺即可制作出上述有机绝缘材料32的外形。绝缘光刻胶的外形还可以依照lift-off方法形成。

可选地，导电材料31包括导电光刻胶。这种实施方式下，可通过首先形成有机绝缘材料32的外形，然后旋涂导电光刻胶，再将有机绝缘材料32以外的导电光刻胶刻蚀除去的方法制得导电支撑结构3。

可选地，导电光刻胶包括光刻胶本体和掺杂在光刻胶本体中导电金属颗粒。例如将导电金属颗粒(优选直径在10nm-100nm之间)掺入热塑性树脂、芳香族醇类衍生物或安息香醚类衍生物等光敏剂中。当然该光敏剂中还可掺入其他的常用的添加剂。

为降低导电材料31自身的电阻，导电材料31的电阻率优选应低于1×10^-7ω*m。

可选地，导电光刻胶中，导电金属颗粒的质量占比在50％-80％之间。导电金属颗粒的质量占比过大，则导电光刻胶本身会更脆，不利于结构的稳定性；该质量占比过低，则导电光刻胶的电阻率会过大。

可选地，导电光刻胶的截面占导电支撑结构3的截面的面积占比优选在50％-80％。该面积占比过小则不利于降低导电光刻胶自身的电阻，该面积占比过大则不易加工。

可选地，参见图2，导电材料31包括磁性金属颗粒312和导电接触物311，磁性金属颗粒312填充在第一表面上，导电接触物311填充在磁性金属颗粒312的远离第一表面的界面上。

也即是由磁性金属颗粒312直接接触并电连接辅助电极16，而由导电接触物311直接接触并电连接顶电极24。磁性金属颗粒312的材料例如是fe、ni、co等，当然也可是这类磁性金属的混合物形成的微小颗粒。该导电接触物311例如也可以是由导电光刻胶形成。

在这种实施方式中，当盖板1与显示基板2压合时，可通过外加磁场将磁性金属颗粒312向显示基板2的方向吸引，从而使导电接触物311与顶电极24的接触更实，二者的接触电阻更低。

在这种实施方式中，进一步优选地，导电接触物311本身也由磁性材料形成。如此，导电接触物311受外加磁场的吸引，从而其与顶电极24的接触电阻进一步降低。

磁性金属颗粒312例如可通过打印的工艺注入到有机绝缘材料32形成的柱形中内部空间内。

可选地，磁性金属颗粒312的总体积为内部空间体积的20％-50％。磁性金属颗粒312的体积占比过小，则其受磁力助推导电接触物311的效果不明显，而其体积占比过大，则其参与形成的导电材料31外形不稳定。

可选地，导电材料31的靠近第二表面的界面与第二表面平齐。如此，有利于导电材料31与顶电极24的接触。当然，按照图2的视角，导电材料31也可以略低于第二表面的界面(即略低于有机绝缘材料32的高度)，如此更有利于导电材料31的形状的稳定性。导电材料31也可以略高于第二表面的界面(即略高于有机绝缘材料32的高度)，只是不可超出过多。

可选地，参见图2，在第一基底11与辅助电极16之间还设置有黑矩阵13，导电支撑结构3在第一基底11的投影位于黑矩阵13在第一基底11上的投影的内部。

在黑矩阵13之间设置的彩膜12，在后续应用中，其对应的是显示基板2的发光区域。导电支撑结构3在第一基底11的投影位于黑矩阵13在第一基底11上的投影的内部的目的是避免导电支撑结构3对显发光区域的光线造成遮蔽。

图2中还示出了覆盖彩膜12的平坦层14。平坦层14的选材例如是苯酚基树脂、聚丙烯基树脂、聚酰亚胺基树脂、丙烯基树脂等，它们可利用旋涂的工艺覆盖在彩膜12上。平坦层14的厚度优选在1-2um。

以上导电支撑结构3可以是间隔一个亚像素(相邻像素界定层之间限定了一个亚像素)设置，也可以是间隔多个亚像素设置，本领域技术人员可灵活调整。

实施例2：

本实施例提供一种显示装置，参加图3，包括显示基板2和盖板1，显示基板2包括裸露的顶电极24，盖板1为根据本发明实施例1所提供的盖板1，顶电极24与导电支撑结构3中的导电材料31相接触。

即将实施例1提供的盖板1与显示基板2对合，盖板1中的导电支撑结构3的导电材料31与顶电极24相接触从而实现电连接，进而实现顶电极24与辅助电极16的电连接。同一块辅助电极16的至少两个位置处与顶电极24电连接，便可实现二者的并联，从而降低了顶电极24整体的电阻。

可选地，显示基板2包括一体的有机发光层23和多个呈凸起状的像素界定层22，有机发光层23覆盖像素界定层22，顶电极24为一体结构(当然也可以是多块，但所连接的电位相同)且覆盖有机发光层23，导电支撑结构3的位置与像素界定层22的位置相对应。像素界定层22形成在第二基底21上，二者之间可能还设置有其他结构，但因均为常规设计且与本发明要解决的技术问题无关，故并未画出。

在这个具体的例子中，像素界定层22的位置也即是非显示区域的位置，导电支撑结构3在这个位置处与顶电极24相接触，并不会对正常的显示造成影响。

具体的，上述显示装置可为有机发光二极管(oled)显示面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。