显示面板及其制备方法、显示装置与流程

1.本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。


背景技术：

2.oled(organic light emitting diode，有机发光二极管)显示面板由于具有低功耗、响应时间短、高发光效率、高亮度、以及宽视角等诸多优点而备受市场青睐。oled显示面板中设置有多个发光器件以实现图像显示，每个发光器件包括相对设置的第一电极和第二电极，以及设置在第一电极和第二电极之间且与两者均接触的发光功能层，发光功能层第一电极和第二电极的驱动下发光。
3.在oled显示面板的制备过程中，一般先形成与多个发光器件相对、整面设置的导电材料层，再通过湿法刻蚀将导电材料层图案化形成多个第一电极。但由于湿刻工艺的刻蚀液具有流动性，难以控制刻蚀方向和刻蚀均一性，使得所形成的多个第一电极的形状均一性较差，第一电极与发光功能层的接触面积无法保证，从而对显示效果产生不良影响。


技术实现要素：

4.本发明的实施例提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，用于提升图像显示的均一性，当显示装置中设置有屏下摄像头时，还能够提升屏下摄像头的成像效果。
5.为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
6.第一方面，提供了一种显示面板，该显示面板包括：衬底，设置在所述衬底上的绝缘介质层，设置在所述绝缘介质层远离所述衬底一侧的第一电极层，和设置在所述第一电极层远离所述衬底一侧的像素界定层。其中，所述绝缘介质层的上表面上设有至少一个凹槽，所述绝缘介质层的上表面为所述绝缘介质层远离所述衬底的表面；所述第一电极层包括间隔设置的多个第一电极，一第一电极包括第一部分和第二部分；所述第二部分位于一凹槽中，且与所述衬底之间间隔有所述绝缘介质层，所述第一部分与所述绝缘介质层的上表面贴合，且与所述第二部分形成一体；所述像素界定层具有多个开口，一开口暴露一第一电极中的部分。
7.在一些实施例中，所述第一电极的端面中的至少部分位于所述凹槽中。
8.在一些实施例中，所述凹槽的槽宽大于所述第一电极层的厚度的2倍；所述凹槽的深度大于所述第一电极层的厚度。
9.在一些实施例中，所述绝缘介质层的上表面被所述至少一个凹槽分隔成多个子表面；所述第一电极中，所述第一部分与一子表面接触，所述第二部分设置在所述第一部分周围。
10.在一些实施例中，所述的显示面板包括多个凹槽，每个凹槽设置在所述子表面周围。
11.在一些实施例中，所述凹槽具有内边沿和外边沿，所述内边沿位于所述外边沿所限定的范围内；所述第二部分在所述衬底上的正投影的轮廓，与所述外边沿在所述衬底上
的正投影的轮廓之间处处留有间距。
12.在一些实施例中，所述像素界定层中的至少部分位于所述凹槽中；沿垂直于所述显示面板的厚度方向，一开口靠近所述衬底的边沿位于所述第一部分的边沿以内；所述第一部分的边沿与所述开口靠近所述衬底的边沿之间的距离，为所述第一部分的尺寸的1/10～1/5。
13.在一些实施例中，所述显示面板具有显示区，所述显示区包括第一显示区和第二显示区，所述第一显示区的透过率，大于所述第二显示区的透过率；所述多个开口包括位于所述第二显示区中的多个第一开口；所述显示面板还包括：第二电极层，位于所述第一电极层远离所述衬底的一侧，所述第二电极层包括相耦接的多个第二电极；一第二电极与一第一开口对应设置，且多个所述第二电极彼此不接触。
14.在一些实施例中，所述的显示面板还包括：辅助电极，所述辅助电极中的至少部分位于所述第二显示区中，所述辅助电极与所述多个第二电极均相接触；所述辅助电极的透过率高于所述第二电极层的透过率，所述第二电极层的功函数低于所述辅助电极的功函数。
15.在一些实施例中，所述辅助电极位于所述第二电极层远离所述第一电极层的一侧。
16.另一方面，提供了一种显示装置，所述显示装置如前述任一实施例中所述的显示面板。
17.在一些实施例中，所述的显示装置还包括：光学传感器，所述光学传感器设置在所述显示面板背离出光面的一侧。
18.又一方面，提供一种显示面板的制备方法，包括：首先，在衬底上形成绝缘介质层，所述绝缘介质层的上表面上设有至少一个凹槽，所述绝缘介质层的上表面为所述绝缘介质层远离所述衬底的表面；接下来，形成第一电极层，所述第一电极层设置在所述绝缘介质层远离所述衬底的一侧，所述第一电极层包括多个第一电极，一第一电极包括第一部分和第二部分；所述第二部分位于一凹槽中，且与所述衬底之间间隔有所述绝缘介质层，所述第一部分与所述绝缘介质层的上表面贴合，且与所述第二部分形成一体；接下来，形成像素界定层，所述像素界定层设置在所述第一电极层远离所述衬底的一侧，所述像素界定层具有多个开口，一开口暴露一第一电极中的部分。
19.在一些实施例中，所述显示面板具有显示区，所述显示区包括第一显示区和第二显示区，所述第一显示区的透过率，小于所述第二显示区的透过率，所述多个开口包括位于所述第二显示区中的多个第一开口，其特征在于，所述显示面板的制备方法还包括：形成第二电极层，所述第二电极层位于所述第一电极层远离所述衬底的一侧，所述第二电极层包括相耦接的多个第二电极，任意相邻的两个第二电极彼此不接触；一第二电极与一第二开口对应设置。
20.在一些实施例中，所述的显示面板的制备方法还包括：形成辅助电极，所述辅助电极中的至少部分位于所述第二显示区中，所述辅助电极与所述多个第二电极均相接触；所述辅助电极的透过率高于所述第二电极层的透过率，所述第二电极层的功函数低于所述辅助电极的功函数。
21.本公开实施例中所提供的显示面板中，绝缘介质层的上表面具有多个凹槽，第一
电极包括相接触的第一部分和第二部分，第二部分位于一个凹槽中，第一电极的其余部分为第一部分。在通过湿法刻蚀工艺形成第一电极的过程中，形成导电材料层后，要形成如本公开中所述的第一电极，显影后的光刻胶需要完全覆盖与第一部分对应的导电材料层部分，同时还会至少覆盖与凹槽的第一侧壁相贴合的导电材料层部分(该导电材料层部分最终会形成第二部分)。从而只有当位于凹槽中的第二部分对应的导电材料层被完全消耗后，才会开始对第一部分对应的导电材料层进行刻蚀，具有较长的刻蚀路径。刻蚀路径沿中的部分沿显示面板的厚度方向延伸，有利于减小垂直于厚度方向需要预留的刻蚀余量，从而在降低第一部分被误刻蚀的风险的同时，有利于形成与预设的第一电极形状更接近、分布范围更小的第一电极，第一电极分布范围的减小能够提高显示面板的透过率，当远离显示面板出光面的一侧还设置有屏下摄像头时，前述的设置还有利于提升屏下摄像头的成像质量。
附图说明
22.为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
23.图1为根据一些实施例的显示装置的结构图；
24.图2为根据一些实施例的显示面板的结构图；
25.图3为沿图2中a-a’方向的剖视图；
26.图4为根据一些实施例的封装层的结构图；
27.图5为图3中fd区的放大图；
28.图6为根据一些实施例的刻蚀路径示意图；
29.图7为根据另一些实施例的刻蚀路径示意图；
30.图8为根据一些实施例的绝缘介质层与第一电极层的结构图；
31.图9为根据另一些实施例的绝缘介质层与第一电极层的结构图；
32.图10为根据一些实施例的第二电极层与辅助电极的结构图；
33.图11为沿图2中b-b’方向的剖视图；
34.图12为根据一些实施例的显示面板制备方法流程图；
35.图13为根据一些实施例的显示面板制备方法流程图；
36.图14a～图14i为根据一些实施例的显示面板制备工艺流程图。
具体实施方式
37.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
38.在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的
方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
39.除非上下文另有要求，否则，在整个说明书和权利要求书中，术语“包括(comprise)”及其其他形式例如第三人称单数形式“包括(comprises)”和现在分词形式“包括(comprising)”被解释为开放、包含的意思，即为“包含，但不限于”。在说明书的描述中，术语“一个实施例(one embodiment)”、“一些实施例(some embodiments)”、“示例性实施例(exemplary embodiments)”、“示例(example)”、“特定示例(specific example)”或“一些示例(some examples)”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本公开的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外，所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。
40.以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本公开实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
41.在描述一些实施例时，可能使用了“耦接”和“连接”及其衍伸的表达。例如，描述一些实施例时可能使用了术语“连接”以表明两个或两个以上部件彼此间有直接物理接触或电接触。又如，描述一些实施例时可能使用了术语“耦接”以表明两个或两个以上部件有直接物理接触或电接触。然而，术语“耦接”或“通信耦合(communicatively coupled)”也可能指两个或两个以上部件彼此间并无直接接触，但仍彼此协作或相互作用。这里所公开的实施例并不必然限制于本文内容。
[0042]“a、b和c中的至少一个”与“a、b或c中的至少一个”具有相同含义，均包括以下a、b和c的组合：仅a，仅b，仅c，a和b的组合，a和c的组合，b和c的组合，及a、b和c的组合。
[0043]“a和/或b”，包括以下三种组合：仅a，仅b，及a和b的组合。
[0044]“多个”是指至少两个。
[0045]
本文中“适用于”或“被配置为”的使用意味着开放和包容性的语言，其不排除适用于或被配置为执行额外任务或步骤的设备。
[0046]
另外，“基于”的使用意味着开放和包容性，因为“基于”一个或多个所述条件或值的过程、步骤、计算或其他动作在实践中可以基于额外条件或超出所述的值。
[0047]
如本文所使用的那样，“约”、“大致”或“近似”包括所阐述的值以及处于特定值的可接受偏差范围内的平均值，其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)所确定。
[0048]
如本文所使用的那样，“平行”、“垂直”、“相等”包括所阐述的情况以及与所阐述的情况相近似的情况，该相近似的情况的范围处于可接受偏差范围内，其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)所确定。例如，“平行”包括绝对平行和近似平行，其中近似平行的可接受偏差范围例如可以是5
°
以内偏差；“垂直”包括绝对垂直和近似垂直，其中近似垂直的可接受偏差范围例如也可以是5
°
以内偏差。“相等”包括绝对相等和近似相等，其中近似相等的可接受偏差范围内例如可以是相等的两者之间的差值小于或等于其中任一者的
5％。
[0049]
本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中，为了清楚，放大了层和区域的厚度。因此，可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此，示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状，而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如，示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此，附图中所示的区域本质上是示意性的，且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状，并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。
[0050]
本公开的一些实施例提供了一种显示装置1，该显示装置1被配置为显示图像；例如，可以显示静态图像或动态图像等。示例性地，该显示装置1可以是：显示器、电视、广告牌、家电、大面积墙壁、信息查询设备(如电子政务、银行、医院或电力等部门的业务查询设备)、手机、个人数字助理(personal digital assistant，pda)、数码相机、摄录机或导航仪等。
[0051]
参见图1，该显示装置1可以包括被配置为显示图像的显示面板10，当然还可以包括其他部件。例如，该显示装置1还可以包括光学传感器20，光学传感器20设置在显示面板10背离出光面的一侧。显示面板10的出光面即用户在使用显示装置1时能看到显示图像的表面。该光学传感器20可以是用于进行纹路识别以提高使用安全性的纹路传感器。其中，纹路识别可以包括：指纹识别和掌纹识别等中的至少一者。具体地，用户的手指反射的光线穿过显示面板10后被光学传感器20接收并识别，从而实现纹路识别。该光学传感器20还可以是图像传感器，被配置为采集图像，例如可以用作前置摄像头。该显示装置1所采用的光学传感器20可以为屏下光学传感器，使得光学传感器20所对应的显示面板10区域仍能实现正常显示，从而满足消费者对于全面屏的需求。
[0052]
本公开的一些实施例提供了一种显示面板10，例如，该显示面板10可以是oled显示面板、qled(quantum dot light emitting diodes，量子点发光二极管)显示面板、lcd(liquid crystal display，液晶显示器)显示面板、微led(包括：mini led或micro led)显示面板等，对此不作过多限制。为了表述简便，以下以显示面板为oled面板为例进行说明。
[0053]
参见图2，显示面板10具有显示区aa(active area)和周边区s。其中，周边区s位于显示区aa至少一侧。示例性地，周边区s可以围绕显示区aa一圈设置。显示面板10还可以包括多个子像素p，多个子像素p位于显示区aa中。示例性地，多个子像素p可以呈阵列排布。例如，沿第一方向x排列成一排的子像素p称为同一行子像素p，沿第二方向y排列成一排的子像素p称为同一列子像素p。多个子像素p可以包括被配置为发出第一颜色光线的第一颜色子像素、被配置为发出第二颜色光线的第二颜色子像素和被配置为发出第三颜色光线的第三颜色子像素。例如，第一颜色、第二颜色和第三颜色分别为红色、绿色和蓝色。
[0054]
示例性地，参见图2，显示面板10可以包括驱动电路100、驱动背板和至少一个(例如，可以是多个)发光器件。驱动电路100用于向驱动背板提供驱动信号，驱动背板用于在驱动信号的控制下驱动发光器件l发光。
[0055]
继续参见图2，驱动电路100可以包括至少一个(例如一个)柔性电路板fpc(flexible printed circuit)，柔性电路板fpc的一端绑定至周边区s中的pad区sp。柔性电路板fpc可以弯折到显示面板10背离出光面的一侧，从而有利于实现显示装置1的窄边框设计。
[0056]
参见图3，驱动背板110包括衬底111，衬底111被配置为承载显示面板10中的多个膜层。该衬底111可以是刚性衬底。例如，刚性衬底可以为玻璃衬底或pmma(polymethyl methacrylate，聚甲基丙烯酸甲酯)衬底等。或者，该衬底111也可以为柔性衬底。例如，柔性衬底可以为pet(polyethylene terephthalate，聚对苯二甲酸乙二醇酯)衬底、pen(polyethylene naphthalate two formic acid glycol ester，聚萘二甲酸乙二醇酯)衬底、pi(polyimide，聚酰亚胺)衬底或超薄玻璃等。
[0057]
参见图3，驱动背板110包括设置在衬底111上的像素电路层112，像素电路层112包括多个像素电路112’。如图2所示，显示面板10的至少一个(例如每个)子像素p包括像素电路112’和发光器件l。其中，像素电路112’与发光器件l耦接。像素电路112’被配置为驱动发光器件l发光。示例性地，多个像素电路112’也可以呈阵列排布。
[0058]
示例性地，像素电路可以由晶体管、电容器(capacitance，简称c)等电子器件组成，像素电路的具体结构可以根据实际情况进行设计，本公开的实施例对此不作限定。晶体管可以为薄膜晶体管(thin film transistor，简称tft)，或者可以为场效应晶体管(field effect transistor，简称tfe)等。例如，像素电路可以包括两个晶体管(一个开关晶体管和一个驱动晶体管)和一个电容器c，构成2t1c结构；又例如，像素电路可以包括两个以上的晶体管(多个开关晶体管和一个驱动晶体管)和至少一个电容器c，例如，像素电路可以包括一个电容器c和七个晶体管(六个开关晶体管和一个驱动晶体管)，构成7t1c结构。
[0059]
在一种可能的实现方式中，参见图3，驱动背板110还可以包括设置在衬底111上的绝缘介质层113，绝缘介质层113可以设置在像素电路远离衬底111的一侧，用于为发光器件l的设置提供平坦表面。绝缘介质层113的材料可以为氧化硅，氮化硅和氮氧化硅等绝缘材料中的任一种。绝缘介质层113的上表面us上设有至少一个(例如一个或多个)凹槽gr，凹槽不同于通孔，凹槽并不贯穿绝缘介质层，每个凹槽gr的深度均小于绝缘介质层113的厚度，其中，绝缘介质层113的上表面us为绝缘介质层113远离衬底111的表面。对凹槽gr的具体形状不作过多限制，凹槽gr在衬底111上的正投影的形状可以为矩形、正方形、三角形、环形等，每个凹槽gr设置在相邻的至少两个(例如两个或多个)子像素p之间。
[0060]
需要说明的是，绝缘介质层113中所包括的膜层数量可以仅为一层，也可以为多层。当绝缘介质层113中所包括的膜层数量为多层时，多层中任意相邻的两层相贴合，凹槽gr从绝缘介质层113的上表面us向衬底111所在的一侧延伸，凹槽gr的槽底bd可以位于绝缘介质层113的多个膜层中的任意一者中，凹槽gr的深度小于多个膜层的整体厚度。当绝缘介质层113的上表面us上设有多个凹槽gr时，多个凹槽gr的深度可以大致相等，也可以彼此不相等，对此不作过多限制，但为了表述简便，以下以多个凹槽gr的深度大致相等为例，继续进行说明。
[0061]
在一种可能的实现方式中，参见图3，显示面板中还包括设置在绝缘介质层113远离衬底111一侧的像素界定层120，像素界定层120具有多个开口op，以及围绕各个开口op的挡墙dm，每个开口op与一个子像素p相对应，每个发光器件l中的至少部分设置在一个开口op中。
[0062]
参见图3，至少一个(例如多个)发光器件l包括第一电极131和第二电极141，以及设置在第一电极131和第二电极141之间的发光功能层el。具体地，第一电极131可以作为阴极，也可以作为阳极，对此不作过多限制，第二电极141的极性与第一电极131相反。为了表
述简便，以下以第一电极131为阳极，第二电极141为阴极作为示例进行说明。
[0063]
在一种可能的实现方式中，第一电极131可由具有高功函数的透明导电材料形成，其电极材料可以包括氧化铟锡(ito)、氧化铟锌(izo)、氧化铟镓(igo)、氧化镓锌(gzo)氧化锌(zno)、氧化铟(in2o3)、氧化铝锌(azo)和碳纳米管等。第一电极131可以仅包括一个透明导电材料层，也可以包括多个透明导电材料层。例如，每个第一电极131包括三层导电材料，三层导电材料分别为氧化铟锡、银和氧化铟锡。第二电极141例如可由高导电性和低功函数的材料形成，其电极材料可以包括镁铝合金(mgal)和锂铝合金(lial)等合金或者镁(mg)、铝(al)、锂(li)和银等金属单质。
[0064]
发光功能层el包括有机发光层(emitting material layer，简称eml)，有机发光层的材料可以包括低分子量有机材料或聚合物材料，这些材料为在电场作用下可以发射红光、绿光、蓝光或白光的荧光或磷光材料。具体的，当发光功能层el的材料为同种材料、发光功能层el所发出的光为同种颜色的光时，发光功能层el可以覆盖显示面板的显示区域。此外，为了提高显示面板中发光器件l的发光效率，除了包括有机发光层外，发光功能层el还可以包括电子传输层(election transporting layer，简称etl)、电子注入层(election injection layer，简称eil)、空穴传输层(hole transporting layer，简称htl)以及空穴注入层(hole injection layer，简称hil)中的一层或多层。
[0065]
在一种可能的实现方式中，还可以在发光功能层el靠近显示面板出光面的一侧设置多个彩色滤光片(color filter)和黑矩阵(black matrix)，每个彩色滤光片与一个子像素对应设置，彩色滤光片可以包括红色滤光片、蓝色滤光片和绿色滤光片等，通过彩色滤光片使得子像素p的光表现为特定颜色，从而实现显示面板的全彩化。黑矩阵用于分隔不同颜色的彩色滤光片以防止混色，黑矩阵采用包括涂敷有绝缘材料的碳颗粒、钛颗粒和色素中至少一者的黑色树脂制成。同时，彩色滤光片和黑矩阵的设置也能在一定程度上降低环境光照射进显示面板中的光亮，从而能够降低显示面板中的反光结构反射的环境光出射对要显示的图像所造成的干扰，有利于提高显示面板显示图像的对比度。
[0066]
在一种可能的实现方式中，继续参见图3，为了避免环境中的水氧侵入显示面板，对发光器件l的发光性能产生不良影响并最终缩短显示面板的使用寿命，显示面板中还可以设置封装层160。具体的，封装层160设置在第二电极层140远离衬底111的一侧，可通过薄膜封装技术形成。封装层160可以为单层或多层。例如，参见图4，封装层160可以为三层，包括第一无机层cvd1、第二无机层cvd2以及设置两者之间的有机层ijp。封装层160的厚度不均，远离衬底111一侧的表面为平坦表面。其中，第一无机层cvd1和第二无机层cvd2可通过等离子体化学气相沉积工艺形成，有机层ijp可通过喷墨打印工艺形成。
[0067]
结合前述，继续参见图3，显示面板中设置有第一电极层130和第二电极层140，第一电极131第一电极层130包括间隔设置的多个第一电极131，第二电极层140包括至少一个(例如一个或多个)第二电极141。第一电极层130设置在绝缘介质层113远离衬底111的一侧，第二电极层140设置在第一电极层130远离衬底111的一侧。每个第一电极131可以通过至少一个(例如一个)过孔与像素电路相耦接。对第一电极131第一电极131层130和像素界定层120的相对位置不作过多限制。例如，第一电极层130与像素界定层120可以同层设置，每个第一电极131与像素界定层120之间处处留有间距；又例如，第一电极层130位于像素界定层120远离衬底111的一侧，每个第一电极131位于一个开口op中，且每个第一电极131在
衬底111上的正投影，覆盖该开口op靠近衬底111的边沿在衬底111上的正投影；还例如，参见图3，像素界定层120位于第一电极层130远离衬底111的一侧，每个第一电极131中的部分被像素界定层120覆盖，同时，像素界定层120中的部分位于至少一个(例如每个)凹槽gr中。
[0068]
参见图1、图2和图3，当显示装置1中还包括如前所述的光学传感器20(例如屏下摄像头)时，该屏下摄像头20与显示面板10中的至少一个(例如多个)子像素p正对，外界的光线需要穿过这些子像素p才能被该屏下摄像头20接收到进而成像。相较于像素界定层120的挡墙所正对的显示面板10的部分，子像素p所正对的显示面板10中的部分由于设置有第一电极131和第二电极141等膜层，膜层数量较多，透过率(或者称为透光率，英文为transmittance)较低。
[0069]
示例性地，可以将显示面板10的显示区aa划分为第一显示区aa1和第二显示区aa2，其中，屏下摄像头20设置在第二显示区aa2中，第一显示区aa1中子像素p的密度，大于第二显示区aa2中子像p素的密度。由于像素界定层120的每个开口op与一个子像素p对应，因此相应的，第一显示区aa1中开口op的密度，大于第二显示区aa2中开口op的密度。第一显示区aa1和第二显示区aa2均可实现正常显示，第一显示区aa1中子像素p的密度较大，第二显示区aa2中子像素p密度较小，则第一显示区aa1的透过率，小于第二显示区aa2的透过率，因而将屏下摄像头20设置在第二显示区aa2中，有利于提升屏下摄像头20的成像质量。
[0070]
示例性地，参见图3，至少一个(例如每个)第一电极131包括第一部分fp和第二部分sp，第二部分sp位于一个凹槽gr中，且与衬底111之间间隔有绝缘介质层113，第一部分fp与绝缘介质层113的上表面us贴合，且延伸至凹槽gr远离衬底111的一侧，第一部分fp与第二部分sp形成一体。即以绝缘介质层113的上表面us为界限，将第一电极131划分为位于凹槽gr中的第二部分sp，和除第二部分sp以外的第一部分fp。第一部分fp中延伸至凹槽gr正上方的部分，与位于凹槽gr中的第二部分sp相接触。第二部分sp覆盖凹槽gr靠近第一部分fp的侧壁(以下称为第一侧壁sd1，将凹槽gr远离第一部分fp的侧壁称为第二侧壁sd2)中的至少部分。例如，第二部分sp可以充满凹槽gr；或者，第二部分sp也可以仅设置在第一侧壁sd1上；又或者，第二部分sp可以在第一侧壁sd1和凹槽gr的槽底bd上均有设置；再或者，第二部分sp还可以在第一侧壁sd1、凹槽gr的槽底bd和上第二侧壁sd2均有设置，对此不作过多限制。
[0071]
图5为图3中fd区的放大图，参见图5，至少一个(例如每个)开口op暴露出一个第一电极131中的部分，每个开口op在衬底111上的正投影与该开口op所暴露出的第一电极131在衬底111上的正投影具有重叠区域。例如，每个开口op靠近衬底111的边沿(以下称为开口边沿)位于第一电极131的第一部分fp的边沿(以下称为第一部分边沿)以内。在此情况下，每个发光器件l中能够发光的区域为有效发光区域，有效发光区域由开口op边沿所限定，有效发光区域的面积小于第一电极131的第一部分fp的面积。具体地，可以设置垂直于第三方向z(也即对第一电极131的第一部分fp而言，即为沿第一部分fp的周向)上，第一部分边沿与位于其以内的开边沿之间的距离d，为第一部分fp的尺寸s的1/10～1/5，以确保发光器件l的有效发光区域面积，保证显示面板的显示效果。
[0072]
在一种可能的实现方式中，第一电极131还可以包括第三部分(图中未示出)，沿第一方向x，第三部分位于第二部分sp远离第一部分fp的一侧，且第三部分同样与绝缘介质层113的上表面us贴合。
[0073]
在显示面板的制备过程中，可以先在绝缘介质层113上形成整面分布的导电材料层，再对导电材料层图案化，得到包括多个第一电极131的第一电极层130。图案化的步骤包括：涂覆光刻胶、曝光、显影、刻蚀和剥离光刻胶等，形成第一电极131所采用的刻蚀工艺一般为湿法刻蚀。参见图6，沿第三方向z，第一部分fp的两个表面中靠近绝缘介质层113的一者为第一部分fp的下表面(以下称为第一表面)，另一者为第一部分fp的上表面us(以下称为第二表面)，连接第一表面和第二表面的表面，为第一部分fp的端面。若在制备过程中，光刻胶仅覆盖与第一部分fp对应的导电材料层，而不覆盖与第二部分sp对应的导电材料层，那么第一部分fp的端面将不会被光刻胶所覆盖，湿法刻蚀工艺过程中导电材料层被消耗的方向如图中的箭头所示，在湿法刻蚀时第一部分fp的端面同样会被刻蚀掉，无法确保能够形成如前所述的第一部分fp和第二部分sp相接触的第一电极131。且由于湿刻工艺的刻蚀液具有流动性，难以控制刻蚀方向和刻蚀均一性，因此所形成的第一部分fp的形状均一性较差，无法保证开口边沿位于第一电极131边沿以内，多个发光器件的有效发光区域面积的均一性也较差，显示面板显色不均的风险较高。
[0074]
因此为了确保能够形成第一部分fp和第二部分sp相接触的第一电极131，参见图7，光刻胶需要完全覆盖第一电极131对应的导电材料层，而光刻胶覆盖第一部分fp对应的导电材料层时，不可避免地会覆盖第二部分sp中的至少部分对应的导电材料层。在此情况下，湿法刻蚀工艺过程中导电材料层被消耗的方向如图中的箭头所示，只有当位于凹槽中的导电材料层被完全消耗后，才会开始对第一部分fp对应的导电材料层进行刻蚀，刻蚀路径较长，第一部分fp被误刻蚀的几率大大降低。可见本公开中第一电极131的形状设计，能够使所形成的第一部分fp的形状性较为均一，相应的，多个发光器件的有效发光区域面积的均一性较高，从而能够降低显示面板出现显色不均的风险。
[0075]
相关技术中，绝缘介质层的上表面不具有如本公开所述的凹槽，第一电极全部设置在绝缘介质层的上表面上。在显示面板的制备过程中，为了避免第一电极被误刻蚀，导致形成的第一电极形状均一性较差，一般需要设置较大的刻蚀余量，即设置光刻胶所覆盖导电材料层的区域的面积，大于预设的第一电极的面积，从而在刻蚀结束后，所实际形成的第一电极的面积，一般也大于预设的第一电极的面积。当显示装置中还包括屏下摄像头时，由于所形成的第一电极的面积较大，对入射光线的遮挡更严重，屏下摄像头成像质量较差。
[0076]
而当第一电极131的形状如本公开中所述时，参见图5和图7，第一部分fp位于绝缘介质层113的上表面us上，第二部分sp位于凹槽gr中，第二部分sp与第一部分fp的设置位置存在高度差，刻蚀液需要沿第三方向z刻蚀掉与凹槽gr的第二侧壁sd2相贴合的导电材料层部分，才会接触到第一部分fp对应的导电材料层部分。因此要保证第一部分fp不会被误刻蚀，则仅限制存在与凹槽gr的第二侧壁sd2相贴合的第二部分sp即可，从而有利于实现减小的第二部分sp分布范围，相应的，也有利于减小第一电极131的分布范围，增大显示面板的透过率，进而有利于提高屏下摄像头的成像质量。
[0077]
示例性地，参见图5，第一电极131的端面中的至少部分(例如全部)位于凹槽gr中。沿显示面板的厚度方向，第一电极131的表面中与绝缘介质层113的上表面us相接触的表面，为第一电极131的下表面(以下称为第三表面)，位于第三表面远离绝缘介质层113的一侧且与其正对的表面为第一电极131的上表面us(以下称为第四表面)，连接第三表面和第四表面的表面，则为第一电极131的端面。第一电极131的端面位于凹槽gr中，则说明当第一
电极131仅包括第一部分fp和第二部分sp，第一电极131在衬底111上的正投影的面积，不大于凹槽gr的第一侧壁sd1在在衬底111上的正投影所限定的面积，第一电极131的分布范围较小，同样能够提高屏下摄像头的成像质量。
[0078]
示例性地，参见图5，可以设置凹槽gr的槽宽w大于第一电极层130的厚度h的2倍。例如，凹槽gr的槽宽w可以为第一电极层130的厚度h的2～10倍，比如2.2倍、4倍、6倍、7倍、9倍等。结合前述，导电材料层是整面形成的，凹槽gr的第一侧壁sd1、第二侧壁sd2和槽底bd上均设置有导电材料，当凹槽gr的尺寸较大时，凹槽gr中导电材料的总量也就越多，在湿法刻蚀的过程中也就更难被完全去除，从而能够确保刻蚀停止在第二部分sp对应的导电材料层中，进而形成第一部分fp和第二部分sp相接触的第一电极131。同理地，参见图5，还可以设置凹槽gr的深度p大于第一电极131第一电极层130的厚度h，也有利于在凹槽gr中沉积较多的导电材料，同样具有前述的有益效果。具体地，凹槽gr的深度p可以为第一电极131第一电极层130的厚度w的1～4倍，比如1.2倍、1.6倍、2.倍、2.3倍、2.6倍、3.5倍等。
[0079]
示例性地，参见图3，绝缘介质层113的上表面us被至少一个(例如一个或多个)凹槽gr分隔成多个子表面us’，每个子表面us’的轮廓为封闭轮廓，任意相邻的两个子表面us’的边沿之间处处留有间距。至少一个(例如每个)第一电极131中，第一部分fp与一子表面us’接触，第二部分sp设置在第一部分fp周围(也即第二部分sp沿第一部分fp周向形成)。将第一部分fp中与凹槽gr正对的部分称为第一部分fp的端部，按照上述设置所形成的第一部分fp的端部在衬底111上的正投影为环形，第二部分sp在衬底111上的正投影也为环形。在显示面板10的制备过程中，该设置能够降低第一部分fp的端部被误刻蚀的风险，使得实际形成的第一部分fp的轮廓，更接近于预设的第一部分fp的轮廓，从而保证每个发光器件l的有效发光区域的面积，提升图像显示的均一性。
[0080]
例如，参见图8，绝缘介质层113的上表面us上可以仅设置有一个凹槽gr，该凹槽gr在衬底111上的正投影的轮廓为具有多个网眼的网格状，每个子表面us’位于一个网眼中，子表面us’的轮廓与网眼的轮廓完全重合。每个网眼与一个第一电极131正对，该网眼在衬底111上的正投影的轮廓，包含在第一电极131在衬底111上的正投影的轮廓内。
[0081]
又例如，参见图9，绝缘介质层113的上表面us上设置有多个凹槽gr，每个凹槽gr设置在一个子表面us’周围(或者说每个凹槽gr沿一个子表面us’周向形成)，任意相邻的两个凹槽gr之间间隔有绝缘介质层113。即每个凹槽gr在衬底上的正投影的轮廓为环形，每个第一电极131在衬底上的正投影的轮廓，包含在于该第一电极131正对的凹槽gr在衬底上的正投影的轮廓内。在该前提下，凹槽gr具有内边沿和外边沿，内边沿和外边沿与绝缘介质层113的上表面us齐平，内边沿位于外边沿所限定的范围内。第一电极131的第二部分sp在衬底上的正投影的轮廓，与凹槽gr的外边沿在衬底上的正投影的轮廓之间处处留有间距。第一电极131的第二部分sp沿第一部分fp周向形成，第二部分sp可以仅设置在凹槽gr的第一侧壁上，或者，第二部分sp仅设置在第一侧壁和槽底上，在第二侧壁上不设置，从而减小第二部分sp的分布范围，增大显示面板的透过率，当显示装置还具有屏下摄像头时，可以更好地平衡显示面板的显示效果和屏下摄像头的成像效果。
[0082]
示例性地，参见图3，像素界定层120所具有的多个开口op包括位于第二显示区aa2中的多个第一开口op，以及位于第一显示区aa1中的多个第二开口op2。第二电极层140中包括相耦接的多个第二电极141，任意相邻的两个第二电极141彼此不接触，至少一个(例如每
个)第二电极141与一个第一开口op1对应设置，也即每个第一开口op1在衬底111上的正投影，和与其对应的第二电极141在衬底111上的正投影具有重叠区域。多个第二电极141可以仅设置在第二显示区aa2中，也可以在整个显示区aa中均有设置。当第二显示区aa2中设置有屏下摄像头时，第二显示区aa2中的不整面设置第二电极141，而是设置多个彼此不接触的第二电极141，任意相邻的两个第二电极141之间处处留有距离，能够减小第二显示区aa2中第二电极141的总面积，使得第二显示区aa2对应的显示面板部分具有较大的透过率，以保证屏下摄像头的成像效果。
[0083]
当多个第二电极141仅设置在第二显示区aa2中时，第二电极层140还可以包括位于第一显示区aa1中第三电极142。对第三电极142的具体设置方式不作过多限制，例如，参见图10，第二电极层140中可以包括一个第三电极142，第三电极142在第一显示区aa1中整面分布，且与第一显示区aa1中的多个子像素p均对应；又例如，第二电极层140中可以包括多个第三电极142，每个第三电极142与第一显示区aa1中的至少一个(例如一个或多个)子像素p对应。
[0084]
参见图11，显示面板的周边区s设置有电极总线ml，电极总线ml被配置为向第二电极层140中的第二电极和第三电极142供电。电极总线ml可以设置在像素电路层112上。显示面板10的周边区s还设置有至少一个(例如一个)导电图案cp，该导电图案cp设置在绝缘介质层113的上表面us上，且与第二电极层140之间间隔有像素界定层120，导电图案cp搭接在电极总线ml上。第二电极层140中的第三电极142的边缘延伸至周边区s，并通过像素界定层120中的至少一个(例如多个)过孔与导电图案cp连接，最终与电极总线ml耦接。
[0085]
对多个第二电极实现耦接的具体方式不作过多限制。示例性地，显示面板中可以包括多条连接线，每条连接线的一端与一个第二电极耦接，另一端与位于第一显示区中的第三电极耦接，或者，连接线的另一端与电极总线耦接，以向第二电极供电。多条连接线的长度可以相等，也可以不相等。
[0086]
又示例地，参见图3和图10，显示面板中可以包括辅助电极150，辅助电极150中的至少部分(例如部分)位于第二显示区aa2中，且辅助电极150与多个第二电极141均相接触。辅助电极150中的其余部分可以延伸至第一显示区aa1中并与第三电极142搭接。对辅助电极150与第二电极层140的相对位置不作过多限制，例如，辅助电极150可以位于第二电极层140靠近第一电极层130的一侧；又例如，参见图3，辅助电极150可以位于第二电极层140远离第一电极层130的一侧。
[0087]
示例性地，第二电极层140的功函数低于辅助电极150的功函数，辅助电极150的透过率高于第二电极层140的透过率。例如，第二电极层140的材料可以为镁银合金，辅助电极150的材料可以为氧化铟锡或者铝掺杂氧化锌。
[0088]
对辅助电极150的具体形状不作过多限制。例如，参见图3和图10，辅助电极150上设置有多个开口，每个开口与一个第二电极(也即位于第二显示区aa2中的一个子像素p)正对，每个开口在衬底111上的正投影，包含在与其正对的第二电极141在衬底111上的正投影以内，即每个第二电极141都与辅助电极150搭接。又例如，辅助电极150可以整面设置，辅助电极150在衬底111上的正投影覆盖多个第二电极141在衬底111上的正投影。辅助电极150的设置，能够将多个第二电极141耦接起来，且能够使相耦接的多个第二电极141等效为一个导电整体，该导电整体的各处电压均相等，从而能够使得第一显示区aa1中的多个子像素
p的发光亮度较为均一，有利于提升显示面板整体的图像显示效果。结合前述，由于辅助电极150的材料具有较高的透过率，从而能够在保证显示面板的显示画质的同时，使屏下摄像头接收到较多的入射光线，从而具有较好的成像效果。
[0089]
本公开的一些实施例提供了一种显示面板的制备方法，可用于形成前述任一实施例中所述的显示面板。参见图12，该显示面板的制备方法可以包括下述的步骤s101～s103。
[0090]
s101、在衬底上形成绝缘介质层。
[0091]
具体地，绝缘介质层的上表面上设有至少一个凹槽，其中，绝缘介质层的上表面为绝缘介质层远离衬底的表面。
[0092]
s102、在衬底上形成第一电极层。
[0093]
具体地，第一电极层设置在绝缘介质层远离衬底的一侧，第一电极层包括多个第一电极，至少一个(例如每个)第一电极包括第一部分和第二部分。第二部分位于一凹槽中，且与衬底之间间隔有绝缘介质层，第一部分与绝缘介质层的上表面贴合，且延伸至凹槽远离衬底的一侧，与第二部分形成一体。
[0094]
s103、在衬底上形成像素界定层。
[0095]
具体地，像素界定层设置在第一电极层远离衬底的一侧，像素界定层具有多个开口，至少一个(例如每个)开口暴露出一个第一电极中的部分，例如，每个开口靠近衬底的边沿(即开口边沿)位于一个第一电极的第一部分的边沿(即第一电极边沿)以内。
[0096]
下面，以形成图3所示的显示面板为例，对显示面板制备方法进行详细说明，其中，显示面板具有显示区aa和周边区s，显示区aa中设置有多个子像素p，每个子像素p中包括一个发光器件l。显示区aa包括第一显示区aa1和第二显示区aa2，第一显示区aa1中子像素p的密度，大于第二显示区aa2中子像素p的密度。参见图13，显示面板的制备方法可以包括下述的步骤s201～s208。
[0097]
s201、在衬底111上形成像素电路层。
[0098]
参见图14a，可以通过成膜工艺(也可以称为镀膜工艺)、曝光工艺和刻蚀工艺，叠加不同图形不同材质的膜层以形成多个像素电路112’，像素电路112’用于驱动发光器件发光，多个像素电路112’构成像素电路层112。
[0099]
其中，镀膜工艺是使用镀膜设备，用物理或化学的方式将所需材质沉积到玻璃基板上。曝光工艺是采用光学照射的方式，将掩膜板(mask)上的图案通过光刻胶转印到镀膜后的基板上。蚀刻工艺是使用化学或者物理的方式，将基板上未被光刻胶覆盖的图形下方的膜蚀刻掉，最后将覆盖在膜上的光刻胶洗掉，留下具有所需图形的膜层。
[0100]
s202、在形成有像素电路层112的衬底111上形成绝缘介质层113。
[0101]
参见图14b，可以通过成膜工艺形成覆盖多个像素电路112’的绝缘介质层113，为后续形成发光器件提供平坦表面。绝缘介质层113的材料可以为氧化硅，氮化硅和氮氧化硅等绝缘材料中的任一种。
[0102]
s203、在绝缘介质层113的上表面us上形成凹槽gr。
[0103]
参见图14c，可以采用刻蚀工艺、压印或者其他任意可选用的方式，在绝缘介质层113的上表面us上形成至少一个(例如一个或多个)凹槽gr，凹槽gr的深度小于绝缘介质层113的厚度。
[0104]
对凹槽gr的具体设置位置不作过多限制。例如，绝缘介质层113的上表面us上形成
有多个凹槽gr，任意相邻的两个凹槽gr之间间隔有绝缘介质层113，每个凹槽gr位于相邻的至少两个(例如两个或多个)子像素之间；又例如，绝缘介质层113的上表面us上可以仅设置有一个凹槽gr，该凹槽gr将绝缘介质层113的上表面us划分为多个子表面us’，该凹槽gr在衬底111上的正投影的轮廓为具有多个网眼的网格状，每个网眼与一个子像素对应；还例如，参见图14c，绝缘介质层113的上表面us上设置有多个凹槽gr，任意相邻的两个凹槽gr之间间隔有绝缘介质层113，每个凹槽gr在衬底111上的正投影的轮廓为环形，每个凹槽gr与一个子像素对应。
[0105]
s204、在形成有绝缘介质层113的衬底111上形成第一电极层。
[0106]
参见图14d，形成第一电极层130可以包括：在绝缘介质层113上形成第一导电材料层，再通过一次构图工艺形成多个第一电极131。第一导电材料层的材料可以选用镁铝合金或锂铝合金等合金，或者可以为镁、铝、锂和银等金属单质，还可以为氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铟镓、氧化镓锌、氧化锌、氧化铟、氧化铝锌和碳纳米管等中的任意一者或几者。例如，第一导电材料层包括三层导电材料，三层透明导电材料分别为氧化铟锡、银和氧化铟锡。
[0107]
构图工艺是指能够形成至少一个具有一定形状的图案的工艺。例如，在衬底111上通过沉积、涂敷、溅射、蒸镀(例如电子束蒸发法)等多种成膜工艺中的任一种形成薄膜，然后将该薄膜图案化以形成包含至少一个图案的膜层，称之为图案层。图案化的步骤包括：涂覆光刻胶、曝光、显影、刻蚀和剥离光刻胶等。
[0108]
需要说明的是，为了保证能够形成如前所述的第一部分fp和第二部分sp相接触的第一电极131，显影后的光刻胶需要完全覆盖与第一部分fp对应的导电材料层部分，同时还会至少覆盖与凹槽gr的第一侧壁sd1相贴合的导电材料层部分(该导电材料层部分最终会形成第二部分sp)。从而只有当位于凹槽gr中的第二部分sp对应的导电材料层被完全消耗后，才会开始对第一部分fp对应的导电材料层进行刻蚀，具有较长的刻蚀路径。刻蚀路径沿中的部分沿显示面板的厚度方向延伸，有利于减小垂直于厚度方向需要预留的刻蚀余量，从而在降低第一部分fp被误刻蚀的风险的同时，有利于形成与预设的第一电极形状更接近、分布范围更小的第一电极131，第一电极131分布范围的减小能够提高显示面板的透过率，当远离显示面板出光面的一侧还设置有屏下摄像头时，前述的设置还有利于提升屏下摄像头的成像质量。
[0109]
s205、在形成有第一电极层130的衬底111上形成像素界定层。
[0110]
参见图14e，像素界定层120可以通过一次构图工艺形成，像素界定层120具有多个开口op，以及围绕各个开口op的挡墙，每个开口op与一个子像素相对应。与多个子像素的排布相对应，第一显示区aa1中开口op的密度，大于第二显示区aa2中开口op的密度，将位于第二显示区aa2中的开口op称为第一开口op1，将位于第一显示区aa1中的开口op称为第二开口op2。每个子像素的发光区域由开口op靠近衬底111的边沿所限定，有效发光区域的面积小于第一电极131的第一部分fp的面积。
[0111]
s206、在形成有像素界定层的衬底111上形成发光功能层。
[0112]
参见图14f，发光功能层el的材料选用及具体设置如前所述，发光功能层el可以采用蒸镀工艺或喷墨打印工艺形成。
[0113]
s207、在形成有发光功能层el的衬底111上形成第二电极层140。
[0114]
参见图14g，可以采用一次构图工艺形成第二电极层140，第二电极层140中包括相
耦接的多个第二电极141，多个第二电极141均位于第二显示区aa2中，任意相邻的两个第二电极141彼此不接触，至少一个(例如每个)第二电极141与一个第一开口op1对应设置。在设置有屏下摄像头的第二显示区aa2中，不整面设置第二电极141，而是设置多个彼此不接触的第二电极141，能够减小第二显示区aa2中第二电极141的总面积，使得第二显示区aa2对应的显示面板10部分具有较大的透过率，以保证屏下摄像头的成像效果。
[0115]
继续参见图14g，第二电极层140还可以包括位于第一显示区aa1中第三电极142，第三电极142与第一显示区aa1中的多个子像素p均对应。
[0116]
第二电极层140的材料例如可以为镁银合金。
[0117]
s208、在形成有第二电极层140的衬底111上形成辅助电极150。
[0118]
参见图14h，可以采用一次构图工艺形成辅助电极150，辅助电极150中的部分位于第二显示区aa2中，其余部分延伸至第一显示区aa1中与第三电极142搭接，辅助电极150与多个第二电极141均相接触。其中，第二电极层140的功函数低于辅助电极150的功函数，辅助电极150的透过率高于第二电极层140的透过率。辅助电极150上设置有多个开口，每个开口与一个第二电极141正对，每个第二电极141都与辅助电极150搭接。通过辅助电极150实现多个第二电极141的耦接，且能够使相耦接的多个第二电极141等效为一个导电整体，该导电整体的各处电压均相等，从而能够使得第一显示区aa1中的多个子像素p的发光亮度较为均一，有利于提升显示面板整体的图像显示效果。此外，由于辅助电极150的材料具有较高的透过率，从而能够在保证显示面板的显示画质的同时，使屏下摄像头接收到较多的入射光线，从而具有较好的成像效果。
[0119]
辅助电极150的材料例如可以为氧化铟锡或者铝掺杂氧化锌。
[0120]
参见图14i，上述显示面板的制备方法还可以包括在形成有辅助电极150的衬底上形成封装层160。
[0121]
由上述制备方法中制备得到各层的材料和形状、以及相互之间的位置关系均可以参考上述介绍显示面板的实施例，且能够产生相同的技术效果，在此不再赘述。
[0122]
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。