基板处理装置及基板处理方法与流程

本发明涉及一种用于对基板进行处理的装置及方法。作为处理的对象的基板例如包括半导体晶片、液晶显示装置用基板、等离子显示器用基板、fed(fieldemissiondisplay：场发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳电池用基板等。

背景技术：

在半导体装置等的制造工序中，会进行用于去除附着在基板表面上的异物的清洗处理。例如，专利文献1公开有一种基板清洗系统，其执行如下工序：对基板的主面供给含有挥发成分的成膜用处理液；通过使挥发成分蒸发而使成膜用处理液固化或硬化来在基板的主面上形成膜；以及利用去除液去除基板主面上的膜。当成膜用处理液固化或硬化时会产生体积收缩，并且若被供给去除液则会因膜的溶胀而产生体积膨胀。当体积收缩及膨胀时拉伸力会对基板上的微粒起作用，使微粒从基板主面(包含图案的表面)脱离。由此，能够去除基板主面的微粒。

在专利文献1的图14中，示出具有第一处理部、第二处理部以及第三处理部的基板清洗装置。通过基板运送装置将从载体取出的基板送入第一处理部。第一处理部对基板供给面涂(topcoat)液作为成膜用处理液。通过所述基板运送装置将供给有面涂液的基板从第一处理部取出，并送入第三处理部。第三处理部通过热板(hotplate)来对基板进行加热，使面涂液中的挥发成分挥发。由此，面涂液在体积收缩的同时固化或硬化，从而形成面涂膜。通过所述基板运送装置将形成有面涂膜的基板从第三处理部取出，并送入第二处理部。第二处理部通过对基板供给作为去除液的碱性显影液来去除面涂膜。然后，在第二处理部中进行基板的清洗，并通过所述基板运送装置将该清洗后的基板从第二处理部取出。该处理后的基板容纳在载体上。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2015-62259号公报(图14)

技术实现要素：

发明要解决的问题

在专利文献1的现有技术中，相同的基板运送装置将未处理的基板送入第一处理部，将涂布有成膜用处理液的基板从第一处理部运送至第三处理部，将在第三处理部中接受加热处理而形成有膜的基板从第三处理部运送至第二处理部，进而将已结束第二处理部中的处理的基板从该第二处理部送出。

由于第一处理部中的处理后的基板的表面已被未硬化的成膜用处理液濡湿，因而该成膜用处理液有可能附着在基板运送装置上。该附着的处理液在之后会转移至基板运送装置所保持的其他基板，从而会污染该基板。特别是处理液转移至已结束处理的基板，会破坏基板处理的品质。另外，由于成膜用处理液的环境气体笼罩在通过基板运送装置运送基板的空间内，因而该环境气体可能会对基板产生不良影响。

因此，本发明的一个目的在于，提供一种基板处理装置及基板处理方法，抑制用于在基板表面形成固化膜的处理的影响波及到其他基板。

用于解决问题的手段

本发明的一实施方式提供一种基板处理装置，包括：液体处理单元，在处理室内对基板的表面供给处理液，从而在基板的表面形成处理液膜；固化单元，在固化室内使所述处理液膜固化而在所述基板的表面形成固化膜；去除处理单元，在去除室内将用于去除所述固化膜的去除液供给至所述基板的表面；主运送单元，向所述处理室送入基板，并从所述去除室送出基板；以及局部运送单元，从所述处理室送出基板并向所述固化室送入基板。

通过该结构，形成基板上的处理液膜后，将该基板通过局部运送单元送入固化室。因此，能够避免主运送单元被处理液污染，因此能够抑制或防止该处理液转移至其他基板。另外，能够抑制或防止处理液的环境气体笼罩在通过主运送单元运送基板的空间内，因此也能够避免处理液的环境气体对基板造成不良影响。如此一来，能够提高基板处理品质。另外，无论主运送单元的动作状态如何，均能够将已结束处理室内的处理的基板迅速运送至固化室。

该基板处理装置也可以用于进行去除基板的表面的异物的清洗处理。处理液膜在基板的表面进行固化时会产生体积收缩。另外，当为了去除在基板的表面上形成的固化膜而供给去除液时，固化膜会溶胀而产生体积膨胀。在该体积收缩及膨胀时，拉伸力作用于基板表面的异物(微粒等)，由此，能够使基板表面的异物剥离。经剥离的异物能够与固化膜一起被去除至基板外。

在本发明的一实施方式中，所述固化单元包括加热单元，该加热单元用于对所述基板进行加热。由此，能够对基板上的处理液膜进行加热并使该处理液膜固化。

更具体而言，所述固化单元也可以包括：基板保持单元，用于保持基板；以及所述加热单元，对保持于所述基板保持单元的基板进行加热。

所述固化单元也可以包括将固化室内减压至低于大气压的压力的减压单元。另外，所述固化单元也可以包括对固化室内进行换气的换气单元。换气单元也可以包括对固化室内供给低湿度气体(例如非活性气体)的低湿度气体供给单元。由此，能够促进基板上的成膜处理液膜的干燥，从而促进其固化。

在本发明的一实施方式中，所述主运送单元配置在主运送室内，所述局部运送单元配置在与所述主运送室隔离的局部运送室内。由此，能够更切实地抑制或防止处理液的环境气体笼罩在主运送室内，因此能够抑制或防止由主运送单元运送的基板受到处理液的环境气体的影响。

在本发明的一实施方式中，所述局部运送单元进而从所述固化室送出基板，并向所述去除室送入基板。由此，能够避免主运送单元受到固化处理后的基板的影响。例如，即使固化处理后的基板处于高温，也能够避免主运送单元蓄热。

在所述专利文献1的结构中，由于基板在第三处理部中被加热，因此通过基板运送装置保持该经加热的基板，有可能使热蓄积在基板运送装置中。由于蓄积的热会被传递至基板运送装置所运送的基板，因此有可能对基板造成不良影响。

因此，通过利用局部运送单元从固化室向去除室运送基板，能够避免热蓄积于主运送单元中，因此能够抑制热对主运送单元所运送的基板的影响。

在本发明的一实施方式中，所述局部运送单元包括：第一运送臂，从所述处理室送出基板并向所述固化室送入基板；以及第二运送臂，从所述固化室送出基板并向所述去除室送入基板。

通过该结构，通过第一运送臂来运送形成有处理液膜的基板，通过第二运送臂来运送形成有固化膜的基板。因此，即使在第一运送臂上附着有处理液，也能够抑制或防止该处理液转移至固化处理后的基板。

优选第二运送臂配置在第一运送臂的上方，由此，能够抑制或防止由第一运送臂保持的基板上的处理液附着于第二运送臂。

在本发明的一实施方式中，所述液体处理单元包括：基板保持单元，水平地保持基板；以及处理液喷出单元，对保持于所述基板保持单元上的基板喷出处理液。通过该结构，能够使处理液在水平地保持着的基板上蔓延，从而形成覆盖基板的表面的处理液膜。

在本发明的一实施方式中，所述处理室与所述去除室为共同的室。即，处理液及去除室既可以为不同的室，也可以为共同的室。

在本发明的一实施方式中，所述局部运送单元具有保持基板并通过局部运送室的运送臂，所述基板处理装置还包括臂清洗喷嘴，该臂清洗喷嘴设置在所述局部运送室，并喷出用于清洗所述运送臂的清洗液。

通过该结构，能够对局部运送单元的运送臂进行清洗，因此能够使运送臂保持在洁净的状态。由此，能够避免处理液的污染蓄积于运送臂，并能够在抑制处理液所引起的污染的同时运送基板。而且，运送臂的清洗是在局部运送室内进行的，因此能够抑制或防止清洗液或处理液的影响波及由主运送单元运送的基板。

在本发明的一实施方式中，所述局部运送室包括：底部，接收所述清洗液；以及排液单元，排出所述底部所接收的清洗液。由此，能够将清洗运送臂后的清洗液排出至局部运送室外，因此能够使局部运送室内的环境气体保持洁净。由此，能够进一步抑制处理液环境气体对基板的影响。

在本发明的一实施方式中，所述局部运送单元具有保持基板的运送臂，所述基板处理装置还包括臂清洗喷嘴，该臂清洗喷嘴设置在所述运送臂上，并喷出用于清洗所述运送臂的清洗液。通过该结构，通过从设置在运送臂上的臂清洗喷嘴喷出清洗液，能够切实地清洗运送臂。因此，能够避免处理液的污染蓄积在运送臂上，从而能够在抑制处理液所引起的污染的同时运送基板。另外，能够抑制或防止清洗液或处理液的影响波及由主运送单元运送的基板。

在本发明的一实施方式中，所述局部运送单元具有保持基板并通过局部运送室的运送臂，所述基板处理装置还包括：臂清洗室，与所述局部运送室相邻而设置；臂清洗喷嘴，配置在所述臂清洗室内，喷出用于清洗所述运送臂的清洗液；以及减压单元，使所述臂清洗室内减压至低于大气压的压力而使所述运送臂干燥。

通过该结构，与局部运送室相邻而设置有臂清洗室，因此当局部运送单元未运送基板时，能够在臂清洗室内清洗运送臂。由于在臂清洗室内配置有臂清洗喷嘴，因此能够抑制清洗液进入局部运送室内，并清洗运送臂。由此，能够抑制清洗液对基板的影响。另外，通过对臂清洗室进行减压，能够使被清洗液清洗后的运送臂迅速干燥。

在本发明的一实施方式中，所述去除处理单元包括：基板保持单元，在所述去除室内水平地保持基板；以及去除液喷出单元，对保持于所述基板保持单元的基板喷出去除液。通过该结构，对水平地保持着的基板供给去除液，因此能够使去除液容易地遍布于基板表面，从而有效率地进行固化膜的去除处理。

本发明的一实施方式提供一种基板处理方法，包括：处理液膜形成工序，在处理室内对基板的表面供给处理液，从而在基板的表面形成处理液膜；第一局部运送工序，在所述处理液膜形成工序之后，将所述基板运送至固化室；固化膜形成工序，在所述固化室内使所述处理液膜固化而在所述基板的表面形成固化膜；第二局部运送工序，在所述固化膜形成工序之后，将所述基板运送至去除室；去除处理工序，在所述去除室内将用于去除所述固化膜的去除液供给至所述基板的表面；以及主运送工序，通过主运送单元向所述处理室送入基板，并从所述去除室送出基板。

在本发明的一实施方式中，所述固化膜形成工序包括加热工序，该加热工序用于通过加热单元对所述基板进行加热。

在本发明的一实施方式中，在所述主运送工序中通过主运送室而运送所述基板，在所述第一局部运送工序中，通过与所述主运送室隔离的局部运送室而运送所述基板。

在本发明的一实施方式中，通过共同的局部运送单元来执行所述第一局部运送工序及所述第二局部运送工序。

在本发明的一实施方式中，通过所述局部运送单元的第一运送臂来进行所述第一局部运送工序，通过所述局部运送单元的第二运送臂来进行所述第二局部运送工序。

本发明的一实施方式的方法还包括臂清洗工序，该臂清洗工序用于对所述局部运送单元的运送臂供给清洗液。

在本发明的一实施方式中，所述处理室及所述去除室为共同的室。

在本发明的一实施方式中，在所述处理液膜形成工序之前，执行对基板进行清洗的清洗工序。

本发明中的上述或者进而其他目的、特征及效果将通过以下参照附图而描述的实施方式的说明来阐明。

附图说明

图1a是用于说明本发明的第一实施方式的基板处理装置的结构的俯视图。

图1b是用于说明所述第一实施方式的基板处理装置的结构的图解立面图。

图2是用于说明所述基板处理装置所具有的液体处理单元的结构例的图解剖视图。

图3是用于说明所述基板处理装置所具有的固化单元的结构例的图解剖视图。

图4是用于说明所述基板处理装置所具有的局部运送机器人的结构例的图。

图5a是用于说明本发明的第二实施方式的基板处理装置的结构的图解俯视图。

图5b是用于说明所述第二实施方式的基板处理装置的结构的图解立面图。

图6a是用于说明本发明的第三实施方式的基板处理装置的结构的图解俯视图。

图6b是用于说明所述第三实施方式的基板处理装置的结构的图解立面图。

图7是用于说明本发明的第四实施方式的基板处理装置的结构的图解立面图，示出主运送室的一侧的结构。

图8是用于说明本发明的第五实施方式的基板处理装置的结构的图解俯视图。

图9是用于说明本发明的第六实施方式的基板处理装置的结构的图，示出固化单元的结构例。

图10是用于说明本发明的第七实施方式的图，示出清洗局部运送机器人的手部的手部清洗单元的结构。

图11是用于说明本发明的第八实施方式的基板处理装置的结构的图，是图解地示出固化单元的进而另一结构例的剖视图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行详细说明。

[第一实施方式]

图1a是用于说明本发明的第一实施方式的基板处理装置1的结构的俯视图，图1b是其立面图。基板处理装置1包括载体保持部2、分度器机器人(indexerrobot)ir、多个液体处理单元m11～m14、m21～m24(统称时称为“液体处理单元m”)、多个固化单元d11～d14、d21～d24(统称时称为“固化单元d”)、主运送机器人cr、以及局部运送机器人lr11～lr14、lr21～lr24(统称时称为“局部运送机器人lr”)。主运送机器人cr为主运送单元的一个示例，局部运送机器人lr为局部运送单元的一个示例。

载体保持部2保持基板容器即载体3，其中该基板容器将多张基板w以层叠状态保持。在本实施方式中，载体保持部2以能够保持多个载体3的方式构成。分度器机器人ir通过访问(access)保持于载体保持部2的载体3来取放基板w，并且与主运送机器人cr之间进行基板w的交接。

在本实施方式中，多个液体处理单元m及多个固化单元d以形成多层结构(在本实施方式中为两层结构)的方式立体地配置。具体而言，如图1a所示，俯视时，在从载体保持部2呈直线状延伸的主运送室5内配置有主运送机器人cr，在主运送室5的两侧沿主运送室5各配置有两个层叠单元组g1、g2及g3、g4。由此，俯视时，在主运送机器人cr的周围配置有4个层叠单元组g1～g4。

在基板处理装置1的第一层s1及第二层s2中各配置有4个液体处理单元m11～m14、m21～m24，基板处理装置1具有共计8个液体处理单元m。在第一层s1中，在主运送室5的两侧沿主运送室5各配置有两个液体处理单元m11、m12及m13、m14。在这4个液体处理单元m11～m14上分别配置有4个固化单元d11～d14。进而，在第二层s2中，在主运送室5的两侧沿主运送室5各配置有两个液体处理单元m21、m22及m23、m24。在这4个液体处理单元m21～m24上分别配置有4个固化单元d21～d24。一个液体处理单元m与配置于其上的固化单元d形成相对应的对。

层叠单元组g1从下方起依次层叠液体处理单元m11、固化单元d11、液体处理单元m21及固化单元d21而构成。层叠单元组g2从下方起依次层叠液体处理单元m12、固化单元d12、液体处理单元m22及固化单元d22而构成。层叠单元组g3从下方起依次层叠液体处理单元m13、固化单元d13、液体处理单元m23及固化单元d23而构成。层叠单元组g4从下方起依次层叠液体处理单元m14、固化单元d14、液体处理单元m24及固化单元d24而构成。

主运送机器人cr能够访问共计8个液体处理单元m来传递基板w，进而能够与分度器机器人ir之间交接基板w。主运送机器人cr也可以构成为能够访问共计8个固化单元d从而取出基板w。

在本实施方式中，局部运送机器人lr在第一层s1中具有4个，在第二层s2中具有4个。更具体而言，俯视时，在第一层s1中，在主运送室5的两侧各配置有两个局部运送机器人lr11、lr12及lr13、lr14。更进一步具体而言，在主运送室5的一侧，在第一层s1中，在载体保持部2与液体处理单元m11之间配置有一个局部运送机器人lr11，在远离载体保持部2的一侧的端部配置有另一个局部运送机器人lr12。在主运送室5的另一侧的两个局部运送机器人lr13、lr14的配置也是同样的。并且，第二层s2中的4个局部运送机器人lr21、lr22及lr23、lr24也是同样配置。局部运送机器人lr11～lr14、lr21～lr24分别配置在局部运送室c11～c14、c21～c24(统称时称为“局部运送室c”)内。局部运送室c形成有运送空间，该运送空间被划分成与主运送室5分离(隔离)。

如此一来，针对各对液体处理单元m及固化单元d，设置有一个局部运送机器人lr。局部运送机器人lr从该液体处理单元m取出由液体处理单元m处理后的基板w，并将其运送至所对应的固化单元d。

若对分度器机器人ir、主运送机器人cr及局部运送机器人lr的动作例进行概述，则如下所述。

即，分度器机器人ir从任一个载体3取出未处理的基板w，将其传递至主运送机器人cr。主运送机器人cr将从分度器机器人ir接收到的基板w送入任一个液体处理单元m。液体处理单元m执行对送入的基板w的处理。具体而言，液体处理单元m对基板表面实施前清洗处理之后，将成膜用的处理液供给至基板w，并在基板w的表面形成该处理液的液膜。将由液体处理单元m处理的基板w，即，表面形成有处理液膜的基板w通过局部运送机器人lr送出，并运送至配置在其正上方的固化单元d。固化单元d使所送入的基板w的表面的处理液膜固化而在基板w的表面形成固化膜。将该固化处理后的基板w通过局部运送机器人lr运送至液体处理单元m。液体处理单元m对基板w供给去除液，从而去除基板w的表面的固化膜(去除处理)，进而执行后清洗处理。然后，利用主运送机器人cr将基板w从液体处理单元m送出。主运送机器人cr将该基板w传递至分度器机器人ir。分度器机器人ir将所传递的基板w收纳于任一载体3。

由固化单元d处理后的基板w也可以通过主运送机器人cr来运送。即，主运送机器人cr也可以将由固化单元d处理后的基板w从固化单元d送出，并送入任一液体处理单元m，以进行去除处理。此时，将成膜用的处理液供给至基板w的液体处理单元m与执行去除处理的液体处理单元m可以是不同的液体处理单元。

分度器机器人ir也可以以如下方式动作：将未处理的基板w传递至主运送机器人cr，在即将传递之前、刚传递之后或同时，从主运送机器人cr接收处理完毕的基板w。同样地，主运送机器人cr也可以以如下方式动作：从分度器机器人ir接收未处理的基板w，在即将接收之前、刚接收之后或同时，将处理完毕的基板w传递至分度器机器人ir。进而，主运送机器人cr也可以以如下方式动作：将未处理的基板w送入液体处理单元m，在即将送入之前或刚送入之后，从液体处理单元m送出处理完毕的基板w(后清洗处理后的基板w)。

如上所述，在本实施方式中，将一个固化单元d对应于一个液体处理单元m。然后，将液体处理单元m与固化单元d层叠。此外，针对一个液体处理单元m及一个固化单元d的对，设置有一个局部运送机器人lr，局部运送机器人lr能够访问该些液体处理单元m及固化单元d。局部运送机器人lr从液体处理单元m送出已由液体处理单元m处理的基板w，将其向与该液体处理单元m相对应的固化单元d运送，从而送入该固化单元d。具体而言，局部运送机器人lr将从液体处理单元m取出的基板w沿铅直方向(更具体而言为上方)运送。另外，局部运送机器人lr将由固化单元d处理的基板w从固化单元d送出，并向与该固化单元d相对应的液体处理单元m运送，从而送入该液体处理单元m。具体而言，局部运送机器人lr将从固化单元d取出的基板w沿铅直方向(更具体而言向下方)运送。主运送机器人cr将未处理的基板w送入液体处理单元m，且从液体处理单元m送出处理后的基板w。

在该实施方式中，液体处理单元m也可以具有作为去除处理单元的功能。

图2是用于说明液体处理单元m的结构例的图解剖视图。液体处理单元m具有处理室11。处理室11是在基板w的表面形成处理液膜的处理室的一个示例，并且也是去除基板w的表面的固化膜的去除室的一个示例。在处理室11内，设置有水平地保持基板w且能够旋转的作为基板保持单元的旋转夹盘(spinchuck)12、包围旋转夹盘12的杯体(cup)13、药液喷嘴14、作为处理液喷出单元的成膜处理液喷嘴15、作为去除液喷出单元的去除液喷嘴16、清洗喷嘴29以及遮断板19。旋转夹盘12通过作为基板旋转单元的一个示例的马达17而围绕着铅垂的旋转轴线18旋转。

在药液喷嘴14上，结合有药液配管21。在药液配管21的中途，插装有用于打开和关闭药液通路的药液阀22。从药液供给源23对药液配管21供给药液。作为药液的示例，可举出hf(hydrogenfluoride：氢氟酸)、sc1(ammoniaperoxidemixture：氨过氧化氢水)、sc2(hydrochloricperoxidemixture：盐酸过氧化氢水)、spm(sulfuricperoxidemixture：硫酸过氧化氢水)、磷酸、氟硝酸、fpm(fluoricperoxidemixture：氟酸过氧化氢水)、fom(fluoricozonemixture：氟酸臭氧水)、aom(ammoniaozonemixture：氨臭氧水)等。药液喷嘴14也可以为能够在保持于旋转夹盘12上的基板w的上方移动的移动喷嘴。另外，图2的药液喷嘴14与遮断板19分开设置，但药液喷嘴也可以组装在遮断板19上。

在成膜处理液喷嘴15上，结合有成膜处理液配管26。在成膜处理液配管26的中途，插装有用于打开和关闭成膜处理液通路的成膜处理液阀27。从成膜处理液供给源28对成膜处理液配管26供给成膜处理液。成膜处理液是可通过加热或减压等规定的固化处理来进行固化而形成固化膜，并可通过规定的去除液而去除该固化膜的液体。具体而言，作为成膜处理液，可利用面涂液、抗蚀液、酚醛树脂液等。所谓面涂液，是指用于形成在抗蚀膜上形成的保护膜的液体。成膜处理液喷嘴15也可以为能够在保持于旋转夹盘12上的基板w的上方移动的移动喷嘴。

在去除液喷嘴16上，结合有去除液配管101。在去除液配管101的中途插装有用于打开和关闭去除液通路的去除液阀102。从去除液供给源103对去除液配管101供给去除液。去除液是能够去除使成膜处理液固化而形成的固化膜的液体。具体而言，作为去除液，也可以使用碱性显影液或sc1(氨过氧化氢水)。碱性显影液也可以包括氨水、tmah(tetramethylammoniumhydroxide：四甲基氢氧化铵水溶液)、胆碱(choline)水溶液等。去除液喷嘴16也可以为能够在保持于旋转夹盘12上的基板w的上方移动的移动喷嘴。

在清洗喷嘴29上，结合有清洗液配管31a及有机溶剂配管31b。更具体而言，在该实施方式中，清洗液配管31a与清洗喷嘴29结合，有机溶剂配管31b与清洗液配管31a合流。在清洗液配管31a的中途，插装有用于打开和关闭清洗液配通路的清洗液阀32a。在有机溶剂配管31b的中途，插装有用于打开和关闭有机溶剂通路的有机溶剂阀32b。从清洗液供给源33a对清洗液配管31a供给清洗液。在该实施方式中，清洗液为diw(deionizedwater：去离子水)。当然，也可以使用碳酸水等其他清洗液。从有机溶剂供给源33b对有机溶剂配管31b供给有机溶剂。有机溶剂为表面张力小于清洗液的表面张力的低表面张力液体的一个示例。在该实施方式中，清洗液及有机溶剂通过配管31a而从共同的喷嘴29供给，但也可以设置分别供给清洗液及有机溶剂的各自独立的配管及喷嘴。

有机溶剂是能够与清洗液置换的有机溶剂，更具体而言，是与水具有亲和性的有机溶剂。作为这种有机溶剂，可例示异丙醇(isopropylalcohol，ipa)、甲醇、乙醇、丁醇、丙酮、pgmea(propyleneglycolmonomethyletheracetate：丙二醇甲醚醋酸酯)、egmea(ethyleneglycolmonoethyletheracetate：乙二醇甲醚醋酸酯)等。

遮断板19具有与保持于旋转夹盘12上的基板w的上表面相对置的对置面19a。遮断板19通过遮断板驱动单元20来驱动。遮断板驱动单元20包括遮断板升降单元20a及遮断板旋转单元20b。遮断板升降单元20a使遮断板19上下移动，从而使对置面19a接近或远离保持于旋转夹盘12上的基板w。遮断板旋转单元20b以使遮断板19围绕着与旋转夹盘12共同的旋转轴线18旋转的方式对遮断板19进行旋转驱动。更具体而言，遮断板旋转单元20b对支撑着遮断板19的旋转轴25赋予旋转力。在遮断板19的对置面19a的中央，即，在旋转轴线18上，配置有清洗喷嘴29。旋转轴25为中空轴，其内部插通有清洗液配管31a。

在对置面19a的中央，形成有使清洗喷嘴29朝向下方露出的开口19b。该开口19b与旋转轴25的内部空间连通。在清洗液配管31a与旋转轴25的内壁之间，形成有用于使非活性气体流通的非活性气体流路45。在该非活性气体流路45上，连接有非活性气体配管46。在非活性气体配管46的中途，插装有打开和关闭流路的非活性气体阀47。非活性气体配管46与非活性气体供给源48结合。非活性气体供给源48供给非活性气体。非活性气体是对基板w的表面的物质呈非活性的气体，例如也可以为氮气。当将药液喷嘴组装至遮断板19时，在旋转轴25中进一步插通药液配管，药液喷嘴使开口19b朝向下方露出。

通过遮断板升降单元20a使遮断板19上下移动，从而使得清洗喷嘴29同时升降，由此，从保持于旋转夹盘12上的基板w至清洗喷嘴29为止的高度发生变动。

旋转夹盘12的旋转轴130由中空轴构成。在该旋转轴130中，插通有背面喷嘴131。背面喷嘴131的上端形成有朝向基板w下表面的旋转中心喷出清洗液的喷出口132。在背面喷嘴131上，结合有清洗液供给配管133。清洗液供给配管133经由清洗液阀134与清洗液供给源135结合，并且经由有机溶剂阀136与有机溶剂供给源137结合。清洗液供给源135供给diw或其他清洗液。有机溶剂供给源137供给ipa或其他有机溶剂。

背面喷嘴131与旋转轴130之间的空间形成有用于向基板w的下表面供给非活性气体的非活性气体流路140。在非活性气体流路140上，结合有非活性气体供给配管141。在非活性气体供给配管141的中途插装有非活性气体阀142。非活性气体供给配管141与非活性气体供给源143结合。非活性气体供给源143供给非活性气体。非活性气体是对构成基板w的物质呈非活性的气体，例如也可以为氮气。

在处理室11的侧壁35、侧壁36，分别形成有通过主运送机器人cr送入/送出基板w的基板送入/送出开口37、以及通过局部运送机器人lr送入/送出基板w的基板送入/送出开口38。在基板送入/送出开口37及基板送入/送出开口38上，分别配置有使该些开口打开和关闭的挡板39、40。挡板驱动单元41、42分别驱动挡板39、40打开和关闭。基板送入/送出开口37是使主运送室5与处理室11连通的开口，形成在用于划分主运送室5与处理室11的侧壁35上。基板送入/送出开口38是使处理室11与局部运送室c连通的开口，形成在用于划分处理室11与局部运送室c的侧壁36上。

若对液体处理单元m的动作进行概述，则如下所述。

当主运送机器人cr送入未处理的基板w时，挡板39打开基板送入/送出开口37。保持着未处理的基板w的主运送机器人cr的手部hc(臂)从基板送入/送出开口37进入处理室11内，将该基板w传递至旋转夹盘12。为了基板w的交接，也可以根据需要，使杯体13或旋转夹盘12上下移动。已将基板w传递至旋转夹盘12的主运送机器人cr的手部hc通过基板送入/送出开口37而从处理室11退出。然后，挡板驱动单元41驱动挡板39，从而关闭基板送入/送出开口37。

接着，通过马达17使旋转夹盘12旋转，打开药液阀22。由此，将药液供给至旋转状态的基板w的表面，并通过离心力使药液遍布于基板w表面的整个区域。如上所述，执行利用药液对基板w进行处理的药液工序(用于前清洗的药液工序)。通过关闭药液阀22来停止药液的供给，药液工序结束。

在药液工序之后，一边继续使旋转夹盘12旋转，一边打开清洗液阀32a、134。由此，对旋转状态的基板w的表面及背面供给清洗液。供给至基板w的表面的清洗液在基板w表面的整个区域蔓延，从而替换基板w表面的药液。另外，被供给至基板w的背面的清洗液在基板w背面的整个区域蔓延，从而冲洗掉附着在基板w的背面上的清洗液。如上所述，执行清洗工序。通过关闭清洗液阀32a来停止清洗液的供给，清洗工序结束。

在该清洗工序结束后，或在清洗工序即将结束之前，打开有机溶剂阀32b。由此，对基板w表面供给有机溶剂。使旋转夹盘12保持为旋转状态。因此，有机溶剂在基板w表面的整个区域蔓延，从而替换基板w表面的清洗液。此时，遮断板驱动单元20使遮断板19下降，从而将其配置在使对置面19a与基板w的表面接近的处理位置。

接着，关闭有机溶剂阀32b，使遮断板19上升。然后，在基板w的上方配置成膜处理液喷嘴15，在该状态下，打开成膜处理液阀27。由此，对基板w表面供给成膜处理液。旋转夹盘12保持在旋转状态。因此，成膜处理液在基板w表面的整个区域蔓延，从而形成遍及基板w表面的整个区域的液膜10。形成该成膜处理液膜10之后，关闭成膜处理液阀27。

接着，成膜处理液喷嘴15缩回之后，使遮断板19下降，从而将其配置在使对置面19a与基板w接近的处理位置。然后，打开有机溶剂阀136。由此，从背面喷嘴131向基板w背面(下表面)供给有机溶剂，该有机溶剂因离心力而遍布于基板w的背面的整个区域，从而冲洗掉附着于基板w的背面的成膜处理液。

然后，关闭有机溶剂阀136，使旋转夹盘12的旋转加速。由此，将基板w的背面的液体成分甩开。此时，也可以打开非活性气体阀47及142。由此，在基板w的表面侧，促使成膜处理液膜10中的挥发成分的挥发，由此，推进成膜处理液膜10的固化。另外，在基板w的背面侧，促进干燥。

然后，遮断板驱动单元20使遮断板19缩回至上方。然后，使旋转夹盘12的旋转停止，从而结束用于形成成膜处理液膜10的处理。

接着，挡板驱动单元42驱动挡板40从而打开基板送入/送出开口38。局部运送机器人lr的手部lh(臂)从该基板送入/送出开口38进入处理室11内，从旋转夹盘12接收基板w，并通过基板送入/送出开口38，从而将该基板w送出至处理室11外。为了基板w的交接，也可以根据需要，使杯体13或旋转夹盘12上下移动。局部运送机器人lr将表面形成有成膜处理液膜10的状态的基板w运送至固化单元d。

利用固化单元d使成膜处理液膜10固化而形成为固化膜10s之后，将形成有该固化膜10s的基板w通过局部运送机器人lr运送至液体处理单元m。此时，挡板驱动单元42驱动挡板40，从而打开基板送入/送出开口38。局部运送机器人lr的手部lh(臂)从该基板送入/送出开口38进入处理室11内，将基板w传递至旋转夹盘12之后，退出至处理室11外。为了基板w的交接，也可以根据需要，使杯体13或旋转夹盘12上下移动。

液体处理单元m对以上述方式被导入的基板w执行用于去除该表面的固化膜10s的去除工序以及其后的清洗工序(后清洗工序)。

具体而言，通过马达17使旋转夹盘12旋转，进而，为了执行去除工序，在保持于旋转夹盘12上的基板w的上方配置有去除液喷嘴16。然后，打开去除液阀102。由此，对基板w的表面供给去除液，该去除液因离心力而遍布于基板w的表面的整个区域。通过该去除液的作用，使基板w的表面的固化膜10s剥离。

接着，关闭去除液阀102，使去除液喷嘴16从基板w的上方缩回之后，执行后清洗工序。具体而言，在将药液喷嘴14配置在基板w的上方并使旋转夹盘12旋转的状态下，打开药液阀22。由此，对旋转状态的基板w的表面供给药液，且通过离心力而使药液遍布于基板w表面的整个区域。如上所述，执行利用药液对基板w进行处理的药液工序(用于后清洗的药液工序)。通过关闭药液阀22来停止药液的供给，药液工序结束。使药液喷嘴14从旋转夹盘12的上方缩回。

在药液工序之后，一边继续进行旋转夹盘12的旋转，一边打开清洗液阀32a、134。由此，对旋转状态的基板w的表面及背面供给清洗液。供给至基板w的表面的清洗液在基板w表面的整个区域蔓延，从而对基板w表面的药液进行置换。另外，供给至基板w的背面的清洗液在基板w背面的整个区域蔓延，从而冲洗掉附着于基板w的背面的清洗液。如上所述，执行清洗工序。通过关闭清洗液阀32a来停止清洗液的供给，从而清洗工序结束。

在该清洗工序结束后，或在清洗工序即将结束前，打开有机溶剂阀32b、136。由此，对基板w表面及背面供给有机溶剂。旋转夹盘12保持在旋转状态。因此，有机溶剂在基板w表面及背面的整个区域蔓延，从而对基板w表面及背面的清洗液进行置换。此时，遮断板驱动单元20使遮断板19下降，从而将其配置在使对置面19a与基板w的表面接近的处理位置。

接着，关闭有机溶剂阀32b、136，取而代之，打开非活性气体阀47、142，对基板w的表面及背面供给非活性气体。另外，使旋转夹盘12的旋转加速。由此，将基板w的表面及背面的液体成分甩开。供给至基板w的表面及背面的非活性气体促进基板w的干燥。

当干燥处理结束时，使旋转夹盘12的旋转停止，关闭非活性气体阀47、142。然后，遮断板驱动单元20使遮断板19缩回至上方。

接着，挡板驱动单元41驱动挡板39，从而打开基板送入/送出开口37。主运送机器人cr的手部hc(臂)从该基板送入/送出开口37进入处理室11内，从旋转夹盘12接收基板w，并通过基板送入/送出开口37，从而将该基板w送出至处理室11外。为了基板w的交接，也可以根据需要，使杯体13或旋转夹盘12上下移动。

基板w上的固化膜10s的去除也可以根据该固化膜10s的种类，通过从药液喷嘴14供给的药液来进行。即，也可以使用从药液喷嘴14供给的药液作为去除液。此时，可省略去除液喷嘴16及与去除液喷嘴16相关的结构，而无需区分去除工序及后清洗工序。

另外，形成成膜处理液膜10之前的前清洗工序也可以省略。

另外，当将药液喷嘴组装至遮断板19时，遮断板19在处理期间，始终位于与基板w接近的接近位置。

图3是用于说明固化单元d的结构例的图解剖视图。固化单元d具有包括可密闭的减压腔室(真空腔室)的固化室51。固化室51的容积小于液体处理单元m的处理室11的容积，由此，固化室51具有能够高效使内部空间减压的结构。在固化室51内，配置有保持基板w的作为基板保持单元的基板固持器52。在基板固持器52中，内置有作为基板加热单元的加热器53h、以及作为基板冷却单元的冷却单元53c，由此，构成温度调节板。加热器53h通过传热或热辐射来对基板w进行加热。也可以取代加热器53h，使用照射电磁波(紫外线、红外线、微波、激光等)对基板进行加热的电磁波照射单元作为基板加热单元。另外，也可以使用闪光灯(flashlamp)作为基板加热单元。冷却单元53c既可以具有通过基板固持器52内部的制冷剂通路，也可以具有电子冷热元件。

贯通基板固持器52而配置有多根(3根以上)顶升销(liftpin)54。顶升销54通过顶升销升降单元55而上下移动，由此，使基板w在基板固持器52上进行上下移动。

固化室51具有底座部511、以及可相对于底座部511上下移动的活动盖部512。活动盖部512通过盖部驱动单元56而相对于底座部511上下移动。在底座部511与活动盖部512之间划分出固化处理空间50。活动盖部512的下端缘部58是沿着与底座部511的上表面59相应的平面而形成。在底座部511上，在与活动盖部512的下端缘部58相对置的位置上，配置有作为密封构件的o型环60。当使活动盖部512与底座部511接近，并向底座部511按压该活动盖部512时，活动盖部512与底座部511之间被o型环60密闭。如上所述，形成经密闭的固化处理空间50。

在底座部511上，结合有排气配管62。排气配管62与固化处理空间50连通。排气配管62与真空泵等排气单元63连接。在排气配管62上，插装有排气阀64。排气单元63是减压单元的一个示例，通过打开排气阀64对排气单元63进行驱动，从而能够使固化处理空间50减压至低于大气压的气压(例如0.01torr以下)。

在活动盖部512上，设置有用于对固化处理空间50导入非活性气体的非活性气体喷嘴71。在非活性气体喷嘴71上，结合有非活性气体配管72。在非活性气体配管72的中途，插装有非活性气体阀73。非活性气体配管72与供给非活性气体的非活性气体供给源74结合。非活性气体是低湿度气体的一个示例，非活性气体喷嘴71等是低湿度气体供给单元的一个示例。例如，从将基板w送入固化处理空间50之前，预先从非活性气体喷嘴71供给非活性气体，由此能够对固化室51内进行换气，从而能够形成成膜处理液10容易干燥的环境气体。

若对固化单元d的动作进行概述，则如下所述。

局部运送机器人lr的手部lh将表面上形成有成膜处理液膜10的状态的基板w送入固化单元d。当送入基板w时，活动盖部512位于远离底座部511的打开位置，由此，在活动盖部512与底座部511之间形成基板送入开口。此时，顶升销54位于使其前端从基板固持器52的表面向上方隔开间隔的上升位置。在该状态下，局部运送机器人lr的手部lh进入活动盖部512与底座部511之间，将基板w传递至顶升销54。接收到基板w的顶升销54下降，并将基板w载置在基板固持器52的上表面。

盖部驱动单元56使活动盖部512下降，经由o型环60而按压至底座部511。由此，固化处理空间50成为密闭空间。进而，打开排气阀64，对排气单元63进行驱动，由此排出固化处理空间50内的环境气体，使固化处理空间50减压。将非活性气体阀73设为关闭状态，以不阻碍减压。

通过使固化处理空间50内减压，来促进基板w的表面的成膜处理液膜10的蒸发。进而，驱动加热器53h来对基板固持器52进行加热，从而进行烘烤(bake)处理。如上所述，同时使用基板w的环境气体的减压及基板w的加热，从而使成膜处理液膜10迅速固化。在此，所谓固化，是指固态化或硬化，既可以为成膜处理液中的溶媒成分经蒸发而干燥从而固态化或硬化，也可以为成膜处理液中的分子彼此相结合而高分子化从而固态化或硬化。通过在该固化时产生体积收缩，从而使力作用至附着于基板w的表面的微粒等异物，由此，使异物从基板w的表面脱离。

成膜处理液膜10的固化结束后，使排气单元63停止，且根据需要打开非活性气体阀73，从而使固化处理空间50内加压至大气压。然后，驱动停止加热器53h，取而代之，使冷却单元53c运作，从而使基板固持器52冷却。由此，例如使基板w冷却至常温为止。然后，盖部驱动单元56使活动盖部512上升，从而远离底座部511。进而，使顶升销54上升，将基板w抬起至与基板固持器52的上表面向上方远离的高度为止。在该状态下，局部运送机器人lr的手部lh进入活动盖部512与底座部511之间，从顶升销54取出处理后的基板w，而退出至局部运送室c。当主运送机器人cr运送固化处理后的基板w时，主运送机器人cr的手部hc进入至活动盖部512与底座部511之间，从顶升销54取出处理后的基板w，并退出至主运送室5。

图4是用于说明局部运送机器人lr的结构例的图。局部运送机器人lr配置在局部运送室c内。局部运送室c与液体处理单元m的处理室11及配置在该处理室11之上的固化单元d的固化室51相对置，当打开固化室51时，与固化室51连通。

局部运送机器人lr包括用于保持基板w的手部lh(臂)、以及对手部lh进行驱动的手部驱动单元90。在该例子中，手部lh包括一对手部lh1、lh2，这些手部沿上下方向错开(进而根据需要沿水平方向错开)而配置。手部驱动单元90使手部lh1、lh2水平移动及垂直移动，进而根据需要，使手部lh1、手部lh2围绕着铅垂的旋转轴线89转动。

由此，手部lh1、lh2可进入液体处理单元m的处理室11内并从旋转夹盘12接收基板w，将该基板w运送至固化单元d，并将该基板w送入固化室51内从而传递至顶升销54(参照图3)，然后退出至局部运送室c。另外，手部lh1、lh2可进入固化单元d的固化室51内并从顶升销54接收基板w，将该基板w运送至液体处理单元m，并将该基板w送入处理室11内从而传递至旋转夹盘12，然后退出至局部运送室c。

手部驱动单元90至少在访问液体处理单元m及固化单元d时，可使一对手部lh1、手部lh2相对于这些单元独立地进退。例如，也可以为：手部lh1在将形成有成膜处理液膜10的基板w从液体处理单元m运送至固化单元d时使用，手部lh2在将形成有固化膜10s的基板w从固化单元d运送至液体处理单元m时使用。此时，考虑到来自成膜处理液膜10的滴液，优选使保持经固化单元d处理后的基板w的手部lh2配置在比保持形成有成膜处理液膜10的基板w的手部lh1靠上方的位置。

固化单元d配置在液体处理单元m的上方，因此局部运送机器人lr以如下方式动作：从液体处理单元m送出基板w之后，使手部lh上升至固化单元d的高度为止。另外，局部运送机器人lr以如下方式动作：从固化单元d送出基板w之后，使手部lh下降至液体处理单元m的高度为止。

局部运送机器人lr也可以进一步包括手部加热单元97a(臂加热单元)，该手部加热单元97a(臂加热单元)对手部lh1进行加热，以对通过液体处理单元m而形成有成膜处理液膜10的基板w进行保温或加热。手部加热单元97a也可以构成为使热介质在形成在手部lh1上的热介质通路98a中循环。也可以取代具有这种热介质通路98a的结构，而在手部lh1中具有对手部lh1进行加热的加热器(未图示)。另外，手部加热单元97a也可以构成为对局部运送室c中所具有的加热板99a进行加热。此时，在手部lh1未保持基板w的期间内，使手部lh1与加热板99a接触。由此，在手部lh1的非工作移动期间对手部lh1进行加热。通过利用该加热后的手部lh1运送基板w，能够在运送过程中对基板w进行加热，因此能够对基板w进行加热，并进行成膜处理液膜10的干燥固化。

局部运送机器人lr也可以进一步包括手部冷却单元97b(臂冷却单元)，该手部冷却单元97b(臂冷却单元)对手部lh2进行冷却，以利用固化单元d对形成有固化膜10s的基板w进行冷却。手部冷却单元97b也可以构成为使制冷剂在形成在手部lh2上的制冷剂通路98b中循环。也可以在手部lh2中具有使手部lh2冷却的电子冷热元件(未图示)，来替代这种具有制冷剂通路98b的结构。另外，手部冷却单元97b也可以构成为使局部运送室c中所具有的冷却板99b冷却。此时，在手部lh2未保持基板w的期间内，使手部lh2与冷却板99b接触。由此，在手部lh2的非工作移动期间使手部lh2冷却。通过利用该经冷却的手部lh2运送基板w，能够在运送过程中使基板w冷却，因此能够将充分冷却后的基板w送入液体处理单元m。此外，能够缩短在固化单元d中的冷却处理时间。

为了使保持在手部lh1、lh2上的基板w有效地加热/冷却，手部lh1、lh2也可以构成为与基板w的形状相对应的板状。这种板状的手部lh1、lh2为了与旋转夹盘12进行基板w的交接，也可以具有周围形成有缺口的带缺口的板形状，该缺口用于避开旋转夹盘12中所具有的夹盘销(chuckpin)。

例如，图4所示，在局部运送机器人lr的手部lh(或无论手部lh如何移动，与手部lh的相对位置均不会大幅变化的活动部位)上，也可以配置供给用于对手部lh进行清洗的清洗液的清洗液喷嘴91。清洗液喷嘴91与清洗液配管92连接。在清洗液配管92中，插装有清洗液阀93。清洗液配管92与清洗液供给源94连接。清洗液供给源94供给用于对手部lh进行清洗的清洗液。优选该清洗液为与成膜用处理液具有亲和性的液体，例如有机溶剂。

如图4所示，也可以取代在手部lh上具有清洗液喷嘴91，或者除了该清洗液喷嘴91外，还在局部运送室c内安装有清洗液喷嘴91a。

在局部运送机器人lr未运送基板w的期间内，通过打开清洗液阀93，能够从清洗液喷嘴91、91a喷出清洗液，利用该清洗液对手部lh进行清洗。由此，可去除特别是附着在手部lh上的成膜用处理液或其他物质，从而使手部lh保持在洁净的状态。

局部运送室c的底部160接收清洗液。在底部160连接有作为排液单元的排液配管161。底部160所接收到的清洗液通过排液配管161排出。

也可以设置有对局部运送室c内供给非活性气体的非活性气体喷嘴165。在非活性气体喷嘴165上，连接有非活性气体配管166。在非活性气体配管166的中途，插装有非活性气体阀167。在非活性气体配管166上，连接有非活性气体供给源168。非活性气体供给源168供给氮气或其他非活性气体。通过打开非活性气体阀167，可对局部运送室c内供给非活性气体。由此，可促进清洗后的手部lh的干燥。另外，可对保持于手部lh上的基板w的附近供给非活性气体，因此能够促进特别是保持于手部lh1上的基板w上的成膜处理液膜10的干燥，从而促进该固化。

非活性气体喷嘴165也可以配置在手部lh(或无论手部lh如何移动，与手部lh的相对位置均不会大幅变化的活动部位)上。由此，可对手部lh及保持在手部lh上的基板w的表面有效率地供给非活性气体。

此外，当将经固化单元d处理后的基板w通过主运送机器人cr送出时，局部运送机器人lr只要具有手部lh1及与手部lh1相关的结构即可。即，可省略手部lh2及与手部lh2相关的结构。

另外，当将经固化单元d处理后的基板w通过局部运送机器人lr运送时，也可以省略手部lh2及与手部lh2相关的结构。即，也可以利用相同的手部lh1，进行形成有成膜处理液膜10的基板w的运送、以及形成有固化膜10s的基板w的运送。此时，也可以在从液体处理单元m向固化单元d运送基板w之后，对手部lh1进行清洗，然后，利用该手部lh1从固化单元d向液体处理单元m运送表面形成有固化膜10s的基板w。

如以上所述，根据该实施方式，在液体处理单元m的处理室中在基板w上形成成膜处理液膜10之后，将该基板w通过局部运送机器人lr送入固化单元d的固化室51。因此，能够避免主运送机器人cr被成膜处理液污染，因此能够抑制或防止该成膜处理液转移至由主运送机器人cr运送的其他基板。另外，能够抑制或防止成膜处理液的环境气体笼罩在由主运送机器人cr运送基板w的空间内，因此也能够避免成膜处理液的环境气体对基板w造成不良影响。如此一来，能够提高基板处理品质。此外，无论主运送机器人cr的运行状态如何，均可利用局部运送机器人lr从处理室11向固化室51迅速运送基板w。因此，能够缩短运送时间。

特别是在该实施方式中，主运送机器人cr配置在主运送室5内，局部运送机器人lr配置在与主运送室5隔离的局部运送室c内。由此，能够更切实地抑制或防止成膜处理液的环境气体笼罩着主运送室5，因此能够抑制或防止由主运送机器人cr运送的基板w受到成膜处理液的环境气体的影响。

另外，在该实施方式中，固化单元d通过对固化室51内的处理空间50进行减压，并利用加热器53h对基板w进行加热，从而使基板w上的成膜处理液膜10固化。因此，能够使成膜处理液膜10迅速固化，从而形成固化膜10s。在该过程中，成膜处理液膜10在固态化的同时体积收缩。由此，拉伸力作用到基板w表面的微粒等异物，从而能够使异物从基板w表面剥离。

液体处理单元m在处理室11内具有旋转夹盘12及遮断板19，其容积比较大。因此，使处理室11内的空间减压从而使成膜处理液膜10干燥并不实际，即使可能，也要耗费长时间来对大容积的空间减压。与此相对，在该实施方式中，将在液体处理单元m中已结束处理后的基板w送入容积更小的固化室51，进行固化室51内的减压干燥处理。由此，能够使成膜处理液膜10在短时间内固化。

将形成有固化膜10s的基板w通过局部运送机器人lr或主运送机器人cr而从固化室51送入至液体处理单元m的处理室11。此时，液体处理单元m作为去除固化膜10s的去除单元而发挥作用，处理室11作为提供进行去除处理的空间的去除室而发挥作用。液体处理单元m对基板w供给去除液从而去除基板w上的固化膜10s。此时，固化膜10s因去除液而进行溶胀，从而产生体积膨胀。由此，拉伸力作用到基板w表面的异物，使异物从基板w表面剥离。经剥离的异物与固化膜10s一起被排除至基板w外。如此一来，达成了用于去除基板w的表面的异物的清洗处理。

当局部运送机器人lr将已结束固化单元d中的固化处理的基板w从固化室51送出，并送入液体处理单元m的处理室11以进行去除处理时，能够避免主运送机器人dr受到固化处理后的基板w的影响。特别是在经固化单元d处理后的基板w处于高温时，能够避免主运送机器人cr蓄积该高温的基板w所发出的热。由此，能够抑制或防止热的影响波及由主运送机器人cr运送的基板w。

另外，在该实施方式中，局部运送机器人lr具有一对手部lh1、lh2，通过作为第一运送臂的手部lh1从处理室11送出基板w并送入固化室51，通过作为第二运送臂的手部lh2从固化室51送出固化处理后的基板w，并将其送入处理室11以进行去除处理。因此，即使在手部lh1上附着有成膜处理液，也能够抑制或防止该处理液转移至固化处理后的基板w。此外，在该实施方式中，手部lh2配置在比手部lh1靠上方的位置，因此能够更进一步切实地抑制或防止由手部lh1保持的基板w上的成膜处理液附着在手部lh2上。

另外，在该实施方式中，在局部运送室c内，设置有清洗液喷嘴91、91a，可从该清洗液喷嘴91、91a喷出清洗液，从而对手部lh进行清洗。由此，能够使手部lh保持在洁净的状态，因此能够一边抑制由手部lh引起的基板w的污染，一边运送基板w。而且，手部lh的清洗是在局部运送室c内进行，因此能够抑制或防止清洗液或成膜处理液的影响波及到由主运送机器人cr运送的基板w。

特别是在局部运送机器人lr的手部lh(或无论手部lh如何移动，与手部lh的相对位置均不会大幅变化的活动部位)上设置有清洗液喷嘴91的情况下，能够更切实地对手部lh进行清洗。因此，能够避免成膜处理液等的污染蓄积到手部lh上，从而能够一边抑制成膜处理液所引起的污染，一边运送基板w。另外，能够抑制或防止清洗液或成膜处理液的影响波及由主运送机器人cr运送的基板w。

而且，在该实施方式中，局部运送室c包括接收清洗液的底部160、以及排出底部160所接收的清洗液的排液配管161。由此，能够将清洗手部lh后的清洗液排出至局部运送室c外，因此能够使局部运送室c内的环境气体保持洁净。由此，能够更进一步抑制成膜处理液环境气体对基板w的影响。

由该实施方式执行的基板处理方法包括：处理液膜形成工序，在处理室11内对基板w的表面供给成膜处理液，从而在基板w的表面形成成膜处理液膜10；第一局部运送工序，在该处理液膜形成工序之后，将基板w运送至固化室51；固化膜形成工序，在固化室51内使成膜处理液膜10固化从而在该基板w的表面形成固化膜10s；第二局部运送工序，在该固化膜形成工序之后，将基板w运送至作为去除室的处理室11；去除处理工序，在该处理室11(去除室)内将用于去除固化膜10s的去除液供给至基板w的表面；以及主运送工序，通过主运送机器人cr将未处理的基板w送入处理室11，并在去除处理工序之后，从所述处理室11(去除室)送出基板w。

在该实施方式中，所述固化膜形成工序包括加热工序，该加热工序利用作为加热单元的加热器53h对基板w进行加热。另外，所述固化膜形成工序包括减压工序，该减压工序使处理基板w的固化处理空间50进行减压。

在所述主运送工序中，通过主运送室5而运送基板w，在所述第一局部运送工序中，通过与主运送室5隔离的局部运送室c而运送基板w。

所述第一局部运送工序及所述第二局部运送工序有时通过共同的局部运送机器人lr来进行。此时，通过局部运送机器人lr的手部lh1来进行所述第一局部运送工序，通过局部运送机器人lr的手部lh2来进行所述第二局部运送工序。

另外，有时通过局部运送机器人lr来进行所述第一局部运送工序，通过主运送机器人cr来进行所述第二局部运送工序。

另外，所述实施方式的基板处理方法包括手部清洗工序(臂清洗工序)，该手部清洗工序对局部运送机器人lr的手部lh供给清洗液。

所述处理液膜形成工序及所述去除处理工序有时在共同的处理室11内进行。另外，当所述处理液膜形成工序及所述去除处理工序在不同的液体处理单元m中进行时，这些处理在不同的室内进行。

[第二实施方式]

图5a是用于说明本发明的第二实施方式的基板处理装置1a的结构的图解俯视图，图5b是其立面图。在图5a及图5b中，对所述图1a及图1b的各部的对应部分标注相同的附图标记。

在该实施方式中，俯视时，在配置于主运送室5的一侧的两个层叠单元组g1、g2之间配置有局部运送室c，在该局部运送室c内配置有局部运送机器人lr。同样地，在配置于主运送室5的另一侧的两个层叠单元组g3、g4之间配置有局部运送室c，在该局部运送室c内配置有局部运送机器人lr。构成层叠单元组g1～g4的多个单元及这些单元的层叠状态与第一实施方式的情况相同。

主运送机器人cr与第一实施方式的情况同样地，能够访问共计8个液体处理单元m传递基板w，进而能够与分度器机器人ir之间交接基板w。另外，液体处理单元m也可以构成为能够访问共计8个固化单元d取出基板w。

在本实施方式中，局部运送机器人lr在第一层s1中具有两个，在第二层s2中具有两个。更具体而言，俯视时，在第一层s1中，在主运送室5的两侧各配置有一个局部运送机器人lr11、lr12。更进一步具体而言，在主运送室5的一侧，在第一层s1中，在液体处理单元m11、m12之间配置有一个局部运送机器人lr11。在主运送室5的另一侧也同样地，在液体处理单元m13、m14之间配置有一个局部运送机器人lr12。第二层s2中的两个局部运送机器人lr21、lr22也是同样地配置。局部运送机器人lr11、lr12、lr21、lr22分别配置在局部运送室c11、c12、c21、c22内。局部运送室c形成有运送空间，该运送空间被划分成与主运送室5分离(隔离)。

在第一层s1中，配置于主运送室5的一侧的局部运送机器人lr11被两个液体处理单元m11、m12所共用。

即，局部运送机器人lr11取出已结束在接近载体保持部2的一侧的液体处理单元m11中的处理的基板w，沿铅直方向(更具体而言为上方)进行运送，并将其送入该液体处理单元m11的上方的固化单元d11。另外，局部运送机器人lr11取出已结束在远离载体保持部2的一侧的液体处理单元m12中的处理的基板w，沿铅直方向(更具体而言为上方)进行运送，并将其送入该液体处理单元m12的上方的固化单元d12。

局部运送机器人lr11也可以将已结束在接近载体保持部2的一侧的液体处理单元m11中的处理的基板w运送至远离载体保持部2的一侧的液体处理单元m12的上方的固化单元d12。同样地，局部运送机器人lr11也可以将已结束在远离载体保持部2的一侧的液体处理单元m12中的处理的基板w运送至接近载体保持部2的一侧的液体处理单元m11的上方的固化单元d11。

更一般而言，则局部运送机器人lr11可访问在第一层s1中配置在主运送室5的一侧的两个液体处理单元m11、m12，以及分别配置在这些液体处理单元m11、m12的上方的两个固化单元d11、d12。而且，将一个在液体处理单元m11、m12中已结束处理的基板w通过局部运送机器人lr11送入两个固化单元d11、d12中的任一者，从而对该基板w执行用于使其表面的成膜处理液膜固化的固化处理。

另一方面，局部运送机器人lr11取出已结束在接近载体保持部2的一侧的固化单元d11中的固化处理的基板w，沿铅直方向(更具体而言下方)进行运送，并将其送入该固化单元d11的下方的液体处理单元m11。另外，局部运送机器人lr11取出已结束在远离载体保持部2的一侧的固化单元d12中的固化处理的基板w，沿铅直方向(更具体而言下方)进行运送，并将其送入该固化单元d12的下方的液体处理单元m12。

局部运送机器人lr11也可以将已结束在接近载体保持部2的一侧的固化单元d11中的处理的基板w运送至远离载体保持部2的一侧的液体处理单元m12的下方的液体处理单元m12。同样地，局部运送机器人lr11也可以将已结束在远离载体保持部2的一侧的固化单元d12中的处理的基板w运送至接近载体保持部2的一侧的固化单元d11的下方的液体处理单元m11。更一般而言，将一个已结束在固化单元d11、d12中的固化处理的基板w通过局部运送机器人lr11送入两个液体处理单元m11、m12中的任一者，从对该基板w执行用于去除其表面的固化膜的去除处理。

在第一层s1中配置于主运送室5的另一侧的局部运送机器人lr12的动作也是同样。即，局部运送机器人lr12以能够访问两个液体处理单元m13、m14及两个固化单元d13、d14的方式而构成，对这些单元进行与主运送室5的相反侧的局部运送机器人lr11同样的动作。

配置在第二层s2中的局部运送机器人lr21、lr22的动作也是同样的。即，局部运送机器人lr21以能够访问两个液体处理单元m21、m22及两个固化单元d21、d22的方式而构成，对这些单元进行与局部运送机器人lr11同样的动作。另外，局部运送机器人lr22以能够访问两个液体处理单元m23、m24及两个固化单元d23、d24的方式而构成，对这些单元进行与局部运送机器人lr11同样的动作。

在本实施方式中，配置在主运送室5的一侧的两个局部运送机器人lr11、lr21分别配置在俯视时相重合的两个局部运送室c11、c21内。同样地，在本实施方式中，配置在主运送室5的另一侧的两个局部运送机器人lr12、lr22分别配置在俯视时相重合的两个局部运送室c12、c22内。

也可以将上下重合的两个局部运送室c11、c21及c12、c22设为上下连通的一个局部运送室。而且，也可以在该一个局部运送室c内配置一个局部运送机器人lr。

此时，在主运送室5的一侧，相对于局部运送室c而在载体保持部2的一侧，配置有层叠单元组g1，该层叠单元组g1由液体处理单元m11、固化单元d11、液体处理单元m21及固化单元d21依照此顺序层叠而成，且在远离载体保持部2的一侧，配置有层叠单元组g2，该层叠单元组g2由液体处理单元m12、固化单元d12、液体处理单元m22及固化单元d22依照此顺序层叠而成。配置于局部运送室c的一个局部运送机器人lr能够访问构成这些一对层叠单元组g1、g2的共计8个单元。

此时，局部运送机器人lr也可以以如下方式动作：将在某个液体处理单元m11、m12、m21、m22中已结束成膜处理液膜形成处理的一个基板w送入层叠于其正上方的固化单元d11、d12、d21、d22。另外，局部运送机器人lr也可以将在某个液体处理单元m11、m12、m21、m22中已结束成膜处理液膜形成处理的一个基板w送入能够访问的4个固化单元d11、d12、d21、d22中的任意一个固化单元。一般而言，可通过将基板w送入未用于处理的固化单元d，来提高生产率。

另外，局部运送机器人lr也可以以如下方式动作：将在某个固化单元d11、d12、d21、d22中已结束固化处理的一个基板w送入至层叠于其正下方的液体处理单元m11、m12、m21、m22。另外，局部运送机器人lr也可以将在某个固化单元d11、d12、d21、d22中已结束固化处理的一个基板w送入能够访问的4个液体处理单元m11、m12、m21、m22中的任意一个液体处理单元。一般而言，可通过将基板w送入未用于处理的液体处理单元m进行去除处理，来提高生产率。

关于主运送室5的另一侧，也具有同样的结构，可使被两个层叠单元组g3、g4共用的一个局部运送机器人lr以同样的方式动作。

如从图1a及图5a的比较中可知，通过本实施方式的结构，能够缩小基板处理装置1a的占用面积(足迹(footprint))。

此外，已结束固化单元d中的固化处理的基板w的运送也可以由主运送机器人cr来进行。此时，主运送机器人cr也可以以如下方式动作：将该基板w送入任意的液体处理单元m从而进行去除处理。

[第三实施方式]

图6a是用于说明本发明的第三实施方式的基板处理装置1b的结构的图解俯视图，图6b是其立面图。在本实施方式的基板处理装置1b中，单元的配置形成包括第一层s1、第二层s2及第三层s3的三层结构。

在本实施方式中，俯视时，在主运送室5的一侧沿主运送室5配置有3个层叠单元组g11、g12、g13，在主运送室5的另一侧沿主运送室5配置有3个层叠单元组g14、g15、g16。

层叠单元组g11从下方起依次层叠3个液体处理单元m11、m21、m31而构成。层叠单元组g13从下方起依次层叠3个液体处理单元m12、m22、m32而构成。配置在层叠单元组g11、g13之间的层叠单元组g12从下方起依次层叠6个固化单元d11、d12、d21、d22、d31、d32而构成。在层叠单元组g11、g13之间，进而从下方起依次层叠地配置有局部运送室c11、c21、c31，在这些局部运送室中，分别配置有局部运送机器人lr11、lr21、lr31。在本实施方式中，局部运送室c11、c21、c31相对于层叠单元组g12配置在与主运送室5相反的一侧。

层叠单元组g14从下方起依次层叠3个液体处理单元m13、m23、m33而构成。层叠单元组g16从下方起依次层叠3个液体处理单元m14、m24、m34而构成。配置在层叠单元组g14、g16之间的层叠单元组g15从下方起依次层叠6个固化单元d13、d14、d23、d24、d33、d34而构成。在层叠单元组g14、g16之间，进而从下方起依次层叠地配置有局部运送室c12、c22、c32，在这些局部运送室中，分别配置有局部运送机器人lr12、lr22、lr32。在本实施方式中，局部运送室c12、c22、c32相对于层叠单元组g15，配置在与主运送室5相反的一侧。

若着眼于各层的结构，则在第一层s1中，在主运送室5的一侧，沿主运送室5的俯视时的长边方向配置有一对液体处理单元m11、m12，在该一对液体处理单元m11、m12之间，配置有一对固化单元d11、d12及一个局部运送机器人lr11。在本实施方式中，一对固化单元d11、d12为上下层叠。固化单元d11、d12配置在接近主运送室5的位置上，在相对于固化单元d11、d12与主运送室5相反的一侧配置有局部运送机器人lr11。

局部运送机器人lr11配置在局部运送室c11内。局部运送机器人lr11能够访问一对液体处理单元m11、m12及一对固化单元d11、d12。

局部运送机器人lr11以如下方式动作：将在液体处理单元m11、m12中已结束成膜处理液膜形成处理的一个基板w送出，并将该基板w送入一对固化单元d11、d12中的任一固化单元中。另外，局部运送机器人lr11以如下方式动作：将在固化单元d11、d12中已结束固化处理的一个基板w送出，并将该基板w送入一对液体处理单元m11、m12中的任一液体处理单元中来进行去除处理。

在第一层s1中，主运送室5的另一侧的单元配置也是同样。即，在主运送室5的另一侧，沿主运送室5的俯视时的长边方向，配置有一对液体处理单元m13、m14，在该一对液体处理单元m13、m14之间配置有一对固化单元d13、d14及一个局部运送机器人lr12。一对固化单元d13、d14上下层叠。这些固化单元d13、d14配置在接近主运送室5的位置上，在相对于固化单元d13、d14而与主运送室5相反的一侧划分出局部运送室c12，在此处容纳有局部运送机器人lr12。

局部运送机器人lr12能够访问一对液体处理单元m13、m14及一对固化单元d13、d14。局部运送机器人lr12以如下方式动作：将在液体处理单元m13、m14中已结束处理的一个基板w送出，并将该基板w送入一对固化单元d13、d14中的任一固化单元中。另外，局部运送机器人lr12以如下方式动作：将在固化单元d13、d14中已结束固化处理的一个基板w送出，并将该基板w送入一对液体处理单元m13、m14中的任一液体处理单元中来进行去除处理。

第二层s2及第三层s3的单元配置及各层的局部运送机器人lr的动作也是同样的。第二层s2包括配置在主运送室5的一侧的一对液体处理单元m21、m22、一对固化单元d21、d22及一个局部运送机器人lr21，进而包括配置在主运送室5的另一侧的一对液体处理单元m23、m24、一对固化单元d23、d24及一个局部运送机器人lr22。第三层s3包括配置在主运送室5的一侧的一对液体处理单元m31、m32、一对固化单元d31、d32及一个局部运送机器人lr31，进而包括配置在主运送室5的另一侧的一对液体处理单元m33、m34、一对固化单元d33、d34及一个局部运送机器人lr32。

如上所述，在本实施方式中，液体处理单元m与固化单元d为以平面方式配置(水平配置)，由此能够在抑制基板处理装置1b的总高的同时，具有多个液体处理单元m及固化单元d。

在本实施方式中，配置在主运送室5的一侧的3个局部运送机器人lr11、lr21、lr31在俯视时，分别配置于重合的3个局部运送室c11、c21、c31内。也可以将该3个局部运送室c11、c21、c31设为上下连通的一个局部运送室c。另外，也可以在该一个局部运送室c内配置一个局部运送机器人lr。此时，相对于局部运送室c在载体保持部2侧，配置有由3个液体处理单元m11、m21、m31层叠而成的层叠单元组g11，在远离载体保持部2的一侧，配置有由3个液体处理单元m12、m22、m32层叠而成的层叠单元组g13，在主运送室5侧配置有由6个固化单元d11、d12、d21、d22、d31、d32层叠而成的层叠单元组g12。配置在局部运送室c内的一个局部运送机器人lr可访问构成这3个层叠单元组g11～g13的共计12个单元。

此时，局部运送机器人lr也可以以如下方式动作：将在某个液体处理单元m中已结束成膜处理液膜形成的一个基板w送入位于同一层内的固化单元d。另外，局部运送机器人lr也可以以如下方式动作：将在某个固化单元d中已结束固化处理的一个基板w送入位于同一层内的液体处理单元m，以进行去除处理。另外，局部运送机器人lr也可以将在某个液体处理单元m中已结束成膜处理液膜形成的一个基板w送入能够访问的6个固化单元d中的任意一个固化单元。一般而言，通过将基板w送入未用于处理的固化单元d，能够提高生产率。并且，局部运送机器人lr也可以将在某个固化单元d中已结束固化处理的一个基板w送入能够访问的6个液体处理单元m中的任意一个液体处理单元，以进行去除处理。一般而言，通过将基板w送入未用于处理的液体处理单元m，能够提高生产率。当然，关于主运送室5的相反侧，也可以设为同样的结构。

如从图1a及图6a的比较可知，通过本实施方式的结构，能够缩小基板处理装置1b的占用面积(足迹)。此外，如从图5b及图6b等的比较可知，通过本实施方式的结构，能够将更多的单元配置在相同高度的空间内。换而言之，能够以更低的高度构成相同单元数量的基板处理装置。

[第四实施方式]

图7是用于说明本发明的第四实施方式的基板处理装置1c的结构的图解立面图，示出主运送室的一侧的结构。在主运送室5(参照图5a等)的一侧，配置有一对层叠单元组g21、g22，在这些层叠单元组g21、g22之间配置有局部运送机器人lr1、lr2。在该示例中，一个层叠单元组g21是将3个液体处理单元m1、m2、m3层叠成三层而构成。另一个层叠单元组g22包括一个液体处理单元m4、以及依次层叠于该液体处理单元m4上的4个固化单元d1～d4。在主运送室5的相反侧也设置有同样的结构。主运送机器人cr能够访问配置在主运送室5的一侧的4个液体处理单元m1～m4，并且能够访问同样配置于主运送室5的相反侧的4个液体处理单元。主运送机器人cr也可以构成为能够访问配置在主运送室5的一侧的4个固化单元d1～d4，并且能够访问同样配置于主运送室5的相反侧的4个固化单元。

在该示例中，在主运送室5的一侧设置有两个局部运送机器人lr1、lr2，这些局部运送机器人lr1、lr2配置在一个局部运送室c内。例如，下侧的局部运送机器人lr1也可以访问3个液体处理单元m1、m2、m4及两个固化单元d1、d2。并且，上侧的局部运送机器人lr2也可以访问两个液体处理单元m2、m3及4个固化单元d1～d4。这些局部运送机器人lr1、lr2以如下方式动作：将通过液体处理单元m1～m4形成成膜处理液后的基板w送入任一个固化单元d1～d4。另外，局部运送机器人lr1、lr2以如下方式动作：将由固化单元d1～d4固化处理后的基板w送入任一个液体处理单元m1～m4，以进行去除处理。在主运送室5的相反侧也设置有同样的结构，两个局部运送机器人的动作也是同样。固化处理后的基板w的运送也可以由主运送机器人cr来进行。即，主运送机器人cr也可以以如下方式动作：将在某个固化单元d中经固化处理的基板w送入任一个液体处理单元m中。

[第五实施方式]

图8是用于说明本发明的第五实施方式的基板处理装置1d的结构的图解俯视图。在本实施方式中，设置有3个层叠单元组g31、g32、g33。第一层叠单元组g31是将液体处理单元m11、m21、m31层叠为多层(在本实施方式中为三层)而构成。第二层叠单元组g32沿载体保持部2中的载体3的排列方向与第一层叠单元组g31相对置。该第二层叠单元组g32是将液体处理单元m12、m22、m32层叠为多层而构成。第三层叠单元组g33配置在第一层叠单元组g31与第二层叠单元组g32之间。第三层叠单元组g33将固化单元d1～d6层叠为多层(本实施方式中为6层)而构成，具有与图6a及图6b所示的层叠单元组g12、g15类似的结构。在相对于固化单元d1～d6与主运送机器人cr相反的一侧配置有局部运送室c。在局部运送室c内，配置有局部运送机器人lr。局部运送机器人lr也可以在与液体处理单元m11、m12、m12、m22及m31、m32相对应的各层各设置一个。另外，也可以针对配置在多层(例如所有层)上的液体处理单元m设置共同使用的一个局部运送机器人lr。

主运送机器人cr配置在主运送室5a内。主运送室5被划分在第一层叠单元组g31～第三层叠单元组g33与分度器机器人ir之间。分度器机器人ir与主运送机器人cr之间的基板w的交接也可以经由暂时保持基板w的基板交接单元7来进行。主运送机器人cr将经由基板交接单元7从分度器机器人ir接收到的未处理的基板w送入第一层叠单元组g31或第二层叠单元组g32中所包含的一个液体处理单元m。将由该液体处理单元m处理后的基板w通过局部运送机器人lr送出，并送入该局部运送机器人lr能够访问的固化单元d1～d6中的任一固化单元。将由该固化单元d处理后的基板w通过局部运送机器人lr取出，并送入该局部运送机器人lr能够访问的液体处理单元m，以进行去除处理。通过主运送机器人cr将在该液体处理单元m中已结束去除处理等的基板w取出，并经由基板交接单元7传递至分度器机器人ir。

由固化单元d固化处理后的基板w也可以通过主运送机器人cr送入液体处理单元m，以进行去除处理。

[第六实施方式]

图9是用于说明本发明的第六实施方式的基板处理装置的结构的图，示出固化单元d的结构例。该固化单元d具有构成真空腔室的固化室111。在固化室111上，连接有排气管112。排气管112与真空泵等排气单元113连接。在排气管112上，插装有排气阀110。

在固化室111内，在侧壁115上形成有用于通过局部运送机器人lr送入/送出基板w的基板送入/送出开口114。

此外，在固化室111内，也可以在侧壁117上形成有用于通过主运送机器人cr送出固化处理后的基板w的基板送出开口116。此时，优选以如下方式构成：设置有用于打开和关闭基板送出开口116的挡板118，挡板118通过挡板驱动单元119驱动。另外，优选在挡板118的与固化室111相对置的表面上，设置有作为密封构件的o型环120。此时，挡板118被按压至固化室111的侧壁117，由此，经由o型环120使基板送出开口116气密地密闭。当主运送机器人cr送出固化单元d处理完毕的基板w时，挡板驱动单元119对挡板118进行驱动而打开基板送出开口116。主运送机器人cr的手部hc进入该打开的基板送出开口116。

另一方面，基板送入/送出开口114通过局部运送机器人lr的手部lh所具有的盖构件125而打开和关闭。在盖构件125的与固化室111相对置的表面上，设置有作为密封构件的o型环126。局部运送机器人lr以如下方式动作：将通过液体处理单元m形成成膜处理液膜10后的基板w送入固化室111，然后经由o型环126将盖构件125按压至固化室111的侧壁115。由此，使基板送入/送出开口114气密地堵塞。

在固化室111的顶板面上，设置有用于将非活性气体导入固化室111内的空间的非活性气体喷嘴71a。关于该非活性气体喷嘴71a，具有与图3所示的固化单元的情况相同的结构，对非活性气体喷嘴71a供给非活性气体。在图9中，对与图3的各部相对应的部分标注相同的附图标记，并省略说明。

固化单元d的动作的概要如下所述。

在基板送出开口116被挡板118堵塞的状态下，局部运送机器人lr将基板w送入固化室111。该基板w是在其上表面形成有成膜处理液膜10的状态的基板。局部运送机器人lr使手部lh进入固化室111内，并且将盖构件125按压至固化室111的侧壁115的外表面来堵塞基板送入/送出开口114。如此一来，固化室111内成为气密的密闭空间。在该状态下，打开排气阀110，使排气单元113运作，由此使固化室111内的空间减压至低于大气压的压力。由此，基板w上的成膜处理液膜10干燥而固化。

在固化室111内的空间的减压开始为止之前的期间内，打开非活性气体阀73，从非活性气体喷嘴71向固化室111内供给非活性气体。由此，使固化室111内保持为低湿度的空间。当固化室111内的减压开始后，关闭非活性气体阀73，以不阻碍减压。

如上所述，当基板w上的成膜处理液膜10的固化结束后，使排气单元113停止动作，且根据需要打开非活性气体阀73。由此，使固化室111内的空间恢复至大气压。接着，局部运送机器人lr使保持着形成有固化膜10s的基板w的手部lh后退从而从固化室111退出。接着，局部运送机器人lr将该基板w运送至液体处理单元m，以进行去除处理。

当利用主运送机器人cr运送固化处理后的基板w时，挡板驱动单元119使挡板118从基板送出开口116缩回，由此，打开基板送出开口116。然后，主运送机器人cr使手部hc进入固化室111内，从局部运送机器人lr的手部lh接收固化处理完毕的基板w，并从基板送出开口116送出该基板w。

如上所述，通过在局部运送机器人lr的手部lh上设置盖构件125，可省略用于打开和关闭基板送入/送出开口114的挡板驱动机构。另外，可利用局部运送机器人lr的手部lh在固化室111内保持基板w，因此无需在固化室111内设置基板保持机构。通过减压而进行的成膜处理液膜10的固化可在短时间内进行，因此不可能因为通过局部运送机器人lr的手部lh来保持固化处理中的基板w而对生产率造成大的影响。

另外，通过利用手部lh将基板w运送至固化室111的动作，能够利用盖构件125使基板送入/送出开口114密闭，从而可直接在固化室111内保持基板w并进行固化处理。因此，可省略打开和关闭基板送入/送出开口114的专用的动作及基板w的交接动作，因而能够缩短整个工序的所需时间，从而能够提高生产率。具体而言，能够节省用于打开和关闭基板送入/送出开口的挡板的时间、送入基板时手部lh从固化室111退出的时间、送出基板时手部lh进入固化室111的时间、用于将基板置于顶升销上的动作的时间、用于从顶升销接收基板的动作的时间、使顶升销上升及下降的时间等。此外，当利用局部运送机器人lr运送固化处理后的基板w时，也可以节省打开和关闭基板送入/送出开口114的时间、与主运送机器人cr进行基板w的交接所需要的时间等。

此外，也可以在通过减压进行固化处理的同时，对基板w进行加热。具体而言，也可以通过利用手部加热单元97a(参照图4)对局部运送机器人lr的手部lh进行加热，来对基板w进行加热。另外，也可以在固化室111内具有通过辐射热或电磁波照射而对基板w进行加热的加热单元127，利用该加热单元127对保持于手部lh上的基板w进行加热。

[第七实施方式]

图10是用于说明本发明的第七实施方式的图，示出对局部运送机器人lr的手部lh进行清洗的手部清洗单元(臂清洗单元)的结构。

在以上所述的实施方式中，在局部运送室c内具有用于对手部lh进行清洗的结构。与此相对，在本实施方式中，例如，如图8中以虚拟线所示，与局部运送室c相邻而设置有手部清洗单元170。

手部清洗单元170包括与局部运送室c相邻而设置的手部清洗室171、配置在手部清洗室内的手部清洗喷嘴172、以及用于使手部清洗室171内减压至低于大气压的压力的排气单元173。

手部清洗室171构成真空腔。在手部清洗室171的底部175，连接有排气/排液管176。排气/排液管176经由排气管176a与真空泵等排气单元173连接。在排气管176a上，插装有排气阀177。排气/排液管176进一步经由排液阀178与排液管176b连接。

在手部清洗室171内，在侧壁181上形成有用于使局部运送机器人lr的手部lh插入的开口180。开口180通过局部运送机器人lr的手部lh上所具有的盖构件125而被打开和关闭。在盖构件125的与手部清洗室171相对置的表面上，设置有作为密封构件的o型环126。局部运送机器人lr在未运送基板w时，以如下方式动作，即，从开口180向手部清洗室171插入手部lh，然后，经由o型环126将盖构件125按压至手部清洗室171的侧壁174。由此，使开口180气密地堵塞。

手部清洗喷嘴172例如配置在手部清洗室171的顶板面上。手部清洗喷嘴172对已插入至手部清洗室171的手部lh喷出清洗液。手部清洗喷嘴172也可以为呈淋浴状喷出清洗液的淋浴喷嘴(showernozzle)。在手部清洗喷嘴172上，连接有清洗液配管185。清洗液配管185与清洗液供给源186连接。清洗液供给源186供给能够使成膜处理液溶解的清洗液，例如有机溶剂。在清洗液配管185上，插装有打开和关闭清洗液流路的清洗液阀187。

手部清洗单元170的动作的概要如下所述。

局部运送机器人lr使手部lh进入手部清洗室171内，并且将盖构件125按压至手部清洗室171的侧壁181的外表面来堵塞开口180。如此一来，手部清洗室171内成为气密的密闭空间。在该状态下，打开排液阀178。然后，通过打开清洗液阀187，来从手部清洗喷嘴172向手部lh供给清洗液。由此，对手部lh进行清洗。清洗液向底部175落下，通过排气/排液管176，进而通过排液阀178向排液管176b排出。

当从手部清洗喷嘴172仅喷出了规定时间的清洗液时，关闭清洗液阀187，使清洗液的喷出停止。然后，关闭排液阀178，取而代之，打开排气阀177，使排气单元173运作。由此，使手部清洗室171内的空间减压至低于大气压的压力。由此，手部lh上的液体成分蒸发，从而使手部lh干燥。

像这样，当手部lh的清洗及干燥结束后，使排气单元173停止动作，且根据需要打开排液阀178。由此，使手部清洗室171内的空间恢复至大气压。接着，局部运送机器人lr使手部lh后退而从手部清洗室171退出。

也可以在进行手部清洗室171的减压的同时，对基板w进行加热。具体而言，也可以通过利用手部加热单元97a(参照图4)对局部运送机器人lr的手部lh进行加热，从而对基板w进行加热。由此，可促进手部lh的干燥。另外，也可以在手部清洗室171内具有通过辐射热或电磁波照射来对手部lh进行加热的加热单元188，从而促进手部lh的干燥。

如上所述，在该实施方式中，与局部运送室c相邻而设置有手部清洗室171(臂清洗室)，因而当局部运送机器人lr未运送基板w时，可在手部清洗室171中对手部lh进行清洗。并且，由于在手部清洗室171内配置有手部清洗喷嘴172(臂清洗喷嘴)，因而能够在抑制清洗液进入局部运送室c内的同时，对手部lh进行清洗。由此，能够抑制清洗液对基板w的影响。另外，通过使手部清洗室171减压，能够将用清洗液清洗后的手部lh迅速干燥。

[第八实施方式]

图11是用于说明本发明的第七实施方式的基板处理装置的结构的图，是图解地示出能够代替以上所述的固化单元使用的固化单元的结构例的剖视图。

在该实施方式中，固化单元d具有与图3所示的结构相似的结构，进而包括作为基板冷却单元的冷却板80。也可以代替图3所示的结构，使用与图9所示的结构相似的结构。图10中，示出具有与图3所示的结构相似的结构的示例。

冷却板80配置在底座部81上，在其上表面上保持基板w且从下表面进行冷却。贯通冷却板80而配置有多个(3根以上)顶升销84。顶升销84通过顶升销升降单元85而上下移动，由此，在冷却板80上使基板w上下移动。

基板处理装置还包括将已结束固化室51中的固化处理的基板w运送至冷却板80为止的第二局部运送机器人150。第二局部运送机器人150包括保持基板w的手部151以及使手部151移动的手部驱动单元152。手部驱动单元152使手部151在基板固持器52的上方(第一基板保持位置)与冷却板80的上方(第二基板保持位置)之间往返移动。在进行手部151与顶升销54、84之间的基板w的交接时，使顶升销54、84升降。当然，手部驱动单元152也可以设为使基板w升降来与顶升销54、84交接基板w的结构。

在固化室51内，一边利用基板固持器52对基板w进行加热，一边使固化室51内的固化处理空间50减压，从而使基板w的表面的成膜处理液膜10固态化而形成固化膜10s。

在该固化处理之后，使固化处理空间50恢复至大气压，并打开活动盖部512。如此一来，在底座部511与活动盖部512之间形成用于送出基板w的开口。然后，通过顶升销54使固化处理完毕的基板w向基板固持器52的上方抬起。于是，第二局部运送机器人150使其手部151经由底座部511与活动盖部512之间所形成的开口而进入。然后，通过顶升销54下降，而将固化处理完毕的基板w传递至手部151。然后，第二局部运送机器人150对手部151进行驱动，使该基板w移动至冷却板80的上方为止。在该状态下，顶升销升降单元85使顶升销84上升，从而从手部151接收基板w。手部151从冷却板80的上方缩回之后，顶升销84下降，由此，将基板w载置于冷却板80上。

冷却板80将基板w冷却至常温。然后，顶升销84抬起基板w，局部运送机器人lr的手部lh接收该基板w并将其送出至固化单元d外。当利用主运送机器人cr运送固化处理后的基板w时，主运送机器人cr的手部hc从顶升销84接收基板w并将其送出至固化单元d外。

如上所述，由于是利用冷却板80使固化处理后的基板w冷却的结构，因此能够缩短固化单元d中的处理时间，因而能够提高生产率。由于利用与主运送机器人cr不同的第二局部运送机器人150来运送在固化室51内经加热的基板w，因此能够避免过多的热蓄积于主运送机器人cr，从而能够抑制热对主运送机器人cr所运送的基板w的影响。

以上，对本发明的实施方式进行了说明，但本发明可以进一步通过其他形态来实施。

例如，在以上所述的实施方式中，固化单元d构成为使固化室51、111内减压来进行减压干燥，但固化单元d并不需要具有用于减压的结构。例如，固化单元d也可以构成为在大气压中对基板w进行加热来使成膜处理液膜10固化。另外，也可以构成为从非活性气体供给源74供给经加热的非活性气体，并利用该非活性气体所形成的暖风来促进成膜处理液膜10的干燥及固化。

在所述图1a、图1b，图5a、图5b，图6a、图6b及图7的结构中，也可以在分度器机器人ir与主运送机器人cr之间配置暂时保持基板w的基板交接单元，从而与图8的结构的情况同样地进行这些机器人之间的基板交接。

本申请对应于2017年3月27日向日本专利局提交的日本特愿2017-061381号，该申请的所有公开内容均通过引用而并入本申请。

已对本发明的实施方式进行了详细说明，但这些实施方式仅为用于阐明本发明的技术内容的具体例，本发明不应被解释为限定于这些具体例，本发明的范围仅通过所附的权利要求书来限定。

附图标记说明

w：基板

ir：分度器机器人

s1：第一层

s2：第二层

s3：第三层

m、m1-m4、m11-m14、m21-m24、m31-m34：液体处理单元

d、d1-d6、d11-d14、d21-d24、d31-d34：固化单元

lr、lr1、lr2、lr11-lr14、lr21-lr24、lr31、lr32：局部运送机器人

lh、lh1、lh2：局部运送机器人的手部

c、c11-c14、c21-c24：局部运送室

g1-g4、g11-g16、g21、g22、g31-g33：层叠单元组

cr：主运送机器人

hc：主运送机器人的手部

1、1a、1b、1c、1d：基板处理装置

2：载体保持部

3：载体

5、5a：主运送室

7：基板交接单元

10：成膜处理液膜

10s：固化膜

11：处理室

12：旋转夹盘

13：杯体

14：药液喷嘴

15：成膜处理液喷嘴

16：去除液喷嘴

17：马达

18：旋转轴线

19：遮断板

19a：对置面

19b：开口

20：遮断板驱动单元

20a：遮断板升降单元

20b：遮断板旋转单元

21：药液配管

22：药液阀

23：药液供给源

25：遮断板的旋转轴

26：成膜处理液配管

27：成膜处理液阀

28：成膜处理液供给源

29：清洗喷嘴

31a：清洗液配管

31b：有机溶剂配管

32a：清洗液阀

32b：有机溶剂阀

33a：清洗液供给源

33b：有机溶剂供给源

37：基板送入/送出开口

38：基板送入/送出开口

39、40：挡板

41、42：挡板驱动单元

45：非活性气体流路

46：非活性气体配管

47：非活性气体阀

48：非活性气体供给源

50：固化处理空间

51：固化室

511：底座部

512：活动盖部

52：基板固持器

53h：加热器

53c：冷却单元

54：顶升销

55：顶升销升降单元

56：盖部驱动单元

62：排气配管

63：排气单元

64：排气阀

71、71a：非活性气体喷嘴

72：非活性气体配管

73：非活性气体阀

74：非活性气体供给源

80：冷却板

81：底座部

84：顶升销

85：顶升销升降单元

89：旋转轴线

90：手部驱动单元

91、91a：清洗液喷嘴

92：清洗液配管

93：清洗液阀

94：清洗液供给源

97a：手部加热单元

97b：手部冷却单元

98a：热介质通路

98b：制冷剂通路

99a：加热板

99b：冷却板

101：去除液配管

102：去除液阀

103：去除液供给源

110：排气阀

111：固化室

112：排气管

113：排气单元

114：基板送入/送出开口

116：基板送出开口

118：挡板

125：盖构件

126：o型环

127：加热单元

131：背面喷嘴

132：喷出口

133：清洗液供给配管

134：清洗液阀

135：清洗液供给源

136：有机溶剂阀

137：有机溶剂供给源

140：非活性气体流路

141：非活性气体供给配管

142：非活性气体阀

143：非活性气体供给源

150：第二局部运送机器人

151：手部

152：手部驱动单元

160：底部

161：排液配管

165：非活性气体喷嘴

166：非活性气体配管

167：非活性气体阀

168：非活性气体供给源

170：手部清洗单元

171：手部清洗室

172：手部清洗喷嘴

173：排气单元

175：底部

176：排气/排液管

177：排气阀

178：排液阀

180：开口

181：侧壁

185：清洗液配管

186：清洗液供给源

187：清洗液阀

188：加热单元