一种显示面板及其制备方法与流程

1.本技术涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。


背景技术：

2.有机发光显示装置(英文全称：organic light-emitting diode,简称oled)又称为有机电激光显示装置、有机发光半导体器件。oled凭借电压需求低、省电效率高、重量轻、厚度薄、构造简单、成本低、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等诸多优势，已经成为当今最重要的显示技术之一。
3.屏占比是显示装置的一个重要指标，屏占比的提升能给人优良的视觉体验和交互效果。目前，为了提升视觉效果，让用户感受更加沉浸的效果，人们越来越追求更大的屏占比以及窄边框设计。
4.现有的显示装置为了达到全面屏效果，需要把听筒、摄像装置等传感器安放在显示面板下。但是，显示面板的阴极需要提供电子，进而要求阴极具有一定厚度，由于目前的阴极一般采用金属材料制备形成，导致阴极的透光率较低，由此将影响摄像装置的采光，降低摄像装置的性能。


技术实现要素：

5.本发明的目的是提供一种显示面板及其制备方法，其能够解决现有显示面板中存在的阴极透光率低下，影响摄像装置的采光等问题。
6.为了解决上述问题，本发明提供了一种显示面板，其包括：基底层；多个阳极，相互间隔设置于所述基底层上；像素定义层，设置于任意两个所述阳极之间的所述基底层上；多个发光单元，设置于所述阳极远离所述基底层的一侧的表面上，且与所述阳极一一对应；多个第一阴极，设置于所述发光单元远离所述基底层的一侧的表面上，且与所述发光单元一一对应；以及第二阴极，设置于所述像素定义层远离所述基底层的一侧的表面上，且与所述像素定义层对应设置；其中，所述第一阴极的透光率小于所述第二阴极的透光率。
7.进一步的，所述第二阴极的材质包括：聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯及石墨烯中的一种或多种。
8.进一步的，所述第二阴极的厚度范围为100μm-200μm。
9.进一步的，所述第一阴极的材质包括：镱、银及镁中的一种或多种。
10.进一步的，每一所述第一阴极均连接至所述第二阴极。
11.进一步的，所述显示面板还包括：空穴传输层，设置于所述阳极与所述发光单元之间，且延伸至所述像素定义层与所述第二阴极之间；以及电子传输层，设置于所述发光单元与所述第一阴极之间，且延伸至所述空穴传输层与所述第二阴极之间。
12.进一步的，所述显示面板还包括：圆偏振片，设置于所述第一阴极及所述第二阴极远离所述基底层的一侧的表面上；保护层，设置于所述圆偏振片远离所述基底层的一侧的表面上；以及封装层，设置于所述保护层远离所述基底层的一侧的表面上。
13.进一步的，所述基底层包括：基板；薄膜晶体管层，设置于所述基板上；以及平坦层，设置于所述薄膜晶体管层远离所述基板的一侧的表面上。
14.为了解决上述问题，本发明提供了一种显示面板的制备方法，其包括以下步骤：提供一基底层；在所述基底层上间隔设置多个阳极；在任意两个所述阳极之间的所述基底层上设置像素定义层；在所述阳极远离所述基底层的一侧的表面上设置多个发光单元，所述发光单元与所述阳极一一对应；在所述发光单元远离所述基底层的一侧的表面上设置多个第一阴极，所述第一阴极与所述发光单元一一对应；以及在所述像素定义层远离所述基底层的一侧的表面上设置第二阴极，所述第二阴极与所述像素定义层对应设置；所述第一阴极单元的透光率小于所述第二阴极单元的透光率。
15.进一步的，在在所述像素定义层远离所述基底层的一侧的表面上设置第二阴极的制备步骤中，包括：采用掩膜板，通过喷墨打印工艺在所述像素定义层远离所述基底层的一侧的表面上设置第二阴极。
16.本发明的优点是：通过在发光单元远离所述基底层的一侧的表面上设置多个第一阴极，在像素定义层远离所述基底层的一侧的表面上设置第二阴极，所述第一阴极的透光率小于所述第二阴极的透光率。由此增加第二阴极的透光率，进而增加进入到显示面板下面的摄像装置的光线，提升摄像装置的性能。
附图说明
17.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
18.图1是本发明的显示面板的结构示意图；
19.图2是本发明的显示面板的制备步骤图。
20.附图标记说明：
21.100、显示面板；
22.1、基底层；
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2、阳极；
23.3、像素定义层；
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4、空穴传输层；
24.5、发光单元；
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6、电子传输层；
25.7、第一阴极；
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8、第二阴极；
26.9、圆偏振片；
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10、保护层；
27.11、封装层；
28.101、基板；
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102、薄膜晶体管层；
29.103、平坦层。
具体实施方式
30.以下结合说明书附图详细说明本发明的优选实施例，以向本领域中的技术人员完整介绍本发明的技术内容，以举例证明本发明可以实施，使得本发明公开的技术内容更加清楚，使得本领域的技术人员更容易理解如何实施本发明。然而本发明可以通过许多不同
形式的实施例来得以体现，本发明的保护范围并非仅限于文中提到的实施例，下文实施例的说明并非用来限制本发明的范围。
31.本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是附图中的方向，本文所使用的方向用语是用来解释和说明本发明，而不是用来限定本发明的保护范围。
32.在附图中，结构相同的部件以相同数字标号表示，各处结构或功能相似的组件以相似数字标号表示。此外，为了便于理解和描述，附图所示的每一组件的尺寸和厚度是任意示出的，本发明并没有限定每个组件的尺寸和厚度。
33.如图1所示，本实施例提供了一种显示面板100。显示面板100包括：基底层1、多个阳极2、像素定义层3、空穴传输层4、多个发光单元5、电子传输层6、多个第一阴极7、第二阴极8、圆偏振片9、保护层10以及封装层11。
34.如图1所示，所述基底层1包括：基板101、薄膜晶体管层102以及平坦层103。
35.其中，基板101的材质包括聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯以及聚萘二甲酸乙二醇酯等。由此基板101具有较好的抗冲击能力，可以有效保护显示面板100。
36.其中，薄膜晶体管层102设置于所述基板101的一侧的表面上。事实上，所述薄膜晶体管层102包括：有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间绝缘层以及源漏极层等结构，此处不一一赘述。
37.其中，平坦层103设置于所述薄膜晶体管层102远离所述基板101的一侧的表面上。平坦层103主要为其上的膜层提供平整的表面。本实施例中，所述平坦层103的材质可以为pfa。
38.其中，阳极2相互间隔设置于所述基底层1上。由于ito作为纳米铟锡金属氧化物，具有很好的导电性和透光性，因此，本实施例中的阳极2的材质优选ito，其他实施例中，所述阳极2的材质也可以选择其他材质。
39.其中，像素定义层3设置于任意两个所述阳极2之间的所述基底层1上。所述像素定义层3主要是用于防止相邻发光单元5之间产生光串扰现象。
40.其中，空穴传输层4设置于所述阳极2远离所述基底层1的一侧的表面上，且延伸覆盖于所述像素定义层3远离所述基底层1的一侧的表面上。空穴传输层4控制着空穴的传输，进而控制空穴在发光单元5中与电子的复合，进而提高发光效率。
41.其中，发光单元5设置于所述空穴传输层4远离所述基底层1的一侧的表面上，且与所述阳极2一一对应。
42.其中，电子传输层6设置于所述发光单元5远离所述基底层1的一侧的表面上，且延伸覆盖于所述空穴传输层4远离所述基底层1的一侧的表面上。其中电子传输层6控制着电子的传输，进而控制电子在发光单元5中与空穴的复合，进而提高发光效率。
43.其中，第一阴极7设置于所述电子传输层6远离所述基底层1的一侧的表面上，且与所述发光单元5一一对应。所述第一阴极7的材质包括：镱、银及镁中的一种或多种。本实施例中，第一阴极7包括镱层以及银镁合金层。
44.其中，第二阴极8设置于所述电子传输层6远离所述基底层的一侧的表面上，且与所述像素定义层3对应设置。所述第二阴极8的材质包括：聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯及石墨烯中的一种或多种。由于石墨烯的透光率达到97.7％，所以本实施例中，所述第二阴极8
的材质为石墨烯。
45.其中，所述第二阴极8的厚度范围为100μm-200μm。本实施例中，所述第二阴极8的厚度为125μm。
46.其中，所述第一阴极7的透光率小于所述第二阴极8的透光率。由此增加第二阴极8的透光率，进而增加进入到显示面板100下面的摄像装置(图未示)的光线，提升摄像装置的性能。
47.其中，每一所述第一阴极7均连接至所述第二阴极8。由此可以实现第一阴极7与第二阴极8之间的电连接。
48.其中，圆偏振片9设置于所述第一阴极7及所述第二阴极8远离所述基底层1的一侧的表面上。其主要用于防止外界光经过第一阴极7和第二阴极8反射造成用户的观看效果差和显示面板的对比度低等问题。
49.其中，保护层10设置于所述圆偏振片9远离所述基底层1的一侧的表面上。由此可以防止制备封装层11时的化学气相沉积(英文全称：chemical vapor deposition，简称cvd)工艺对圆偏振片9及其下的膜层造成影响。
50.其中，封装层11设置于所述保护层10远离所述基底层1的一侧的表面上。所述封装层11可以包括有机层、无机层或有机层与无机层的组合。其中无机层主要是起阻水氧作用，其中的有机层主要是对封装层11受到的应力进行缓冲及释放，增加显示面板100的可弯折性能。
51.本实施例还提供了本实施例的显示面板的制备方法，其包括以下步骤：s1，提供一基底层；s2，在所述基底层1上间隔设置多个阳极2；s3，在任意两个所述阳极2之间的所述基底层1上设置像素定义层3；s4，在所述阳极2远离所述基底层1的一侧的表面上设置多个发光单元5，所述发光单元5与所述阳极2一一对应；s5，在所述发光单元5远离所述基底层1的一侧的表面上设置多个第一阴极7，所述第一阴极7与所述发光单元5一一对应；以及s6，在所述像素定义层3远离所述基底层1的一侧的表面上设置第二阴极8，所述第二阴极8与所述像素定义层3对应设置；所述第一阴极单元7的透光率小于所述第二阴极8的透光率。
52.s6中，可以采用掩膜板，通过喷墨打印工艺或者振动筛工艺，在所述像素定义层3远离所述基底层1的一侧的表面上设置第二阴极8。由此可以精准定位需要制备石墨烯的位置，提升第二阴极8的制备精确度。由于石墨烯的热稳定性较差，所以采用喷墨打印或者振动的方式制备第二阴极，可以避免蒸镀工艺中的高温对石墨烯的性能造成影响，从而保证石墨烯的性能。
53.以上对本技术所提供的一种显示面板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。