1.一种柔性显示基板，其特征在于，包括依次设置的金属层(1)、第一栅极绝缘层(2)和第二栅极绝缘层(3)，所述金属层(1)图形化形成金属引线，所述第一栅极绝缘层(2)图形化形成第一栅极(4)，所述第二栅极绝缘层(3)图形化形成第二栅极(5)，所述金属引线包括所述第一栅极(4)覆盖的第一部分(6)、所述第二栅极(5)覆盖的第二部分(7)以及第三部分(8)，所述第三部分(8)通过透明电极形成。
2.如权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述第一部分(6)和所述第二部分(7)可存在交集。
3.如权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，部分所述第一部分(6)和/或部分所述第二部分(7)可通过所述透明电极形成。
4.如权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述柔性显示基板还包括设置于所述金属层(1)上方的缓冲层，所述缓冲层上设置有非晶硅薄膜，所述非晶硅薄膜图形化形成沟道有源层(9)，所述沟道有源层(9)覆盖的所述金属引线通过所述透明电极形成。
5.如权利要求4所述的柔性显示基板，其特征在于，所述沟道有源层(9)覆盖的所述金属引线与所述第三部分(8)之间的所述金属引线通过所述透明电极形成。
6.如权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述金属层(1)的下方依次设置有第一缓冲层(10)和基底(11)。
7.如权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述透明电极为ito、izo、igzo、azo、zno或mzo。
8.如权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述透明电极的层厚为20nm-200nm。
9.如权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述金属层(1)上的金属为钼、钛或铝，所述金属的层厚为50nm-300nm。
10.一种如权利要求1-9中任一项所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
在所述第一部分(6)和所述第二部分(7)沉积金属，所述金属为钼、钛或铝，将所述金属图形化；
在所述第三部分(8)沉积所述透明电极，将所述透明电极图形化。
11.一种如权利要求1-9中任一项所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
在所述第三部分(8)沉积所述透明电极，将所述透明电极图形化；
在所述第一部分(6)和所述第二部分(7)沉积金属，所述金属为钼、钛或铝，将所述金属图形化。
12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的柔性显示基板。