显示装置的制作方法

显示装置
1.相关申请的交叉引用
2.本技术要求于2020年3月30日在韩国知识产权局提交的第10
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2020
‑
0038235号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的内容通过引用被全部包含在本文中。
技术领域
3.本公开的实施例的方面涉及一种显示装置。


背景技术：

4.近年来，显示装置的使用目的已经多样化。另外，因为显示装置的厚度和重量正在减小，所以显示装置的使用范围正在增加，并且因此对可以在各种领域中使用的显示装置的研究正在持续地进行。
5.提供在显示装置中的显示元件发射预定颜色的光以提供图像，并且所发射的光可以穿过用于密封显示元件的密封构件。在密封构件具有多层堆叠的结构的情况下，从显示元件发射的光可能经历由于密封构件的膜厚度引起的干涉。
6.在本背景技术部分中公开的上述信息是用于增强对本公开的背景的理解，并且因此上述信息可能包含不构成现有技术的信息。


技术实现要素：

7.本公开的一个或多个示例性实施例是针对一种通过在显示元件和密封构件之间布置光学层而能够在一角度(例如，特定角度或者预定角度)处减小色偏(例如，特定色偏或者预定色偏)的显示装置。
8.然而，本公开的方面和特征不限于上文所述，并且通过参照下面给出的本公开的详细描述和/或通过实践本公开的一个或多个实施例，本公开的上文所述以及其它方面和特征对于本公开所属领域的普通技术人员而言将变得更明显。
9.根据本公开的一个或多个示例性实施例，一种显示装置包括：基底；显示元件，在所述基底上；覆盖层，在所述显示元件上；光学层，在所述覆盖层上，并且包括：第一光学层，在所述显示元件上；以及第二光学层，在所述第一光学层上；以及薄膜封装层，在所述光学层上，并且包括：第一无机封装层，在所述第二光学层上；辅助层，在所述第一无机封装层上；有机封装层，在所述辅助层上；以及第二无机封装层，在所述有机封装层上。所述第二光学层的折射率小于所述覆盖层的折射率，并且所述第一光学层的折射率在所述第二光学层的所述折射率和所述覆盖层的所述折射率之间。
10.在一示例性实施例中，所述第一光学层的所述折射率可以在从1.62至1.89的范围内，并且所述第一光学层的厚度可以在从20nm至60nm的范围内。
11.在一示例性实施例中，所述第二光学层的所述折射率可以在从1.45至1.62的范围内，并且所述第二光学层的厚度可以在从40nm至100nm的范围内。
12.在一示例性实施例中，所述覆盖层的所述折射率可以在从1.6至2.3的范围内，并
且所述覆盖层的厚度可以在从30nm至120nm的范围内。
13.在一示例性实施例中，所述辅助层的厚度可以在从30nm至100nm的范围内，并且所述第一无机封装层的厚度可以在从400nm至2200nm的范围内。
14.在一示例性实施例中，所述辅助层可以插置在所述第一无机封装层和所述有机封装层之间，所述第一无机封装层的折射率可以大于所述辅助层的折射率，并且所述辅助层的所述折射率可以在所述第一无机封装层的所述折射率和所述有机封装层的折射率之间。
15.在一示例性实施例中，所述辅助层的所述折射率可以满足：min(n1,n2)+|n2
‑
n1|
×
0.25<n3<min(n1,n2)+|n2
‑
n1|
×
0.75，其中，n3可以代表所述辅助层的所述折射率，n1可以代表所述第一无机封装层的所述折射率，n2可以代表所述有机封装层的所述折射率，min(n1,n2)可以代表n1和n2中的最小值，并且|n2
‑
n1|可以代表n2和n1之间的差的绝对值。
16.在一示例性实施例中，所述第一无机封装层和所述辅助层中的每一个可以包括无机绝缘材料。
17.在一示例性实施例中，所述显示装置还可以包括：下层，插置在所述辅助层和所述有机封装层之间。
18.在一示例性实施例中，所述辅助层的折射率可以大于所述有机封装层的折射率，并且所述下层的折射率可以在所述辅助层的所述折射率和所述有机封装层的所述折射率之间。
19.在一示例性实施例中，所述辅助层的所述折射率可以满足：min(n1,n2)+|n2
‑
n1|
×
0.25<n3<min(n1,n2)+|n2
‑
n1|
×
0.75，其中，n3可以代表所述辅助层的所述折射率，n1可以代表所述第一无机封装层的折射率，n2可以代表所述下层的所述折射率，min(n1,n2)可以代表n1和n2中的最小值，并且|n2
‑
n1|可以代表n2和n1之间的差的绝对值。
20.在一示例性实施例中，所述下层的所述折射率可以比所述有机封装层的所述折射率小0.05，并且所述下层可以包括无机绝缘材料。
21.在一示例性实施例中，所述下层和所述辅助层可以包括包括硅元素、氮元素和氧元素的无机绝缘材料，并且所述下层的氧含量可以大于所述辅助层的氧含量。
22.在一示例性实施例中，所述第一无机封装层可以包括多个堆叠层。
23.根据本公开的一个或多个示例性实施例，一种显示装置包括：基底；有机发光二极管，在所述基底上；覆盖层，在所述有机发光二极管上；光学层，在所述覆盖层上，并且包括：第一光学层，所述第一光学层在所述有机发光二极管上；以及第二光学层，在所述第一光学层上；以及薄膜封装层，在所述光学层上以封装所述有机发光二极管，并且包括：第一无机封装层，在所述第二光学层上；辅助层，在所述第一无机封装层上；有机封装层，在所述辅助层上；以及第二无机封装层，在所述有机封装层上。所述第二光学层的折射率小于所述覆盖层的折射率，并且所述第一光学层的折射率在所述第二光学层的所述折射率和所述覆盖层的所述折射率之间。
24.在一示例性实施例中，所述第一光学层的所述折射率可以在从1.62至1.89的范围内，所述第一光学层的厚度可以在从20nm至60nm的范围内，所述第二光学层的所述折射率可以在从1.45至1.62的范围内，并且所述第二光学层的厚度可以在从40nm至100nm的范围内。
25.在一示例性实施例中，所述覆盖层的所述折射率可以在从1.6至2.3的范围内，并
且所述覆盖层的厚度可以在从30nm至120nm的范围内。
26.在一示例性实施例中，所述辅助层的厚度可以在从30nm至100nm的范围内，并且所述第一无机封装层的厚度可以在从400nm至2200nm的范围内。
27.在一示例性实施例中，所述辅助层可以插置在所述第一无机封装层和所述有机封装层之间，所述第一无机封装层的折射率可以大于所述辅助层的折射率，所述辅助层的所述折射率可以在所述第一无机封装层的所述折射率和所述有机封装层的折射率之间，并且所述辅助层的所述折射率可以满足：min(n1,n2)+|n2
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n1|
×
0.25<n3<min(n1,n2)+|n2
‑
n1|
×
0.75，其中，n3可以代表所述辅助层的所述折射率，n1可以代表所述第一无机封装层的所述折射率，n2可以代表所述有机封装层的所述折射率，min(n1,n2)可以代表n1和n2中的最小值，并且|n2
‑
n1|可以代表n2和n1之间的差的绝对值。
28.在一示例性实施例中，所述第一无机封装层和所述辅助层中的每一个可以包括无机绝缘材料。
29.根据本公开的一个或多个示例性实施例的显示装置通过在显示元件和密封构件之间设置光学层而可以在一角度(例如，特定角度或者预定角度)处来减小色偏(例如，特定色偏或者预定色偏)。
30.然而，本公开的方面和特征不限于前文所述的方面和特征，并且各种其它方面和特征被包括在本说明书中。
附图说明
31.通过参考附图对示例性实施例的下述详细描述，本公开的上文所述和其它方面和特征对于本领域技术人员将变得更明显，在附图中：
32.图1是示意性地示出根据一示例性实施例的显示装置的平面图；
33.图2示出根据一示例性实施例的设置在显示装置的一个像素区域中的显示元件和连接到显示元件的像素电路；
34.图3是示出根据一示例性实施例的显示装置的一部分的截面图；
35.图4是示出根据图3的显示装置的一修改示例的显示装置的一部分的截面图；
36.图5是示意性地示出根据一示例性实施例的显示装置的示意图；
37.图6是示出根据一比较示例的当根据一示例性实施例的光学层被省略时的最小可分辨色差(mpcd)的曲线图；
38.图7是示出当根据一示例性实施例的光学层被施加时的最小可分辨色差(mpcd)的曲线图；
39.图8是示出根据另一示例性实施例的显示装置的一部分的截面图；
40.图9是示意性地示出根据另一示例性实施例的显示装置的示意图；
41.图10是示出根据图8的显示装置的一修改示例的显示装置的一部分的截面图；
42.图11是示出根据又一示例性实施例的显示装置的一部分的截面图；并且
43.图12示意性地示出根据又一示例性实施例的显示装置。
具体实施方式
44.在下文中，将参照附图更详细地描述示例性实施例，在附图中同样的附图标记始
终表示同样的元件。然而，本公开可以以各种不同形式体现，并且不应被解释为仅仅限于在本文中所示的实施例。相反，这些实施例被提供作为示例，使得本公开将是透彻和完整的，并且将向本领域技术人员充分传达本公开的方面和特征。因此，对于本领域普通技术人员完全理解本公开的方面和特征而言不是必要的工艺、元件和技术可以不被描述。此外，当实施例可以不同地实施时，特定工艺顺序可以与所描述的顺序不同地执行。例如，两个连续地描述的工艺可以同时或基本同时执行，或者以与所描述的顺序相反的顺序执行。除非另有指出，否则在整个附图和书面描述中，同样的附图标记表示同样的元件，并且因此对其的冗余描述可以不被重复。
45.在附图中，为清楚起见，元件、层和区域的相对尺寸可以被放大和/或简化。诸如“在
……
下”、“在
……
之下”、“下”、“在
……
下方”、“在
……
之上”和“上”等的空间相对术语可以在本文中为了容易解释而被使用，以描述如附图中所示的一个元件或一个特征的与另一元件(另外多个元件)或另一特征(另外多个特征)的关系。将理解的是，除了在附图中描绘的取向之外，空间相对术语还旨在涵盖装置在使用中或者在操作中的不同取向。例如，如果附图中的装置被翻转，则被描述为“在”其它元件或其它特征“之下”或“下”或“下方”的元件或特征将随后取向为“在”其它元件或其它特征“之上”。因此，示例性术语“在
……
之下”和“在
……
下方”可以涵盖“在
……
之上”的取向和“在
……
之下”的取向两者。装置可以以其它方式取向(例如，旋转90度或在其它取向处)，并且在本文中使用的空间相对描述语应该被相应地解释。此外，在附图中，x轴、y轴和z轴不限于笛卡尔坐标系上的三个轴，并且可以在包括笛卡尔坐标系上的三个轴的广义上被解释。例如，x轴、y轴和z轴可以彼此正交，但是也可以指彼此不正交的不同方向。
46.将理解的是，尽管术语“第一”、“第二”、“第三”等在本文中可用于描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应被这些术语限制。这些术语用于将一个元件、一个组件、一个区域、一个层或一部分与另一元件、另一组件、另一区域、另一层或另一部分区分开。因此，在不脱离本公开的精神和范围的情况下，下文描述的第一元件、第一组件、第一区域、第一层或第一部分可以称为第二元件、第二组件、第二区域、第二层或第二部分。
47.将理解的是，当元件或层被称为“在”另一元件或另一层“上”、“连接到”或“耦接到”另一元件或另一层时，元件或层可以直接在另一元件或另一层上、直接连接到或直接耦接到另一元件或另一层，或者一个或多个中间元件或中间层可以存在。类似地，当元件、层、膜、区域或组件被称为彼此“电连接”时，元件、层、膜、区域或组件可以彼此直接电连接，或者可以彼此间接电连接，一个或多个中间元件、中间层、中间膜、中间区域或中间组件可以存在。另外，还将理解的是，当元件或层被称为“在”两个元件或两个层“之间”时，元件或层可以是两个元件或两个层之间的唯一元件或唯一层，或者一个或多个中间元件或中间层还可以存在。
48.在本文中使用的术语是用于描述具体实施例的目的，并且不旨在限制本公开。除非上下文另外明确地指出，否则如在本文中所使用的单数形式“一(一种)”旨在还包括复数形式。还将理解的是，当在本说明书中使用时，术语“包括(comprises、comprising)”、“包含(includes、including)”和“具有(has、have、having)”说明所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件的存在，但是不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件
和/或它们的组的存在或添加。如在本文中所使用的，术语“和/或”包括相关所列项中的一个或多个的任意组合和所有组合。例如，表述“a和/或b”可以包括a、b、或者a和b。当在元件列表之后时，诸如
“……
中的至少一个(种)”的表述修饰整个元件列表并且不修饰列表中的个别元件。
49.如在本文中所使用的，术语“基本”、“约”和类似术语用作近似术语并且不是用作程度术语，并且旨在说明本领域普通技术人员将认识到的测量值或者计算值中的固有偏差。此外，当描述本公开的实施例时“可以”的使用是指“本公开的一个或多个实施例”。如在本文中所使用的，术语“使用(use、using、used)”可以被认为分别与术语“利用(utilize、utilizing、utilized)”同义。
50.除非另外定义，否则在本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。还将理解的是，除非在本文中明确地如此定义，否则诸如在通用词典中定义的术语的术语应该被解释为具有与在相关领域和/或本说明书的上下文中它们的含义一致的含义，并且不应该以理想化的或者过于形式化的含义来解释。
51.图1是示意性地示出根据一示例性实施例的显示装置的平面图。
52.参照图1，显示装置10可以包括显示区da和与显示区da相邻的非显示区nda。例如，在一些实施例中，非显示区nda可以围绕显示区da(例如，环绕显示区da的外围)，或者可以与显示区da的至少一个端部相邻。显示装置10包括设置在显示区da处(例如，在显示区da中)的多个像素区域p。能够发射期望颜色(例如，预定颜色)的光的显示元件可以设置在每个像素区域p中，并且显示元件可以连接到扫描线sl和数据线dl。图1可以理解为显示装置10的基底100的状态。例如，可以理解的是，基底100包括显示区da和非显示区nda。
53.在非显示区nda处(例如，在非显示区nda中)，可以设置通过扫描线sl(例如，通过对应的扫描线sl)将扫描信号提供到每个像素区域p的扫描驱动器1100、通过数据线dl(例如，通过对应的数据线dl)将数据信号提供到被提供在每个像素区域p中的显示元件的数据驱动器1200以及用于提供第一电源电压和第二电源电压的主电源布线。
54.图1示出数据驱动器1200设置在基底100上，但是在另一示例性实施例中，数据驱动器1200可以设置在柔性印刷电路板(fpcb)上，柔性印刷电路板电连接到设置在显示装置10的一个侧上的焊盘。
55.根据本公开的一实施例的显示装置10可以包括有机发光显示器、无机发光显示器或量子点显示器等。在下文中，为方便起见，有机发光显示器可以被描述为根据本公开的一实施例的显示装置10，但是本公开不限于此，并且下面更详细地描述的本公开的一个或多个示例性实施例的方面和特征可以施加到各种合适种类的显示装置，诸如至少可以施加到上文所述的不同种类的显示装置。
56.图2示出根据一示例性实施例的设置在显示装置的一个像素区域中的显示元件和连接到显示元件的像素电路。
57.参照图2，为显示元件的有机发光二极管oled连接到像素电路pc。像素电路pc可以包括第一薄膜晶体管t1、第二薄膜晶体管t2和存储电容器cst。有机发光二极管oled可以发射例如红光、绿光或蓝光，或者作为另一示例，有机发光二极管oled可以发射红光、绿光、蓝光或白光。
58.第二薄膜晶体管t2是开关薄膜晶体管，并且连接到扫描线sl和数据线dl。第二薄膜晶体管t2可以根据从扫描线sl输入的开关电压(例如，扫描信号)将从数据线dl输入的数据电压(例如，数据信号)传输到第一薄膜晶体管t1。存储电容器cst可以连接到第二薄膜晶体管t2和驱动电压线pl(例如，可以连接在第二薄膜晶体管t2和驱动电压线pl之间)。存储电容器cst可以存储与从第二薄膜晶体管t2接收的电压和供应到驱动电压线pl的第一电源电压elvdd之间的差对应的电压。
59.第一薄膜晶体管t1可以作为驱动薄膜晶体管连接到驱动电压线pl和存储电容器cst，并且可以响应于存储在存储电容器cst中的电压(例如，电压值)来控制从驱动电压线pl流过有机发光二极管oled的驱动电流。有机发光二极管oled可以根据驱动电流发射具有期望亮度(例如，预定亮度)的光。有机发光二极管oled的对电极(例如，阴极)可以被供应第二电源电压elvss。
60.图2示出像素电路pc包括两个薄膜晶体管t1、t2和一个存储电容器cst，但是本公开不限于此，并且在其它实施例中，薄膜晶体管的数量和/或存储电容器的数量可以取决于像素电路pc的结构或设计被各种修改。
61.图3是示出根据一示例性实施例的显示装置的一部分的截面图。
62.参照图3，包括像素电路(例如，图2中的pc)的像素电路层pcl设置在基底100上。可以是显示元件的有机发光二极管oled设置在像素电路层pcl上，并且有机发光二极管oled可以由薄膜封装层300覆盖。
63.基底100可以包括聚合物树脂。包括聚合物树脂的基底100可以具有柔性、可卷曲和/或可弯曲的特性。
64.在一实施例中，如图3中示出，基底100可以包括第一基体层101、第一阻挡层102、第二基体层103和第二阻挡层104。第一基体层101和第二基体层103中的每一个可以包括聚合物树脂。例如，第一基体层101和第二基体层103可以包括诸如聚醚砜(pes)、聚芳酯(par)、聚醚酰亚胺(pei)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚苯硫醚(pps)、聚酰亚胺(pi)、聚碳酸酯(pc)、三乙酸纤维素(tac)和/或乙酸丙酸纤维素(cap)的聚合物树脂。第一阻挡层102和第二阻挡层104可以是防止或基本防止异物的渗入的阻挡层，并且可以各自是包括例如诸如氮化硅和/或氧化硅的一种或多种无机材料的单层结构或者多层结构。
65.图4是示出根据图3的显示装置的一修改示例的显示装置的一部分的截面图。
66.作为一修改示例，基底100可以是如图4中所示的包括玻璃材料的单层结构，而不是如图3中所示的多层结构。例如，基底100可以是以sio2作为主要成分的玻璃基底。
67.参照图3和图4，在一些实施例中，在图3和图4的基底100上的像素电路层pcl可以包括薄膜晶体管tft和连接到薄膜晶体管tft的存储电容器(例如，图2中的cst)。薄膜晶体管tft的结构可以具有对于每个像素相同或基本相同的结构。每个像素的薄膜晶体管tft可以连接到提供在每个像素中的显示元件。
68.薄膜晶体管tft可以包括半导体层act、栅极电极ge、源极电极se和漏极电极de。半导体层act可以包括非晶硅、多晶硅或有机半导体材料。为了确保半导体层act和栅极电极ge之间的绝缘性，包括例如诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅的无机材料的栅极绝缘层121可以插置在半导体层act和栅极电极ge之间。包括例如诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化
硅的无机材料的层间绝缘层131可以设置在栅极电极ge上，并且源极电极se和漏极电极de可以设置在层间绝缘层131上。包含无机材料的绝缘层(例如，栅极绝缘层121和/或层间绝缘层131等)可以通过化学气相沉积(cvd)或者原子层沉积(ald)形成。
69.栅极电极ge、源极电极se和漏极电极de可以由各种合适的导电材料形成。栅极电极ge可以包括例如钼或铝，并且可以具有单层结构或者多层结构。例如，栅极电极ge可以是钼的单层，或者可以具有包括钼层、铝层和钼层的三层结构。源极电极se和漏极电极de可以包括钛或铝，并且可以具有单层结构或者多层结构。在一实施例中，源极电极se和漏极电极de可以具有包括钛层、铝层和钛层的三层结构。
70.包括例如诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅的无机材料的缓冲层110可以插置在薄膜晶体管tft和基底100之间(例如，具有图3或图4的上文所述的结构)。缓冲层110可以用于增强基底100的上表面的平滑度，并且/或者防止或基本防止(例如，最小化)杂质从基底100等渗入到薄膜晶体管tft的半导体层act中。
71.平坦化绝缘层140可以设置在薄膜晶体管tft上。平坦化绝缘层140可以由例如诸如丙烯酸树脂、苯并环丁烯(bcb)或六甲基二硅氧烷(hmdso)的有机材料形成。在图3和图4中，平坦化绝缘层140被示为单层结构，但是可以是多层结构。
72.有机发光二极管oled包括像素电极221、中间层222和对电极223。
73.像素电极221设置在平坦化绝缘层140上，并且可以针对每个像素设置一个。像素电极221可以是反射电极。在一实施例中，像素电极221可以包括包含例如银(ag)、镁(mg)、铝(al)、铂(pt)、钯(pd)、金(au)、镍(ni)、钕(nd)、铱(ir)、铬(cr)或它们的合金的反射膜。在另一示例性实施例中，像素电极221可以包括设置在上文所述的反射膜之上和/或之下的透明或半透明电极层。上文所述的透明或半透明电极层可以包括例如选自由氧化铟锡(ito)、氧化铟锌(izo)、氧化锌(zno)、氧化铟(in2o3)、氧化铟镓(igo)和氧化铝锌(azo)组成的组中的至少一种。在一些实施例中，像素电极221可以具有ito层、ag层和ito层的三层结构。
74.像素限定膜150设置在像素电极221上。像素限定膜150具有暴露每个像素电极221的中央部分的开口150op。像素限定膜150可以增加像素电极221的边缘和对电极223之间的距离，由此防止或基本防止在像素电极221的边缘处出现电弧等。像素限定膜150可以包括例如诸如聚酰亚胺、聚酰胺、丙烯酸树脂、苯并环丁烯(bcb)、六甲基二硅氧烷(hmdso)和/或酚醛树脂的有机绝缘材料，并且可以通过诸如旋涂的方法形成。
75.在一些实施例中，中间层222可以包括第一功能层222a、发光层222b和第二功能层222c。发光层222b可以设置在通过像素限定膜150的开口150op暴露的像素电极221上。发光层222b可以包括包括例如能够发射红光、绿光或蓝光的荧光材料或者磷光材料的有机材料。发光层222b的有机材料可以是低分子量有机材料或者高分子量有机材料。
76.第一功能层222a和第二功能层222c可以分别设置在发光层222b之下和之上。第一功能层222a可以包括例如空穴传输层(htl)或者空穴传输层和空穴注入层(hil)。第二功能层222c可以是设置在发光层222b上的元件，并且可以包括例如电子传输层(etl)和/或电子注入层(eil)。然而，本公开不限于此，并且第二功能层222c可以是可选的。例如，在一些实施例中，可以不提供(例如，可以省略)第二功能层222c。
77.尽管发光层222b分别设置为与像素限定膜150的开口150op对应，但是第一功能层
222a和第二功能层222c可以是一体地形成以整体上覆盖基底100(例如，以覆盖至少显示区da的全部)的公共层，类似于下面更详细地描述的对电极223，例如以覆盖基底100的整个显示区da。
78.在一些实施例中，对电极223可以包括包含例如银(ag)、镁(mg)、铝(al)、铂(pt)、钯(pd)、金(au)、镍(ni)、钕(nd)、铱(ir)、铬(cr)、锂(li)、钙(ca)或它们的合金等的(半)透明层。在另一示例性实施例中，对电极223还可以包括在包含前述材料中的一种或多种的(半)透明层上的诸如ito、izo、zno或in2o3的层。在一实施例中，对电极223可以包括银(ag)、镁(mg)或者银(ag)和镁(mg)的合金。
79.覆盖层230可以设置在对电极223上。例如，覆盖层230可以包括lif、无机绝缘材料或有机绝缘材料。覆盖层230可以从对电极223的顶部(例如，上表面)覆盖和保护对电极223。
80.光学层240可以设置在覆盖层230上。光学层240可以包括两个或多个堆叠层。例如，光学层240可以包括第一光学层241和设置在第一光学层241上的第二光学层245。第一光学层241可以设置在覆盖层230上。第一光学层241可以插置在覆盖层230和第二光学层245之间。如在本文中所使用的术语“插置”表示与上组件和下组件直接接触的对应组件，对应组件插置在上组件和下组件之间。换句话说，第一光学层241可以直接接触覆盖层230和第二光学层245。
81.光学层240可以包括无机绝缘材料。例如，光学层240可以包括选自由氧化铝、氧化钛、氧化钽、氧化铪、氧化锌、氧化硅、氮化硅和氮氧化硅组成的组中的一种或多种无机绝缘材料。第一光学层241和第二光学层245的材料可以彼此不同，或者可以彼此相同。
82.如上文所述，提供在显示装置10中的显示元件发射期望颜色(例如，预定颜色)的光以提供图像，并且所发射的光可以穿过用于密封显示元件的薄膜封装层300(薄膜封装层300将在下面更详细地描述)。当薄膜封装层300具有多层堆叠的结构时，如在下面更详细地描述的一实施例中那样，从显示元件发射的光可能经历由于薄膜封装层300的膜厚度引起的干涉。由于所产生的干涉，因此用户可能在大视角(例如，60
°
或更大)处观察到显示装置的屏幕是泛绿(例如，变为泛绿)。然而，根据本公开的一个或多个示例性实施例的显示装置10，如下面更详细地所描述，通过调整光学层240的折射率和厚度，可以防止或基本防止由于所产生的干涉引起的用户可能在大视角(例如，60
°
或更大)处观察到显示装置10的屏幕是泛绿的现象。
83.薄膜封装层300可以设置在光学层240上。薄膜封装层300可以包括至少一个无机封装层和至少一个有机封装层。例如，如图3和图4中所示，薄膜封装层300可以包括在第二光学层245上的第一无机封装层310、在第一无机封装层310上的有机封装层320以及在有机封装层320上的第二无机封装层330。薄膜封装层300可以包括插置在第一无机封装层310和有机封装层320之间的辅助层315。
84.在一些实施例中，第一无机封装层310和第二无机封装层330可以包括选自由氧化铝、氧化钛、氧化钽、氧化铪、氧化锌、氧化硅、氮化硅和氮氧化硅组成的组中的一种或多种无机绝缘材料。在一些实施例中，第一无机封装层310和第二无机封装层330可以包括包含非金属元素的无机绝缘层，例如诸如氧化硅、氮化硅或氮氧化硅。包括在第一无机封装层310中的非金属元素的数量和/或类型可以与包括在第二无机封装层330中的非金属元素的
数量和/或类型不同。例如，第一无机封装层310可以包括氮氧化硅，并且第二无机封装层330可以包括氮化硅，但是本公开不限于此。
85.有机封装层320可以减轻第一无机封装层310和/或第二无机封装层330的内部应力。有机封装层320可以包括聚合物基材料。聚合物基材料可以包括例如聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚乙烯磺酸盐、聚甲醛、聚芳酯、六甲基二硅氧烷(hmdso)、丙烯酸树脂(例如，聚甲基丙烯酸甲酯或聚丙烯酸等)或它们的任意合适组合。
86.在一些实施例中，有机封装层320可以通过施加具有流动性的单体层并且使用热或者例如诸如紫外光的光固化单体层来形成。在另一示例性实施例中，有机封装层320可以通过施加上文所述的聚合物基材料中的一种或多种来形成。
87.辅助层315插置在第一无机封装层310和有机封装层320之间。辅助层315可以直接接触第一无机封装层310和有机封装层320。例如，辅助层315的下表面可以直接接触第一无机封装层310的上表面，并且辅助层315的上表面可以直接接触有机封装层320的下表面。
88.辅助层315可以是包含非金属元素的无机绝缘层。在一实施例中，包含在辅助层315中的非金属元素可以是与第一无机封装层310的非金属元素相同的非金属元素，并且非金属元素可以是例如硅(si)、氧(o)和/或氮(n)。
89.从设置在每个像素中的有机发光二极管oled发射的光穿过薄膜封装层300到外部。此时，由于上文讨论的薄膜封装层300的薄膜干涉现象，因此当在垂直于基底100的方向(例如，z方向)上和在与基底100倾斜的方向上看时，用户可能观察到整体上可能是泛绿的图像。然而，如上文所述，根据本公开的一个或多个示例性实施例的显示装置10，通过调整光学层240的折射率和厚度，可以防止或基本防止由于所产生的干涉引起的用户可能在大视角(例如，60
°
或更大)处观察到显示装置10的屏幕是泛绿的现象。
90.图5是示意性地示出根据一示例性实施例的显示装置的示意图。
91.参照图5，显示装置10包括彼此顺序地堆叠的基底100、像素电路层pcl、显示层200以及薄膜封装层300。显示层200可以包括彼此顺序地堆叠的像素电极221、中间层222、对电极223、覆盖层230以及光学层240。
92.光学层240可以包括沿着光行进方向(例如，从显示层200朝向薄膜封装层300的方向)顺序地布置的第一光学层241和第二光学层245。
93.薄膜封装层300可以包括沿着光行进方向(例如，从显示层200朝向薄膜封装层300的方向)顺序地布置的第一无机封装层310和辅助层315。有机封装层320和第二无机封装层330可以设置在辅助层315上。
94.覆盖层230可以具有第一厚度t1。第一厚度t1可以在从约30nm至约120nm的范围内。覆盖层230的折射率可以在约1.6至约2.3的范围内。例如，覆盖层230的第一厚度t1可以是约64nm，并且覆盖层230的折射率可以是约1.97，但是本公开不限于此。
95.第一光学层241可以具有第二厚度t2。第二厚度t2可以在约20nm至约60nm的范围内。第一光学层241的折射率可以在约1.62至约1.89的范围内。例如，第一光学层241的第二厚度t2可以是约40nm，并且第一光学层241的折射率可以是约1.77，但是本公开不限于此。
96.第二光学层245可以具有第三厚度t3。第三厚度t3可以在约40nm至约100nm的范围内。第二光学层245的折射率可以在约1.45至约1.62的范围内。例如，第二光学层245的第三厚度t3可以是约60nm，并且第二光学层245的折射率可以是约1.52，但是本公开不限于此。
97.因此，在一些实施例中，第一光学层241的折射率可以在第二光学层245的折射率和覆盖层230的折射率之间，例如，使得第一光学层241的折射率可以大于第二光学层245的折射率并且小于覆盖层230的折射率。根据本实施例，通过将第一光学层241设置在覆盖层230和第二光学层245之间，第一光学层241可以具有具有在第二光学层245的折射率和覆盖层230的折射率之间的值的折射率，覆盖层230和第一光学层241具有与第二光学层245的折射率相比更大的折射率，可以有可能防止或基本防止在显示装置10的颜色坐标中在大视角(例如，θ＝60
°
或更大)处显示装置10的屏幕被观察到是泛绿。
98.另外，覆盖层230可以具有第一厚度t1的范围内的厚度，由此提高有机发光二极管oled的中间层222的厚度的分布。换句话说，通过允许覆盖层230具有30nm或更大的第一厚度t1，可以提高上文所述的有机发光二极管oled的中间层222的厚度分布，并且通过允许覆盖层230具有120nm或更小的第一厚度t1，可以有可能防止或基本防止覆盖层230剥离或者分离。
99.通过允许第一光学层241具有20nm或更大的第二厚度t2，可以有可能防止或基本防止在显示装置10的颜色坐标中显示装置10的屏幕在大视角(例如，θ＝60
°
或更大)处是泛绿，并且通过允许第一光学层241具有60nm或更小的第二厚度t2，可以有可能防止或基本防止第一光学层241剥离或者分离。类似地，通过允许第二光学层245具有40nm或更大的第三厚度t3，可以有可能防止或基本防止在显示装置10的颜色坐标中显示装置10的屏幕在大视角(例如，θ＝60
°
或更大)处被观察到是泛绿，并且通过允许第二光学层245具有100nm或更小的第三厚度t3，可以有可能防止或基本防止第二光学层245剥离或者分离。
100.第一无机封装层310可以设置在第二光学层245上。
101.第一无机封装层310可以具有在约600nm至约2200nm的范围内的第四厚度t4。当第一无机封装层310的第四厚度t4是600nm或更大时，可以防止或基本防止湿气渗透，并且当第一无机封装层310的第四厚度t4是2200nm或更小时，可以有可能防止或基本防止第一无机封装层310剥离或者分离。第二无机封装层330的厚度可以与第一无机封装层310的厚度相同或基本相同，或者可以不同于(例如，可以小于或大于)第一无机封装层310的厚度。
102.另一方面，从显示元件发射的光穿过薄膜封装层300，使得可能出现光的干涉等，并且尽管通过使用上文所述的光学层240可以控制(例如，可以设计)光的干涉以防止或基本防止在显示装置10的颜色坐标中显示装置10的屏幕在大视角(例如，θ＝60
°
或更大)处呈现泛绿，但是在颜色坐标中可能出现大变化。为了减小颜色坐标中的大变化，可以考虑调整第一无机封装层310的厚度的方法，但是由于用于形成第一无机封装层310的设备本身(例如，cvd设备)的误差，控制厚度可能在实践中是不容易的。例如，保护或基本保护显示层200免受湿气等影响的第一无机封装层310可以具有在如上文所述的约600nm至约2200nm的范围内的厚度，以防止或基本防止第一无机封装层310等的分离。例如，当用于形成第一无机封装层310的设备的误差是约10％时，实际形成的第一无机封装层310的厚度的偏差可以对应于数十纳米至数百纳米的范围。因而，在实践上可能难以控制第一无机封装层310的厚度以减小最小可分辨色差(mpcd)的变化，并且在减小mpcd的变化方面可能存在限制。
103.因此，根据一示例性实施例的薄膜封装层300可以包括在第一无机封装层310上的辅助层315，由此无论第一无机封装层310的厚度如何都减小上文所述的mpcd的变化。
104.辅助层315可以由无机绝缘材料形成，并且可以具有适合于减小(例如，最小化)或
者防止上文所述的mpcd的变化的第五厚度t5。例如，第五厚度t5可以是100nm或更小。在一些实施例中，例如，辅助层315的第五厚度t5可以在约30nm至约100nm的范围内。当辅助层315的第五厚度t5是100nm或更小时，可以执行(例如，可以容易地执行)辅助层315的第五厚度t5的控制。
105.辅助层315可以包括无机绝缘材料。如上文所述，通过使用cvd设备形成的无机绝缘材料层可以具有与当与目标厚度相比时可以实际形成的厚度对应的约10％的误差。因为辅助层315可以通过使用cvd设备以与第一无机封装层310的方式相似(例如，以与第一无机封装层310的方式相同或基本相同)的方式来形成，所以实际形成的辅助层315的厚度可以不同于目标厚度。然而，因为辅助层315的厚度可以比第一无机封装层310的厚度小得超过几十倍，所以无论根据使用的cvd设备的厚度的误差(例如，约10％的误差)如何都可以更容易地(例如，可以更容易得多地)控制辅助层315的厚度。
106.第一无机封装层310和辅助层315可以具有彼此不同的折射率。例如，辅助层315的折射率n3可以满足下述条件：
107.min(n1,n2)+|n2
‑
n1|
×
0.25<n3<min(n1,n2)+|n2
‑
n1|
×
0.75。
108.此处，n1代表第一无机封装层的折射率，n2代表有机封装层的折射率，min(n1,n2)代表n1和n2中的最小值，并且|n2
‑
n1|代表n2和n1之间的差的绝对值。
109.当辅助层315的折射率n3在上文所述的范围之内时，可以有可能减小(例如，最小化)或者防止mpcd的大变化的出现。
110.图6是示出根据一比较示例的当根据一示例性实施例的光学层被省略时的最小可分辨色差(mpcd)的曲线图。图7是示出当根据一示例性实施例的光学层被施加时的最小可分辨色差(mpcd)的曲线图。图6示出当省略上文所述的光学层240时的mpcd，并且图7示出当包括(例如，设置)上文所述的光学层240时的mpcd。
111.参照图6和图7，通过划分部分(例如，预定部分)将mpcd示为轮廓线，并且mpcd示出在相对于竖直轴的远离0(零)的方向上具有负(
‑
)值表示呈现泛绿的颜色，并且在相对于竖直轴的远离0(零)的方向上具有正(+)值表示呈现泛蓝的颜色。
112.如图5中所示，基于当在垂直于基底100的方向上和在与基底100倾斜的方向上，例如在0
°
处(例如，在z方向上)和相对于z方向的约30
°
、45
°
和60
°
的倾斜角处观察显示装置10时的mpcd值，示出mpcd的轮廓线。
113.根据图6的比较示例，示出在对应的显示装置的mpcd中显示装置的屏幕在大视角(例如，θ＝60
°
或更大)处可能呈现泛绿。另一方面，根据图7的示例性实施例，通过将第一光学层241设置在覆盖层230和第二光学层245之间，第一光学层241可以具有具有在第二光学层245的折射率和覆盖层230的折射率之间的值的折射率，覆盖层230和第一光学层241具有与第二光学层245的折射率相比更大的折射率，可以有可能减小(例如，最小化)或者防止在显示装置10的mpcd中显示装置10的屏幕在大视角(例如，θ＝60
°
或更大)处呈现泛绿的现象。
114.在下文中，将参照图8和图9描述根据另一示例性实施例的显示装置10。在图8和图9的实施例中，与上文所述的实施例中的一个或多个的组件相同或基本相同的组件由相同的附图标记表示，并且因此可以简化或者可以不重复对它们的冗余描述。
115.图8是示出根据另一示例性实施例的显示装置的一部分的截面图。图9是示意性地
示出根据另一示例性实施例的显示装置的示意图。
116.参照图8和图9，显示装置10可以包括彼此顺序地堆叠的基底100、像素电路层pcl、显示层200和薄膜封装层300_1。除了薄膜封装层300_1还可以包括设置在有机封装层320下方的下层317之外，薄膜封装层300_1可以类似于上文所述的薄膜封装层300。除了下层317之外，图8和图9中示出的其它元件与参照图3和图5所描述的实施例的元件相同或基本相同，使得下面的描述可以集中在下层317上。
117.下层317可以插置在有机封装层320和辅助层315之间。
118.下层317可以不具有作为薄膜封装层的例如诸如减小湿气渗透性的作用。在用于形成有机封装层320的工艺期间，例如当施加和固化单体时，下层317可以控制用于形成有机封装层320的材料。
119.下层317可以是如上文所述不具有单独的光学功能并且不具有减小湿气渗透性的功能的层，并且下层317的折射率可以与有机封装层320的折射率相同或基本相同。当下层317的折射率与有机封装层320的折射率之间的差δn小于0.05时，下层317的折射率和有机封装层320的折射率可以彼此相同或基本相同。例如，在一实施例中，下层317的折射率可以是1.52。
120.下层317的厚度可以在例如诸如约55nm至约90nm或约60nm至约85nm的约50nm至约100nm的范围内选择。尽管下层317的折射率和有机封装层320的折射率可以彼此相同或基本相同，但是在可以彼此接触的下层317和有机封装层320之间可能存在界面，因为下层317和有机封装层320可以包括彼此不同的材料。
121.下层317可以包括无机绝缘层。例如，下层317可以包含与包括在第一无机封装层310和辅助层315中的非金属元素同样的非金属元素，或者可以包含与包括在第一无机封装层310和辅助层315中的非金属元素不同的元素和/或材料。例如，下层317可以是例如诸如富o的氮氧化硅层的具有较高氧含量的无机绝缘层。
122.例如，第一无机封装层310、辅助层315和下层317可以各自包括诸如硅(si)、氧(o)和氮(n)的彼此相同的非金属元素。作为第一无机封装层310的第一氮氧化硅层、作为辅助层315的第二氮氧化硅层和作为下层317的第三氮氧化硅层可以分别具有不同含量比的硅(si)、氧(o)和氮(n)。因此，在第一氮氧化硅层和第二氮氧化硅层之间可以存在界面，并且在第二氮氧化硅层和第三氮氧化硅层之间可以存在界面。
123.例如，辅助层315的折射率n3可以满足下述条件：
124.min(n1,n2)+|n2
‑
n1|
×
0.25<n3<min(n1,n2)+|n2
‑
n1|
×
0.75。
125.此处，n1代表第一无机封装层310的折射率，n2代表有机封装层320的折射率，min(n1,n2)代表n1和n2中的最小值，并且|n2
‑
n1|代表n2与n1之间的差的绝对值。
126.在本实施例中，通过将第一光学层241设置在覆盖层230和第二光学层245之间，第一光学层241可以具有具有在第二光学层245的折射率和覆盖层230的折射率之间的值的折射率，覆盖层230和第一光学层241具有与第二光学层245的折射率相比更大的折射率，可以有可能减小(例如，最小化)或者防止在显示装置10的mpcd中显示装置10的屏幕在大视角(例如，θ＝60
°
或更大)处呈现泛绿的现象。
127.图10是示出根据图8的显示装置的一修改示例的显示装置的一部分的截面图。
128.参照图10，作为图8的显示装置10的一修改示例，基底100可以具有包括玻璃材料
的单层结构。例如，基底100可以是包括sio2作为主要组分的玻璃基底。
129.在本实施例中，通过将第一光学层241设置在覆盖层230和第二光学层245之间，第一光学层241可以具有具有在第二光学层245的折射率和覆盖层230的折射率之间的值的折射率，覆盖层230和第一光学层241具有与第二光学层245的折射率相比更大的折射率，可以有可能减小(例如，最小化)或者防止在显示装置10的mpcd中显示装置10的屏幕在大视角(例如，θ＝60
°
或更大)处呈现泛绿的现象。
130.图11是示出根据又一示例性实施例的显示装置的一部分的截面图。图12示意性地示出根据又一示例性实施例的显示装置。
131.参照图11和图12，根据本实施例的显示装置10与图4和图5的显示装置10的不同之处可以在于，薄膜封装层300_2可以包括具有多层结构的第一无机封装层310_1，第一无机封装层310_1可以不同于图4和图5的第一无机封装层310。除了第一无机封装层310_1之外，图11和图12中示出的其它元件可以与参照图4和图5描述的实施例的元件相同或基本相同，使得下面的描述可以集中在第一无机封装层310_1上。
132.更详细地，在根据本实施例的显示装置10中，薄膜封装层300_2可以包括第一无机封装层310_1。
133.第一无机封装层310_1可以包括多个堆叠层。例如，第一无机封装层310_1可以包括插置在第二光学层245和第二子无机封装层310b之间的第一子无机封装层310a和插置在第一子无机封装层310a和辅助层315之间的第二子无机封装层310b。尽管图11和图12中示出第一无机封装层310_1包括顺序地堆叠的两个堆叠层，但是本公开不限于此，并且第一无机封装层310_1可以包括顺序地堆叠的三个或更多个堆叠层。
134.第一子无机封装层310a的厚度t4a和第二子无机封装层310b的厚度t4b之和可以具有与参照图4和图5描述的第一无机封装层310的第四厚度t4的范围(例如，从约600nm至约2200nm)相同或基本相同的范围。第一子无机封装层310a的厚度t4a可以与第二子无机封装层310b的厚度t4b不同或相同。
135.第一子无机封装层310a和第二子无机封装层310b中的每一个的折射率可以选择为在上文参照图5描述的第一无机封装层310的折射率范围之内。例如，第一子无机封装层310a的折射率和第二子无机封装层310b的折射率可以彼此相同或基本相同。
136.在本实施例中，通过将第一光学层241设置在覆盖层230和第二光学层245之间，第一光学层241可以具有具有在第二光学层245的折射率和覆盖层230的折射率之间的值的折射率，覆盖层230和第一光学层241具有与第二光学层245的折射率相比更大的折射率，可以有可能减小(例如，最小化)或者防止在显示装置10的mpcd中显示装置10的屏幕在大视角(例如，θ＝60
°
或更大)处呈现泛绿的现象。
137.尽管已经描述了一些示例性实施例，但是本领域技术人员将容易理解的是，在不脱离本公开的精神和范围的情况下，在示例性实施例中的各种修改是可能的。将理解的是，除非另外描述，否则在每个实施例之内的特征或者方面的描述通常应被认为可用于其它实施例中的其它类似特征或者方面。因此，对于本领域普通技术人员将明显的是，除非另外特别指出，否则与特定实施例结合描述的特征、特性和/或元件可以单独使用，或者与结合其它实施例描述的特征、特性和/或元件组合使用。因此，将理解的是，前述内容是各种示例性实施例的说明，并且将不被解释为限于在本文中公开的特定示例性实施例，并且对所公开
的示例性实施例的各种修改以及其它示例性实施例旨在被包括在如所附权利要求书及其等同物所限定的本公开的精神和范围之内。