通过带电粒子系统中的高级充电控制器模块的热辅助检查的制作方法

本文的描述涉及带电粒子束系统的领域，并且更具体地涉及用于提供用于控制带电粒子束系统检查系统的样品表面上的电荷的射束的系统。

背景技术：

1、在集成电路(ic)的制造过程中，检查未完成或已完成的电路组件以确保它们是根据设计制造的并且没有缺陷。利用光学显微镜的检查系统通常具有低至几百纳米的分辨率；并且分辨率受到光波长的限制。由于ic组件的物理尺寸持续减小低至100纳米以下或者甚至10纳米以下，因此需要比利用光学显微镜的检查系统具有更高分辨率的检查系统。

2、分辨率能够低至小于纳米的带电粒子(例如，电子)束显微镜，诸如扫描电子显微镜(sem)或透射电子显微镜(tem)，用作用于检查具有100纳米以下的特征尺寸的ic组件的可行工具。利用sem，单个初级电子束的电子或多个初级电子束的电子可以被聚焦在被检查的晶片的感兴趣的位置处。初级电子与晶片相互作用，并且可以被背散射或者可以使晶片发射次级电子。包括背散射电子和次级电子的电子束的强度可以基于晶片的内部和外部结构的属性而变化，从而可以指示晶片是否具有缺陷。

技术实现思路

1、本公开的实施例提供了用于提供用于控制带电粒子束系统的样品表面上的电荷的射束的装置、系统和方法。在一些实施例中，一种被配置为发射射束的模块可以照射晶片上与像素相邻的区域以间接加热像素从而减轻像素处的直接光子诱导效应的原因。一种被配置为检测像素中的缺陷的电子束工具，其中该缺陷是由像素的间接加热诱导的。

2、在一些实施例中，一种用于检查的方法可以包括从模块发射射束，该射束照射晶片上与像素相邻的区域以间接加热像素从而减轻像素处的直接光子诱导效应的原因，并且检测像素中的缺陷，其中该缺陷是由像素的间接加热诱导的。

3、在一些实施例中，一种非暂态计算机可读介质可以存储可由计算设备的至少一个处理器执行以使计算设备执行用于检查的方法的指令集。该方法可以包括：从模块发射射束，该射束照射晶片上与像素相邻的区域以间接加热像素，从而减轻像素处的直接光子诱导效应的原因；并且检测像素中的缺陷，其中该缺陷是由像素的间接加热诱导的。

技术特征：

1.一种电子束系统，所述系统包括：

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述电子束工具还被配置为使用电压衬度来检测所述缺陷。

3.根据权利要求1所述的系统，其中所述模块包括激光源。

4.根据权利要求3所述的系统，其中：

5.根据权利要求4所述的系统，其中所述区域包括多个区域，并且所述多个射束中的每个射束照射所述晶片上与所述像素相邻的所述多个区域中的每个区域。

6.根据权利要求5所述的系统，其中所述多个射束中的每个射束间接加热所述像素。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述模块还包括分束器和反射镜。

8.根据权利要求7所述的系统，其中所述分束器被配置为将所述射束拆分成多个射束。

9.根据权利要求8所述的系统，其中所述区域包括多个区域，并且所述反射镜被配置为将所述多个射束中的每个射束反射到所述多个区域中的每个区域。

10.根据权利要求9所述的系统，其中所述多个射束中的每个射束照射所述晶片上与所述像素相邻的所述多个区域中的每个区域。

11.根据权利要求10所述的系统，其中所述多个射束中的每个射束间接加热所述像素。

12.根据权利要求11所述的系统，其中所述分束器包括多个分束器。

13.根据权利要求11所述的系统，其中所述反射镜包括多个反射镜。

14.根据权利要求1所述的系统，其中所述射束包括多个射束。

15.根据权利要求14所述的系统，其中所述模块还包括第一抛物面反射镜和第二抛物面反射镜。

技术总结
用于提供用于控制带电粒子束系统的样品表面上的电荷的射束的装置、系统和方法。在一些实施例中，模块包括被配置为发射射束的激光源。射束可以照射晶片上与像素相邻的区域以间接加热像素，从而减轻像素处的直接光子诱导效应的原因。一种被配置为检测像素中的缺陷的电子束工具，其中该缺陷是由对像素的间接加热诱导的。

技术研发人员：叶宁,蒋军,张剑,王義向
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/14