基于下粗上细型TSV的嵌套式散热网络结构的制作方法

文档序号:18459814发布日期:2019-08-17 01:55阅读:266来源:国知局
基于下粗上细型TSV的嵌套式散热网络结构的制作方法

本发明属于集成电路技术领域,尤其涉及一种基于下粗上细型tsv的嵌套式散热网络结构及制备方法。



背景技术:

三维集成是突破摩尔定律极限的重要技术,而硅直通孔(throughsiliconvia,tsv)作为连接上、下层器件的导电通道,是实现三维集成电路的关键组件,它的特性对三维集成电路的整体性能具有决定性作用。tsv主要功能体现在两方面:一是显著缩短互连线长度,提高系统的集成度和性能,二是实现异种元件和系统的集成。tsv的另一个重要功能是作为热疏导通路,增强三维集成系统的热负载能力,利用tsv阵列来疏导芯片内部的热量时,需要设置合适的tsv半径、密度和间距以减小热应力对载流子迁移率的影响,从而提高芯片的可靠性。实现三维系统的集成,有利于提高信号传输效率,但是系统的功率密度也急剧增大,这将导致严重的散热问题,成为限制三维集成电路发展的瓶颈。于是,如何将三维集成电路中芯片的温度快速散去,实现有效的传热便成为三维集成电路发展的关键。



技术实现要素:

本发明要解决的技术问题是:提供一种基于下粗上细型tsv的嵌套式散热网络结构,以解决现有技术平面集成工艺互连线长、版图面积大、制造成本高等技术问题以及解决三维集成功率系统的热稳定性问题。

本发明技术方案

一种基于下粗上细型tsv的嵌套式散热网络结构,它包括:顶层芯片、中间层芯片和底层芯片,所述顶层芯片、中间层芯片和底层芯片重叠放置,顶层芯片、中间层芯片和底层芯片通过sio2与底部铜热层键合在一起;顶层芯片、中间层芯片和底层芯片上均匀设置有散热tsv孔。

所述散热tsv孔在底层芯片中tsv孔的半径最大,中间层芯片中tsv孔的半径次之,顶层芯片中tsv孔的半径最小。

散热tsv孔有36个,tsv孔与tsv孔之间的距离相等,且三层芯片中的tsv孔中心对齐。

散热tsv孔有二层材料;内层未cu、外层为sio2。

顶层芯片、中间层芯片和底层芯片通过sio2键合在一起。

本发明的有益效果:

本发明不仅提高了系统的集成度和各功能模块的性能,并且将三层芯片在垂直方向上堆叠在一起,通过键合使界面上的互连导电材料熔合在一起,实现功率系统的三维集成,解决了平面集成工艺互连线长、版图面积大、制造成本高等技术问题;设计中对各层芯片中tsv的半径进行优化,确保三维系统中各层芯片有较优的内部热疏导结构,选择合适的绝缘导热材料作为tsv的缓冲层,快速地将芯片内部产生的热量疏导至铜散热器,确保热量能被及时有效地散发掉,解决了三维集成功率系统的热稳定性问题。

附图说明:

图1为本发明结构侧视示意图;

图2为本发明结构顶部示意图。

具体实施方式:

为了便于本领域技术人员理解,下面结合附图对本发明方案进行说明:

从图1和2可以得到该三维嵌套式散热模型为三层芯片的堆叠,上、中、下三层功率芯片以二氧化硅介质键合在一起,经二氧化硅安装在铜散热基座上,从图中可以得到,键合层sio2的厚度为h0,单层硅芯片的厚度为h0,功率元胞的长和宽分别为l0、w0,厚度为z0,三维堆叠散热模型的功耗由图中的小正方块产生,简称功率元胞,产生的热量沿着芯片垂直传导,最终通过铜散热器消失。功率块和tsv均匀分布于硅衬底上,每个功率块周围有四个tsv。功率块之间的间距根据tsv的直径大小和安全距离调整,热源为体热源,热源实际热路程将缩短,近似认为热路程缩短为二分之一热源纵向厚度。

三维嵌套式散热网络对三层芯片进行堆叠,三层芯片尺寸相等;三维嵌套式散热网络由三层芯片堆叠而成,芯片与芯片之间通过sio2键合在一起,三层芯片的面积、厚度保持一致;

底层芯片中tsv的半径最大,中间层芯片中tsv的半径次之,顶层芯片中tsv的半径最小;

三层芯片中的tsv皆为散热tsv,tsv间距相等。

三层芯片中共有75个功率元胞,三层芯片通过sio2键合在一起;三维嵌套式散热网络的功耗由图中的功率块产生,简称功率元胞,功率块和tsv均匀分布于硅衬底上,图1所示的三维嵌套式散热网络有三层芯片,每一层芯片中包含25个功率元胞,因此三层芯片中总共75个功率元胞,图中三层芯片通过sio2键合在一起。

顶层芯片、中间层芯片以及底层芯片中各有36个散热tsv。顶层芯片中tsv的半径最小,底层芯片中tsv的半径最大,中间层芯片中tsv的半径次之,tsv与tsv之间的距离相等,且三层芯片中的tsv中心对齐。

所述散热tsv的孔包括中心的cu、外层的sio2。

三层芯片通过sio2与铜热沉键合在一起。

为了便于本领域技术人员理解,下面结合附图对本发明方案进行细化说明:

首先对均匀型tsv进行优化,即是将下粗上细型tsv三维嵌套式散热网络中三层芯片中的tsv半径设置相同,对于均匀型tsv的三维嵌套式散热网络进行优化设计,即分别改变tsv的半径、密度和间距,分别对其进行仿真,得到中三维嵌套式散热网络三层芯片的温度随tsv半径、密度、间距的变化曲线,对这三条曲线进行分析,得到散热较好的tsv半径、间距和密度,将此tsv的半径作为下粗上细型tsv三维嵌套式散热网络模型中顶层芯片中的tsv半径,下粗上细型tsv三维嵌套式散热模型中tsv的间距和密度与优化所得的均匀型tsv的间距和密度保持一致。

其次对下粗上细型tsv三维嵌套式散热模型进行优化设计。对均匀型tsv的三维嵌套式散热网络进行优化,得出均匀型tsv的半径,选取该tsv的半径作为下粗上细型tsv三维嵌套式散热模型中顶层芯片tsv的半径,依次增大中间层芯片和底层芯片中tsv的半径,分别进行仿真,得到下粗上细型tsv三维嵌套式散热模型中三层芯片的温度随中间层芯片和底层芯片tsv半径的变化曲线,对这两条曲线进行分析,得到散热较好中间层芯片tsv半径和底层芯片tsv半径。

完成各层芯片中的tsv优化以后,进一步对铜散热器进行优化。根据对均匀型tsv的三维嵌套式散热模型、下粗上细型tsv的三维嵌套式散热模型中tsv半径的优化,将基于下粗上细型tsv的三维嵌套式散热网络模型中三层芯片tsv的半径分别设为:顶层芯片中tsv的半径为优化所得的均匀型tsv的半径,中间层芯片tsv的半径和底层芯片tsv的半径分别是下粗上细型tsv模型中优化所得的中间层芯片tsv半径和底层芯片tsv半径,将此模型设为基于下粗上细型tsv的三维嵌套式散热模型,然后对底层芯片下的铜散热器进行优化设计,对铜散热器进行优化设计,主要是增加铜散热器的横截面积,也即通过增加铜散热器翅片的数量,研究基于下粗上细型tsv的三维嵌套式散热网络的温度随铜散热器翅片数量的变化,最后得到散热效果较优的基于下粗上细型tsv的三维嵌套式散热模型。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种基于下粗上细型TSV的嵌套式散热网络结构,它包括:顶层芯片、中间层芯片和底层芯片,其特征在于:所述顶层芯片、中间层芯片和底层芯片重叠放置,顶层芯片、中间层芯片和底层芯片通过SiO2与底部铜热层键合在一起;顶层芯片、中间层芯片和底层芯片上均匀设置有散热TSV孔;解决了三维集成功率系统的热稳定性问题。

技术研发人员:马奎;杨发顺;杨勋勇;王勇勇;施建磊;韩志康
受保护的技术使用者:贵州大学
技术研发日:2019.07.02
技术公布日:2019.08.16
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