本实用新型涉及的是一种半导体领域的技术，具体是一种化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱。
背景技术：
半导体加工过程中，需要进行化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)，是利用加热等离子体激励或光辐射等方法，使气态或蒸汽状态的化学物质发生反应并以原子态沉积在置于适当位置的衬底上，从而形成所需要的固态薄膜或涂层的过程。
化学气相沉积是一种非常灵活、应用极为广泛的工艺方法，可以用来制备各种涂层、粉末、纤维和成型元器件。特别在半导体材料的生产方面，化学气相沉积的外延生长显示出与其他外延方法(如分子束外延、液相外延)无与伦比的优越性，即使在化学性质完全不同的衬底上，利用化学气相沉积也能产生出晶格常数与衬底匹配良好的外延薄膜。此外，利用化学气相沉积还可生产耐磨、耐蚀、抗氧化、抗冲蚀等功能涂层。在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用CVD方法制备。
高密度等离子体化学气相沉积设备，是在腔体内的高温环境下，通过特定的工艺气体在等离子体增强条件下，在硅片的表面进行化学气相沉积进而形成薄膜的设备。
高密度等离子体化学气相沉积设备中存在大量的电容和电感，主要用于射频环中的负载匹配，使得射频能量能够得到最大效能以及精准控制。出于工艺要求，等离子体需要处于长时间的工作状态，且在高深款比填充中的需要多次进行高低功率的快速切换，这使得设备中的电容长期处于工作状态下，所以经常容易发生电容爆浆现象。
发生电容爆浆后，电容内的大量不明物质以及金属会粘附于高密度等离子体化学气相沉积设备内的元器件上，也无法有效的去除，这样会对工艺腔体造成损伤，进而影响产品质量。
技术实现要素：
本实用新型针对现有技术存在的上述不足，提出一种化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱，能够将化学气相沉积设备中的电容与其它器件隔离，从而当电容爆浆时，能够有效的阻止电容爆浆产生的污染物对其它器件造成损害，提高了整个设备的安全性。
本实用新型是通过以下技术方案实现的：
本实用新型涉及一种化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱，包括：
呈圆柱形的箱体；
设置于所述箱体内的呈矩形的分隔挡板，所述分隔挡板的宽度方向与所述箱体的轴向平行，且长度方向与所述箱体的径向平行，所述分隔挡板的一端与所述箱体的内壁相接；
呈半圆形的绝缘片，所述绝缘片设置于所述分隔挡板的另一端；
所述绝缘片的上部的表面与所述分隔挡板的下长边相连，所述绝缘片的下部的空间形成一电容安装区域，所述绝缘片的上部的位于所述分隔挡板两侧的空间分别形成一第一器件安装区域和一第二器件安装区域。
优选的，该化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱，其中，所述绝缘片通过一呈矩形的连接板与所述分隔挡板相连，所述连接板设置于所述绝缘片的上部的表面且沿所述绝缘片的直线边缘设置。
优选的，该化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱，其中，所述绝缘片通过多个螺栓与所述连接板相连。
优选的，该化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱，其中，所述绝缘片的材料为绝缘橡胶。
优选的，该化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱，其中，所述绝缘片设有两个对称的条形通孔。
优选的，该化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱，其中，所述绝缘片的上部的所述箱体内壁设有两个对称设置的支撑条，所述支撑条的一端固定于所述箱体的内壁，另一端穿设于所述条形通孔。
优选的，该化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱，其中，所述绝缘片的弧形边缘处设有多个用于与所述箱体的内壁连接的连接通孔。
优选的，该化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱，其中，所述连接通孔沿所述绝缘片的所述弧形边缘均匀分布。
上述技术方案的有益效果是：
本实用新型能够将化学气相沉积设备中的电容与其它器件隔离，从而当电容爆浆时，能够有效的阻止电容爆浆产生的污染物对其它器件造成损害，提高了整个设备的安全性。
附图说明
图1为本实用新型的较佳的实施例中，一种化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱俯视示意图；
图2为本实用新型的较佳的实施例中，一种化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱仰视示意图；
图3为本实用新型的较佳的实施例中，一种化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱中的绝缘片的立体示意图；
图4为本实用新型的较佳的实施例中，一种化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱中的绝缘片的正视图；
图中：1箱体、2分隔挡板、3绝缘片、4连接板、5支撑条、6第一器件安装区域、7第二器件安装区域、8电容安装区域、9电容、31条形通孔、32连接通孔。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，但不作为本实用新型的限定。
本实施例涉及一种化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱，其能够将化学气相沉积设备中的电容与其它器件隔离，从而当电容爆浆时，能够有效的阻止电容爆浆产生的污染物对其它器件造成损害，提高了整个设备的安全性。
如图1～2所示，本实施例中的化学气相沉积设备的电容爆浆防护器件箱包括：
呈圆柱形的箱体1；
设置于箱体1内的呈矩形的分隔挡板2，分隔挡板2的宽度方向与箱体1的轴向平行，且长度方向与箱体1的径向平行，分隔挡板2的一端与箱体1的内壁相接；
呈半圆形的绝缘片3，绝缘片3设置于分隔挡板2的另一端；
绝缘片3的上部的表面与分隔挡板2的下长边相连，绝缘片3的下部空间形成一电容安装区域8，绝缘片3的上部的位于分隔挡板2两侧的空间分别形成一第一器件安装区域6和一第二器件安装区域7。
设置于箱体1内的分隔挡板2沿箱体1的截面的一条直径设置，分隔挡板2的宽度方向平行于箱体1的轴向。分隔挡板2的一端与箱体1内壁相接触，另一端不和箱体1内壁接触。
分隔挡板2的不和箱体1内壁接触的一端设有绝缘片3。
绝缘片3通过一呈矩形的连接板4与分隔挡板2相连，连接板4设置于绝缘片3的上部的表面且沿绝缘片3的直线边缘设置。
连接板4的中部与分隔挡板2的下部表面相连，连接板4与分隔挡板2相互垂直。
如图3～4所示，绝缘片3为半圆形，绝缘片3设有两个对称的条形通孔31。
绝缘片3的上部的箱体1内壁设有两个对称设置的支撑条5，支撑条5的一端固定于箱体1的内壁，另一端穿设于条形通孔31。绝缘片3通过多个螺栓与连接板4相连。
绝缘片3的弧形边缘处设有多个用于与箱体1的内壁连接的连接通孔32。连接通孔32沿绝缘片3的弧形边缘即周向均匀分布。绝缘片3的弧形边缘通过螺钉与箱体1的内壁相连，螺钉穿过连接孔以固定该弧形边缘。
较佳的实施例中，绝缘板的材料可以为绝缘橡胶。
分隔挡板2的左右两侧形成第一器件安装区域6和第二器件安装区域7，这两个区域都是位于绝缘片3的上部。而位于绝缘片3的下部的空间作为电容安装区域8，设备中的电容9放置于电容安装区域8即位于绝缘片3的下部。这样，就将设备的电容9和其它器件分隔，当电容发生电容爆浆时，爆浆产生的污染物被绝缘片3阻挡，从而防止了污染物对上部器件的损害。
本装置与现有技术相比，本实用新型能够将化学气相沉积设备中的电容与其它器件隔离，从而当电容爆浆时，能够有效的阻止电容爆浆产生的污染物对其它器件造成损害，提高了整个设备的安全性。
以上所述仅为本实用新型较佳的实施例，并非因此限制本实用新型的实施方式及保护范围，对于本领域技术人员而言，应当能够意识到凡运用本实用新型说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案，均应当包含在本实用新型的保护范围内。