显示装置及其制备方法与流程

文档序号:26940232发布日期:2021-10-12 15:39阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种显示装置,其特征在于,包括:支撑部,所述支撑部具有支撑面、以及连接于所述支撑面的周缘且凸出所述支撑面的弧形承载面;及显示器件,设置于所述承载面,包括:衬底,所述衬底贴设于所述支撑部的承载面上;多个发光单元,所述多个发光单元设置于所述衬底远离所述支撑部的一侧;及多个微透镜,所述多个微透镜设置于所述发光单元的出光侧且与所述多个发光单元对应。2.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述显示器件还包括可伸缩层,所述可伸缩层设置在所述多个微透镜远离所述衬底的一侧。3.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述微透镜在所述发光单元所在平面的正投影与对应发光单元所在的区域至少部分重叠。4.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述显示器件还包括保护层,所述保护层设置在所述多个微透镜远离所述衬底的一侧。5.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述发光单元包括发光元件,所述微透镜向所述发光单元的出光侧凸起,所述微透镜朝向所述发光单元的一侧具有向出光侧凹陷的凹部,所述发光元件位于所述凹部中。6.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述显示器件还包括微透镜连接层,所述微透镜连接层连接在至少相邻两个微透镜之间。7.如权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述发光单元至少包括有源结构层,所述有源结构层朝向出光侧的一面与所述发光元件连接。8.如权利要求7所述的显示装置,其特征在于,所述发光单元还包括介电层,所述介电层设置在所述衬底朝向出光侧的一侧,所述有源结构层设置在所述介电层远离所述衬底的一侧。9.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述支撑部为半球形、半椭球形或者弧形体。10.一种显示装置的制备方法,其特征在于,所述显示装置的制备方法包括:制备显示器件;提供支撑部,用于支撑所述显示器件,所述支撑部具有支撑面、以及连接于所述支撑面的周缘且凸出所述支撑面的弧形承载面;将所述显示器件贴设于所述支撑部的承载面上。11.如权利要求10所述的显示装置的制备方法,其特征在于,所述制备显示器件包括:提供衬底,并在所述衬底上形成多个发光单元,所述“将所述显示器件贴设于所述支撑部的承载面上”包括:将所述显示器件中的衬底贴设于所述支撑部的承载面上;制备微透镜集成件,所述微透镜集成件包括多个微透镜;将所述微透镜集成件贴合在所述多个发光单元的出光侧,所述多个微透镜与所述多个发光单元对应设置。12.如权利要求11所述的显示装置的制备方法,其特征在于,在所述“将所述微透镜阵列贴合在所述多个发光单元的出光侧,所述多个微透镜与所述多个发光单元对应设置”之
后,所述制备显示器件还包括:在所述微透镜集成件远离所述发光单元的一侧形成可伸缩层。13.如权利要求11所述的显示装置的制备方法,其特征在于,在所述“将所述微透镜阵列贴合在所述多个发光单元的出光侧,所述多个微透镜与所述多个发光单元对应设置”之后,所述制备显示器件还包括:在所述微透镜集成件远离所述发光单元的一侧形成保护层。14.如权利要求11所述的显示装置的制备方法,其特征在于,所述“所述多个微透镜与所述多个发光单元对应设置”包括:所述微透镜在所述发光单元所在平面的正投影与对应发光单元所在的区域至少部分重叠。

技术总结
本发明提供了一种显示装置(10),包括支撑部(200)和显示器件(100),显示器件(100)设置于支撑部(200)的承载面(220)上,显示器件(100)包括衬底(110)、多个发光单元(120)及多个微透镜(130),衬底(110)贴设于承载面(220)上;多个发光单元(120)设置于衬底(110)远离支撑部(200)的一侧;多个微透镜(130)设置于发光单元(120)的出光侧且与多个发光单元(120)对应。本发明还提供一种显示装置的制备方法。本发明显示装置的支撑部上具有的弧形承载面使得发光单元和微透镜呈弧形设置,发光单元发出的光经过微透镜后衍射,并且弧形设置的发光单元发出的光呈弧形发射,可形成具有视觉差的显示图像。示图像。示图像。


技术研发人员:阿密特古普塔 康佳昊 袁泽
受保护的技术使用者:深圳市柔宇科技有限公司
技术研发日:2020.04.08
技术公布日:2021/10/11
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