柔性显示面板及其制备方法与流程

1.本技术涉及大尺寸柔性oled显示技术领域，具体涉及一种柔性显示面板、一种柔性显示面板制备方法。


背景技术：

2.现有大尺寸柔性oled显示面板有两种制作方案，其一，是在刚性玻璃上涂布pi材料，形成柔性基底，再在柔性基底上依次形成阵列层、发光功能层和柔性封装层，最后使用llo(laser lift off，激光剥离)技术将刚性玻璃与柔性基底剥离，形成柔性屏，但这种llo的方式受基板尺寸的影响大，良率低，不适合大尺寸oled柔性屏的制备；其二是需要对刚性衬底使用氢氟酸蚀刻技术将刚性衬底蚀刻减薄至一定厚度才能实现柔性显示，但由于发光功能层层对水氧十分敏感，容易影响其发光性能，一般会采用薄膜封装结合柔性盖板封装技术对其进行封装，对于动态可卷曲的柔性oled显示面板有更高的封装要求，也很难实现窄边框。
3.因此，现有大尺寸柔性oled显示面板存在难以实现窄边框设计的技术问题。


技术实现要素：

4.本技术实施例提供一种柔性显示面板、一种柔性显示面板制备方法，可以缓解现有大尺寸柔性oled显示面板存在难以实现窄边框设计的技术问题。
5.本技术实施例提供一种柔性显示面板，包括：
6.衬底；
7.设置于所述衬底上方的阵列层，所述阵列层包括设置在所述衬底上的柔性层；
8.设置于所述阵列层上方的平坦层、发光功能层；
9.其中，所述柔性显示面板包括中心区域、围绕所述中心区域设置的至少一弯折区，所述衬底避开所述弯折区设置，位于所述弯折区的所述阵列层弯折至所述中心区域的所述衬底背面设置。
10.可选的，在本技术的一些实施例中，所述弯折区为所述柔性显示面板的goa区域。
11.可选的，在本技术的一些实施例中，所述衬底的背面还设置有保护层，所述阵列层弯折至所述保护层的背面设置。
12.可选的，在本技术的一些实施例中，所述衬底为刚性衬底，所述衬底的厚度范围为0.1毫米至0.17毫米。
13.可选的，在本技术的一些实施例中，所述阵列层还包括设置于所述柔性层上的无机阻隔层、设置于所述无机阻隔层上的tft器件层，所述柔性层和所述tft器件层通过所述无机阻隔层阻隔。
14.可选的，在本技术的一些实施例中，所述柔性显示面板还包括设置在所述发光功能层上的封装层，所述封装层包括第一无机层、第一有机层、第二无机层的叠层封装结构。
15.可选的，在本技术的一些实施例中，所述柔性显示面板还贴附设置有阻隔薄膜，所
述阻隔薄膜包括设置在所述封装层上的第一阻隔薄膜，以及设置在所述平坦层、发光功能层、封装层侧面第二阻隔薄膜，所述阻隔薄膜与所述柔性显示面板之间通过光学胶粘接。
16.本技术实施例提供一种柔性显示面板制备方法，包括：
17.提供一现有的显示面板，所述显示面板包括刚性衬底、阵列层、平坦层、发光功能层、封装层，所述衬底为刚性衬底，
18.减薄所述刚性衬底的厚度，形成一定薄度的所述衬底；
19.在所述显示面板上定义出中心区域、围绕所述中心区域设置的弯折区域，其中，在弯折区域，所述柔性层与所述刚性衬底之间还设置有牺牲层，使用紫外光从衬底背向所述柔性层的背面照射弯折区，去除所述牺牲层，使弯折区内所述衬底与所述柔性层相互剥离；
20.去除所述弯折区内的所述衬底，将所述弯折区内的所述阵列层弯折至所述中心区域的所述衬底背面，制备得到所述柔性显示面板。
21.可选的，在本技术的一些实施例中，通过刻蚀减薄所述衬底的厚度的步骤包括：在所述显示面板远离所述衬底的一侧底面贴抗酸膜，并在所述显示面板侧面涂布抗酸胶进行保护，然后将保护好的所述显示面板使用氢氟酸进行所述衬底背面的单面减薄，形成厚度范围为0.1毫米至0.17毫米的所述衬底。
22.可选的，在本技术的一些实施例中，还包括：给所述衬底背面一侧贴附保护层，用于保护薄化的所述衬底不受外界机械力的损伤。
23.本技术实施例提供的柔性显示面板包括衬底、设置于所述衬底上方的阵列层、设置于所述阵列层上方的平坦层和发光功能层，所述阵列层包括设置在所述衬底上的柔性层，所述柔性显示面板包括中心区域、围绕所述中心区域设置的至少一弯折区，所述衬底避开所述弯折区设置，位于所述弯折区的所述阵列层弯折至所述中心区域的所述衬底背面设置；通过去除弯折区的衬底，使弯折区的阵列层能够弯折到中心区域的衬底背面，从而降低边框的宽度，实现大尺寸柔性oled显示面板的窄边框设计。
附图说明
24.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
25.图1是本技术实施例提供的柔性显示面板的截面示意图；
26.图2是本技术实施例提供的柔性显示面板的俯视示意图；
27.图3a是本技术实施例提供的柔性显示面板制备方法的第一种截面示意图；
28.图3b是本技术实施例提供的柔性显示面板制备方法的第二种截面示意图；
29.图3c是本技术实施例提供的柔性显示面板制备方法的第三种截面示意图；
30.图3d是本技术实施例提供的柔性显示面板制备方法的第四种截面示意图；
31.图4是本技术实施例提供的柔性显示面板制备方法的流程图。
32.附图标记说明：
33.具体实施方式
34.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本技术，并不用于限制本技术。在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
35.本技术实施例提供一种柔性显示面板、一种柔性显示面板制备方法。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
36.如图1所示，本技术实施例提供的柔性显示面板1包括衬底10、设置于所述衬底10上方的阵列层20、设置于所述阵列层20上方的平坦层30和发光功能层40，所述阵列层20包括设置在所述衬底10上的柔性层201，所述柔性显示面板1包括中心区域100、围绕所述中心区域100设置的至少一弯折区110，所述衬底10避开所述弯折区110设置，位于所述弯折区110的所述阵列层20弯折至所述中心区域100的所述衬底10背面设置。
37.在本实施例中，是采用刚性的衬底10上涂布柔性材料形成柔性层201的方式得到的柔性显示面板1，通过去除弯折区110的所述衬底10，使弯折区110的阵列层20仅包含柔性层201，因此能够弯折到中心区域100的衬底10背面，从而降低边框的宽度，实现大尺寸柔性oled显示面板的窄边框设计。
38.在一种实施例中，所述弯折区110为所述柔性显示面板1的goa区域1101。
39.其中，所述柔性显示面板1的一相对两端为goa区域1101、另一相对两端为绑定区域1102，goa区域1101是直接在阵列基板制程中形成的，goa区域1101位于所述阵列层20的边缘。
40.其中，所述goa区域1101与所述发光功能层40错位设置。
41.在本实施例中，由于所述goa区域1101与所述发光功能层40非对位设置，因此，通过激光去除goa区域1101的衬底10，不会对发光功能层40的发光效果产生影响，同时goa区域1101仅位于阵列层20边缘，在大尺寸柔性显示面板1上采用小面积llo(laser lift off，激光剥离),实现窄边框的同时，不会出现大面积llo(laser lift off，激光剥离)所导致的良率低的问题。
42.在一种实施例中，如图2所示，所述弯折区110还可以包括绑定区域1102。
43.在本实施例中，在不影响绑定区域1102正常绑定的前提下，所述弯折区110可以包括绑定区域1102，即将所述衬底10避开所述绑定区域1102和所述goa区域1101设置。
44.在一种实施例中，所述衬底10的背面还设置有保护层90，所述阵列层20弯折至所述保护层90的背面设置。
45.其中，所述衬底10为经过氢氟酸刻蚀后的薄化衬底10。
46.其中，所述保护层90仅设置于所述中心区域100的所述衬底10背面，所述保护层90避开所述弯折区110设置。
47.其中，所述弯折区110的所述阵列层20弯折至所述中心区域100的保护层90背面。
48.其中，所述保护层90的制备材料可以为塑料膜层。
49.其中，所述保护层90的制备材料可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯。
50.在本实施例中，通过在所述中心区域100的所述衬底10背面设置保护层90，起到了保护薄化处理后的衬底10不受外界机械力损伤的技术效果。
51.在一种实施例中，所述保护层90与所述中心区域100的所述衬底10对位设置。
52.其中，对位设置指的是所述保护层90与所述中心区域100的所述衬底10边缘对齐、相互贴合的整面设置。
53.在一种实施例中，所述衬底10为刚性衬底10，所述衬底10的厚度范围为0.1毫米至0.17毫米。
54.其中，所述衬底10为经过氢氟酸刻蚀后得到的薄化衬底10。
55.在一种实施例中，所述柔性层201的厚度为6微米至12微米，所述柔性层201可以是一层、也可以是两层结构，主要起改善弯曲性能的作用。
56.在一种实施例中，所述阵列层20还包括设置于所述柔性层201上的无机阻隔层202、设置于所述无机阻隔层202上的tft器件层203，所述柔性层201和所述tft器件层203通过所述无机阻隔层202阻隔。
57.其中，所述无机阻隔层202的制备材料可以为氧化硅、氮氧化硅、氮化硅、三氧化二铝中的一种或几种组合，所述无机阻隔层202有较好的致密性，可以防止后续制程中柔性层201溢出的气态物质对阵列层20造成伤害。
58.其中，所述后续制程尤其包括热制程。
59.在本实施例中，通过在所述柔性层201与所述阵列层20之间设置一层致密性好的无机阻隔层202，能避免在柔性显示面板1制程中以及制程后柔性层201对阵列层20驱动效
果的影响。
60.在一种实施例中，所述柔性显示面板1还包括设置在所述发光功能层40上的封装层70，所述封装层70包括第一无机层701、第一有机层、第二无机层703的叠层封装结构。
61.其中，所述第一无机层701、所述第二无机层703起到阻隔水氧入侵的效果。
62.其中，所述第一有机层起到吸收弯折应力的效果，当所述柔性显示面板1弯折时，起到缓冲的效果，避免所述第一无机层701、所述第二无机层703发生断裂或出现裂痕。
63.在本实施例中，采用无机
‑
有机
‑
无机的叠层薄膜封装结构，能够更好的阻隔外界水氧从远离所述衬底10的一侧入侵到所述发光功能层40内影响发光效果，因此，封装层70设置为叠层结构能起到更好的封装效果。
64.在一种实施例中，所述柔性显示面板1还贴附设置有阻隔薄膜80，所述阻隔薄膜80包括设置在所述封装层70上的第一阻隔薄膜80，以及设置在所述平坦层30、发光功能层40、封装层70侧面第二阻隔薄膜80，所述阻隔薄膜80与所述柔性显示面板1之间通过光学胶粘接。
65.在一种实施例中，所述柔性显示面板1还包括设置于所述tft器件层203上的平坦层30，所述平坦层30可以是亚克力系有机材料。
66.其中，所述平坦层30可以覆盖下方膜层的断差，形成平整的表面，起到改善阳极401粗糙度的效果。
67.在一种实施例中，所述柔性显示面板1还包括设置于所述平坦层30上的所述阳极401，所述阳极401的制备材料可以为金属或金属氧化物，具体的，所述阳极401可以为铝，银,，氧化铟锡，三氧化钨，氧化铟锌。
68.其中，所述阳极401的光反射率大于90％。
69.在一种实施例中，所述阳极401上还设置有像素定义层50。
70.其中，所述像素定义层50的制备材料可以是亚克力系有机材料。
71.其中，所述像素定义层50的主要作用为定义像素区，形成发光材料墨水的围堰。
72.在一种实施例中，相邻所述像素定义层50之间还设置有发光层402。
73.其中，可以仅使用喷墨打印的方式，将发光材料打印在相应像素区内，形成所述发光层402，也可以仅使用蒸镀的方式形成发光层402，还可以通过喷墨打印和蒸镀的方式形成402，本专利包括但不限于用打印方式形成发光层402。
74.在一种实施例中，所述发光层402上还设置有阴极403。
75.其中，所述阴极403可以为镁、银、氧化铟锡、氧化铟锌中的一种或几种。
76.其中，所述阴极403的光透过率大于90％。
77.在一种实施例中，所述阴极403上还设置有一层覆盖层60。
78.其中，所述覆盖层60可以为有机材料。
79.在本实施例中，所述覆盖层60用于保护阴极403不受后面封装制程的伤害，同时改善出光。
80.在一种实施例中，所述覆盖层60上设置有封装层70。
81.其中，所述封装层70为三层结构，包括第一无机层701、有机缓冲层702、第二无机层703。
82.其中，所述有机缓冲层702设置在所述第一无机层701和第二无机层703之间，所述
第一无机层701设置在所述覆盖层60上。
83.其中，所述第一无机层701的制备材料可以为氧化硅、氮氧化硅、氮化硅中的一种或几种的叠层结构。
84.其中，所述第二无机层703的制备材料可以为氧化硅、氮氧化硅、氮化硅中的一种或几种的叠层结构。
85.其中，有机缓冲层702的制备材料可以为环氧树脂有机材料，其使用喷墨打印的方法打印环氧树脂有机材料，静置并使之充分流平后再使用紫外光进行固化；用于目的是覆盖下方所述第一无机层701上的缺陷和小洞，增加水氧入侵的复杂性，增强封装效果。
86.在本实施例中，通过形成无机
‑
有机
‑
无机的三层封装结构，可以起到强化封装的效果。
87.在一种实施例中，所述封装层70上还设置有阻隔薄膜80。
88.其中，所述阻隔薄膜80用于保护柔性显示面板1不受外界水氧的侵蚀。
89.其中，所述阻隔薄膜80可以通过光学胶与所述封装层70粘接。
90.其中，所述光学胶为透明材料，所述光学胶还可以捕捉外界的水氧。
91.其中，所述光学胶可以为压敏型胶材，通过施加压力进行固化，可以粘贴阻隔薄膜80和下方基板。
92.其中，所述阻隔薄膜80的制备材料可以为氧化硅、氮氧化硅、氮化硅中的一种或几种的叠层结构，也可以为铝、铜等金属或金属氧化物。
93.其中，所述阻隔薄膜80围绕所述封装层70及下方发光功能层40设置。
94.在本实施例中，通过在封装层70上以及侧面再设置阻隔薄膜80，不仅增强了所述封装层70阻挡上方水氧入侵的功效，还可以起到防止侧面水氧入侵的效果。
95.本技术提供的柔性显示面板1制备流程具体为：如图3a所示，本技术对一显示面板进行衬底10一侧的薄化处理得到图3a所示的柔性显示面板1；如图3b所示，通过紫外光照射弯折区110的柔性层201和衬底10，再通过激光去除弯折区110的衬底10，得到如图3b所示的柔性显示面板1；如图3c所示，在衬底10背面的方向贴附一保护层90，用于保护衬底10不受外力损失；如图3d所示，将弯折区110的阵列层20弯折至所述中心区域100的保护层90背面，实现窄边框显示。
96.如图4所示，本技术实施例提供一种柔性显示面板1制备方法，包括：
97.s1:提供一现有的显示面板，所述显示面板包括刚性衬底10、阵列层20、平坦层30、发光功能层40、封装层70，所述衬底10为刚性衬底10；
98.s2:减薄所述刚性衬底10的厚度，形成一定薄度的所述衬底10；
99.s3:在所述显示面板上定义出中心区域100、围绕所述中心区域100设置的弯折区110域，其中，在弯折区域110，所述柔性层201与所述刚性衬底10之间还设置有牺牲层120，使用紫外光从衬底10背向所述柔性层201的背面照射弯折区110，去除所述牺牲层120，使弯折区110内所述衬底10与所述柔性层201相互剥离；
100.s4:去除所述弯折区110内的所述衬底10，将所述弯折区110内的所述阵列层20弯折至所述中心区域100的所述衬底10背面，制备得到所述柔性显示面板1。
101.其中，所述牺牲层的制备材料可以为非晶硅。
102.其中，所述一定薄度的衬底10的厚度范围为0.1毫米至0.17毫米。
103.其中，本技术提供的柔性显示面板1制备方法为在现有柔性显示面板1的基础上，将衬底10减薄后，再去除弯折区110的衬底10，然后将弯折区110的阵列层20弯折至中心区域100衬底10的背面，实现窄边框。
104.在一种实施例中，去除所述牺牲层120的步骤包括：通过紫外光照射所述牺牲层120，所述牺牲层120由固态转化为气态，使弯折区110内的柔性层201与衬底10相互剥离。
105.在一种实施例中，通过刻蚀减薄所述衬底10的厚度的步骤包括：在所述显示面板远离所述衬底10的一侧底面贴抗酸膜，并在所述显示面板侧面涂布抗酸胶进行保护，然后将保护好的所述显示面板使用氢氟酸进行所述衬底10背面的单面减薄，形成厚度范围为0.15毫米至2毫米的所述衬底10。
106.其中，通过对所述显示面板的侧面和远离所述衬底10的一侧表面进行抗酸保护，使仅衬底10一侧表面被刻蚀薄化，而不影响显示面板的其他区域。
107.在一种实施例中，还包括：给所述衬底10背面一侧贴附保护层90，用于保护薄化的所述衬底10不受外界机械力的损伤。
108.本实施例提供的柔性显示面板包括衬底、设置于所述衬底上方的阵列层、设置于所述阵列层上方的平坦层和发光功能层，所述阵列层包括设置在所述衬底上的柔性层，所述柔性显示面板包括中心区域、围绕所述中心区域设置的至少一弯折区，所述衬底避开所述弯折区设置，位于所述弯折区的所述阵列层弯折至所述中心区域的所述衬底背面设置；通过去除弯折区的衬底，使弯折区的阵列层能够弯折到中心区域的衬底背面，从而降低边框的宽度，实现大尺寸柔性oled显示面板的窄边框设计。
109.以上对本技术实施例所提供的一种柔性显示面板、一种柔性显示面板制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。