一种高分子聚合物修饰隔膜、制备方法及应用与流程

文档序号:20036228发布日期:2020-02-28 11:14阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种高分子聚合物修饰隔膜,其特征在于,包括:隔膜基体和粘附于所述隔膜基体表面的高分子聚合物层,所述高分子聚合物层由单体a、单体b和单体c经自由基共聚而成,其中,

所述单体a为丙烯腈或其衍生物,所述单体b为含氟(甲基)丙烯酸酯或其衍生物,所述单体c为烷基醇二丙烯酸酯或其衍生物,所述单体a、单体b和所述单体c的摩尔比为1:1:0.01-2。

2.根据权利要求1所述的高分子聚合物修饰隔膜,其特征在于,所述单体b选自(甲基)丙烯酸三氟乙酯、(甲基)丙烯酸五氟戊酯、(甲基)丙烯酸六氟丁酯、(甲基)丙烯酸十二氟庚酯或(甲基)丙烯酸十三氟辛酯中的一种或多种的混合物。

3.根据权利要求1所述的高分子聚合物修饰隔膜,其特征在于,所述单体c选自二乙二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯中的一种或多种的混合物。

4.一种如权利要求1-3任一项所述的高分子聚合物修饰隔膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

s1,将反应单体在50-80℃下聚合反应5-24h,得到聚合液;

s2,冷冻干燥所述聚合液得到固体粉末;

s3,将所述固体粉末配置成质量分数为5%-30wt%的浆料;

s4,将所述浆料均匀地涂覆于所述隔膜基体表面,得到高分子聚合物修饰隔膜。

5.根据权利要求4所述的高分子聚合物修饰隔膜的制备方法,其特征在于,所述步骤s1具体包括:

在惰性气体保护下,将摩尔比为1:1:0.01-2的单体a、单体b、单体c和表面活性剂分散于水中,加热搅拌5-15min,然后加入引发剂,在50-80℃下聚合反应5-24h得到聚合液,其中,所述引发剂与所述单体c的质量比为0.01-0.2:1。

6.根据权利要求5所述的高分子聚合物修饰隔膜的制备方法,其特征在于,所述表面活性剂的添加量为20-100mg。

7.根据权利要求4所述的高分子聚合物修饰隔膜的制备方法,其特征在于,在步骤s3中,所述浆料浓度为20-25wt%。

8.根据权利要求4所述的高分子聚合物修饰隔膜的制备方法,其特征在于,在步骤s4中,所述浆料的涂覆厚度为5-20μm。

9.根据权利要求4所述的高分子聚合物修饰隔膜的制备方法,其特征在于,在步骤s4之后,还包括:将所述高分子聚合物修饰隔膜在40-70℃下真空干燥300-720min。

10.一种如权利要求1-4任一项所述的高分子聚合物修饰隔膜在锂金属电池和锂离子电池中的应用。

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