LED芯片的制作方法

文档序号:21037528发布日期:2020-06-09 20:30阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种led芯片,包括:

外延层,位于衬底上;

第一电极和第二电极,位于所述外延层上;

其特征在于,所述外延层包括第一区域和第二区域,所述第一区域具有凸台结构;

第一电极形成在所述第一区域上,具有与所述第一区域相互配合的凸台结构;

第二电极形成在所述第二区域上。

2.根据权利要求1所述的led芯片,其特征在于,所述凸台结构为立体几何状。

3.根据权利要求2所述的led芯片,其特征在于,所述立体几何状为圆柱、环状圆形凸台、棱柱、棱台、环状方形凸台中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的led芯片,其特征在于,所述第一电极为n型电极,所述第二电极为p型电极。

5.根据权利要求1所述的led芯片,其特征在于,所述第二电极的上表面高于第一电极的上表面。

6.根据权利要求1所述的led芯片,其特征在于,所述外延层包括从下到上依次形成的第一半导体层、量子阱发光层和第二半导体层。

7.根据权利要求6所述的led芯片,其特征在于,所述第一半导体层和所述第二半导体层掺杂类型不同,所述第一半导体层为n型gan,所述第二半导体层为p型gan。

8.根据权利要求6所述的led芯片,其特征在于,还包括:

ito层,位于所述外延层的第二区域,其中,所述ito层部分位于所述第二电极和所述第二半导体层之间。

9.根据权利要求8所述的led芯片,其特征在于,还包括:

钝化层,覆盖于所述外延层、所述ito层、以及部分第一电极和第二电极上,其中

所述钝化层覆盖所述第一和第二电极的外边缘1-3um。

10.根据权利要求9所述的led芯片,其特征在于,所述钝化层材料为氧化硅、氮化硅、氮氧硅、聚酰亚胺中的至少一种。

11.根据权利要求1所述的led芯片,其特征在于,所述衬底为蓝宝石图形化衬底。


技术总结
本申请公开了一种LED芯片,包括:外延层,位于衬底上;第一电极和第二电极,位于所述外延层上;其中,所述外延层包括第一区域和第二区域,所述第一区域具有凸台结构;第一电极形成在所述第一区域上,具有与所述第一区域相互配合的凸台结构;第二电极形成在所述第二区域上。本申请公开的所述LED芯片具有的立体状形貌的电极相对平面型电极,提高了电极结构强度,保证封装焊线质量的稳定,降低在封装焊线作业时电极金属膜层移位、剥离等的风险。

技术研发人员:吴珊;赵进超;李超
受保护的技术使用者:杭州士兰明芯科技有限公司
技术研发日:2019.10.25
技术公布日:2020.06.09
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