多响应驱动薄膜及其制备方法与流程

文档序号:20156905发布日期:2020-03-24 20:39阅读:来源:国知局

技术特征:

1.多响应驱动薄膜,包括油墨层、pet层和超顺排碳纳米管,其特征在于,所述油墨层和超顺排碳纳米管分别位于pet层的两侧。

2.根据权利要求1所述的多响应驱动薄膜,其特征在于,所述超顺排碳纳米管的取向方向与pet膜长度方向呈α角度,其特征在于α≥0°。

3.根据权利要求2所述的多响应驱动薄膜,其特征在于,所述超顺排碳纳米管的层数为30层。

4.根据权利要求2所述的多响应驱动薄膜,其特征在于,所述薄膜在近红外光、电压、湿度、液氮、有机蒸汽环境中产生弯曲致动,并在环境移除后恢复原状。

5.根据权利要求4所述的多响应驱动薄膜,其特征在于,所述弯曲致动的方向都是向超顺排碳纳米管一侧弯曲。

6.根据权利要求4所述的多响应驱动薄膜,其特征在于,所述电压是激发频率为0.01hz-20hz的方波电压。

7.根据权利要求4所述的多响应驱动薄膜,其特征在于,所述相对湿度≥20%。

8.根据权利要求4所述的多响应驱动薄膜,其特征在于,所述有机蒸汽是甲醇,乙醇,丙酮,乙酰乙基,甲苯或石油。

9.根据权利要求4-8所述的多响应驱动薄膜,其特征在于,所述弯曲致动次数≥100。

10.根据权利要求1所述的多响应驱动薄膜的制备方法,其特征在于包含如下步骤:

(1)油墨层制备:将炭黑(3-5%),聚氨酯(30%)溶解在乙酸乙酯和丙酮(20%/80%)的混合溶剂中,混匀后均匀涂布在长方形pet膜的一面上,其中pet膜厚度为1.6μm,油墨层厚度为1.2μm;

(2)sacnt层制备:通过化学气相沉积在硅片上生长的sacnt薄膜,厚度为249μm,碳纳米管直径约为10nm,壁数为9。用刀片从sacnt薄膜拉出碳纳米管阵列,取30层铺设在pet膜的另一面,使sacnt取向方向与pet膜长度方向平行,形成sacnt层,厚度为0.31μm,然后用无水乙醇浸润sacnt薄膜,使其致密化。

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