等离子清洗设备的制作方法

1.本发明涉及等离子清洗技术领域，特别涉及一种等离子清洗设备。


背景技术：

2.等离子清洗技术是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果，等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态，对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态，等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等，等离子清洗技术就是通过利用这些活性组分的性质来处理物料表面，从而实现清洁目的。
3.等离子清洗设备一般先对其腔体内抽真空，再通入某种气体，通过电离该气体，以产生等离子清洗腔体内的物料。现有的等离子清洗设备，由于存在多个进气口，每个进气口的进气量差别较大，容易导致通入的气体分布不够均匀，从而导致气体电离后形成的等离子体分布也不够均匀，进而导致物料的清洗不均匀，整体的清洗效果不佳。


技术实现要素：

4.本发明的主要目的是提供一种等离子清洗设备，旨在提高物料清洗的均匀性，以提升清洗效果。
5.为实现上述目的，本发明提出的等离子清洗设备，包括：
6.清洗箱，所述清洗箱内形成有腔体，所述清洗箱具有进气壁，所述进气壁的面向所述腔体的表面设有若干进气孔，所述进气壁上还形成有气体入口；和
7.若干气道管路，若干所述气道管路均集成在所述进气壁中；
8.其中，每一所述气道管路的一端与一所述进气孔连通设置，另一端与所述气体入口连通，若干所述气道管路的长度相同。
9.可选地，所述进气壁包括：
10.第一层壁板，所述第一层壁板设有若干所述进气孔；和
11.第二层壁板，所述第二层壁板设有凹槽，所述第一层壁板盖设于所述第二层壁板上，若干所述进气孔均连通于所述凹槽，所述第一层壁板的面向所述第二层壁板的表面封盖所述凹槽，以形成若干所述气道管路。
12.可选地，所述凹槽包括：
13.主槽道，所述主槽道的一端连通所述气体入口；
14.两上下对称的槽路区域，若干所述进气孔对称分布在两所述槽路区域上，且均与所述凹槽连通；以及
15.两第一连接槽道，每一所述第一连接槽道的一端连通所述主槽道的远离所述气体入口的一端，另一端连通于所述槽路区域，两所述第一连接槽道的长度相等。
16.可选地，所述槽路区域包括：
17.两左右对称的槽路单元，所述槽路区域上的进气孔对称分布在两所述槽路单元
上；和
18.两第二连接槽道，每一所述第二连接槽道的一端连通所述槽路单元，另一端连通所述第一连接槽道的远离所述主槽道的一端，两所述第二连接槽道的长度相等。
19.可选地，所述槽路单元包括：
20.两上下对称的直槽，所述槽路单元上的进气孔对称分布在两所述直槽；和
21.两第三连接槽道，每一所述第三连接槽道的一端连通所述直槽，另一端连通所述第二连接槽道的远离所述第二连接槽道的一端，两所述第三连接槽道的长度相等。
22.可选地，所述直槽沿左右方向布置，所述直槽的中间部位连通于所述第三连接槽道，所述直槽相背对的两端分别对应连通一所述进气孔。
23.可选地，所述第二层壁板还设有密封槽，所述密封槽环绕所述凹槽设置；
24.所述腔体的腔壁还包括密封条，所述密封条安装在所述凹槽内，所述第一层壁板挤压所述密封条，以密封所述气道管路。
25.可选地，所述清洗箱包括：
26.箱体，所述箱体内形成有所述腔体；和
27.门体，所述门体可开合地盖设于所述箱体，所述门体构成所述进气壁。
28.可选地，所述箱体设有对接孔，所述对接孔与所述气体入口相对设置，所述门体盖合于所述箱体时，所述对接孔与所述气体入口对接连通。
29.可选地，所述进气壁设有凸台，所述凸台朝向所述箱体的表面设有所述气体入口，所述凸台与所述对接孔相对设置，所述对接孔用于连通气源，所述门体盖合于所述箱体时，所述凸台插入所述对接孔内。
30.本发明技术方案等离子清洗设备包括清洗箱和若干气道管路，清洗箱内形成有腔体，清洗箱具有进气壁，进气壁的面向腔体的表面设有若干进气孔，进气壁上还形成有气体入口，若干气道管路均集成在进气壁中，通过每一气道管路的一端与一进气孔连通设置，另一端与气体入口连通，若干气道管路的长度相同，使气体从气体入口进入多个气道管路，经由多个气道管路输送到多个进气孔的路程相同，也即，多个进气孔共同使用同一个气体入口，由于每一进气孔对应一气道管路，若干所述气道管路的长度相同，那么，气体从气体入口到每一进气孔的路程相同，多个进气孔可以同时向腔体输入相同量的气体，实现多个进气孔的出气量相同，以使通入腔体的气体分布较为均匀，从而气体电离后形成的等离子体分布也较为均匀，进而可以提高物料清洗的均匀性，以提升清洗效果。
附图说明
31.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
32.图1为本发明等离子清洗设备一实施例的外观示意图；
33.图2为本实施例中等离子清洗设备的内部结构示意图；
34.图3为本实施例中等离子清洗设备的内部结构的爆炸图；
35.图4为本实施例中等离子清洗设备的内部结构另一视角的爆炸图；
36.图5为本实施例中第二层壁板的结构示意图；
37.图6为图5中a处的局部放大图；
38.图7为本实施例中第一层壁板的结构示意图。
39.附图标号说明：
40.标号名称标号名称1000等离子清洗设备100清洗箱100a腔体100b气道管路10箱体10a对接孔30门体31进气壁31a进气孔31b气体入口311第一层壁板313第二层壁板33凹槽331主槽道333槽路区域3331槽路单元3331a直槽3331b第三连接槽道3333第二连接槽道335第一连接槽道35密封槽
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41.本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
42.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
43.需要说明，本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
44.另外，在本发明中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。
45.等离子清洗设备一般先对其腔体内抽真空，再通入某种气体，通过电离该气体，以产生等离子清洗腔体内的物料。现有的等离子清洗设备，由于存在多个进气口，每个进气口的进气量差别较大，容易导致通入的气体分布不够均匀，从而导致气体电离后形成的等离子体分布也不够均匀，进而导致物料的清洗不均匀，整体的清洗效果不佳。
46.针对上述技术问题，本发明提出一种等离子清洗设备，旨在提高物料清洗的均匀性，以提升清洗效果。
47.下面将在具体实施例中对本发明提出的壳体结构的具体结构进行说明：
48.如图1至图5所示，在本发明一实施例中，该等离子清洗设备1000包括清洗箱100和若干气道管路100b，清洗箱100内形成有腔体100a，清洗箱100具有进气壁31，进气壁31的面向腔体100a的表面设有若干进气孔31a，进气壁31上还形成有气体入口31b。若干气道管路100b均集成在进气壁31中。其中，每一气道管路100b的一端与一进气孔31a连通设置，另一端与气体入口31b连通，若干气道管路100b的长度相同。
49.可以理解地，本实施例的技术方案，通过每一气道管路100b的一端与一进气孔31a连通设置，另一端与气体入口31b连通，若干气道管路100b的长度相同，使气体从气体入口31b进入多个气道管路100b，经由多个气道管路100b输送到多个进气孔31a的路程相同，也即，多个进气孔31a共同使用同一个气体入口31b，由于每一进气孔31a对应一气道管路100b，若干气道管路100b的长度相同，那么，气体从气体入口31b到每一进气孔31a的路程相同，多个进气孔31a可以同时向腔体100a输入相同量的气体，实现多个进气孔31a的出气量相同，以使通入腔体100a的气体分布较为均匀，从而气体电离后形成的等离子体分布也较为均匀，进而可以提高物料清洗的均匀性，以提升清洗效果。
50.并且，对于只设有进气孔而没有考虑多个进气孔的出气量的等离子清洗机，虽然也能起到清洗物料的效果，但是，容易导致等离子体在腔体内分布不够均匀，造成物料的清洗不均匀，整体的清洗效果不佳，延长等离子清洗机的清洗时间，可以改善问题，但又会耗费较高的能量，成本高，且效率低。与上述等离子清洗机对比，本实施例的技术方案等离子清洗设备1000，可以提高物料清洗的均匀性，以提升清洗效果，节约成本，提高清洗效率。
51.需要说明的是，等离子清洗设备1000，也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。等离子清洗设备1000的清洗原理是，在真空腔体100a里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的。气体可以为氧、氩、氢等工作气体，具体在本实施例中为氩气。由于等离子清洗为现有技术，故在此不再赘述。
52.实际应用中，箱体10的内壁通过电线接地，并在腔体100a内设置阴极架，箱体10的内壁通过电线接地，使箱体10的内壁呈正极。阴极架通过铜板电性连接电源的负极，使阴极架呈负极，从而让阴极架与箱体10的内壁之间形成电场，以电离输入的气体形成等离子体。
53.此外，进气壁31可以是多层壁板组合形成，其中一侧壁板设有凹槽，另一层壁板贴合在带有凹槽的壁板上，从而形成气道管路100b；进气壁31也可以是单层壁板，这种壁板具有一定厚度，通过在壁板的侧壁上钻孔，以形成分布在壁板内部的气道管路100b；进气壁还可以是其他形式的，同样的，气道管路100b也可以是其他形式的。需要说明的是，多条气道管路100b可以是多条气道管路100b各自相互独立的；也可以是多条气道管路100b的部分共同使用一条主管路，即一条主管路的一端分成多条支管路，主管路背离支管路的一端连通气体入口31b，每一主管路背离主管路的一端连通进气孔31a。
54.进气孔31a可以设置2个、3个、4个、5个、6个等，具体可以根据实际应用场景的需求进行合理设置。同样的，气道管路100b可以设置2条、3条、4条、5条、6条等，具体可以根据实
际应用场景的需求进行合理设置。
55.如图3至图5所示，在本发明一实施例中，进气壁31包括第一层壁板311和第二层壁板313，第一层壁板311设有若干进气孔31a。第二层壁板313设有凹槽33，第一层壁板311盖设于第二层壁板313上，若干进气孔31a均连通于凹槽33，第一层壁板的面向第二层壁板313的表面封盖凹槽33，以形成若干气道管路100b。
56.可以理解地，在本实施例的设计下，通过第二层壁板313设有凹槽33，第一层壁板311的一表面贴合与第二层壁板313设有凹槽33的表面，从而凹槽33与第一层壁板的表面围合形成若干气道管路100b。如此设置，凹槽33加工简单，并且，加工凹槽33的长度容易控制，节约成本，且可以提高精确度，从而能够保障若干气道管路100b的长度相同。
57.需要说明的是，凹槽33可以是方形槽，也可以是u型槽，还可以是其他形式的槽。
58.如图5至图7所示，在本发明一实施例中，凹槽33包括主槽道331、两上下对称的槽路区域333以及两第一连接槽道335，主槽道331的一端连通气体入口31b。若干进气孔31a对称分布在两槽路区域333上，且均与凹槽33连通。每一第一连接槽道335的一端连通主槽道331的远离气体入口31b的一端，另一端连通于槽路区域333，两第一连接槽道335的长度相等。
59.可以理解地，在本实施例的设计下，通过两槽路区域333上下对称设置，并且两槽路区域333共用同一条主槽道331，两槽路区域333分别由一条第一连接槽道335连通到主槽道331的同一端，主槽道331的另一端形成气体入口31b，从而气体从气体入口31b流到主槽道331的另一端的路程是相同的，又由于两第一连接槽道335的长度相等，从而气体分流后，分别流至两槽路区域333的路程也相同，从而可以同时向两槽路区域333输入相同量的气体，实现与槽路区域333连通的多个进气孔31a的出气量相同，从而使通入腔体100a的气体分布较为均匀，从而气体电离后形成的等离子体分布也较为均匀，进而可以提高物料清洗的均匀性，以提升清洗效果。并且，两槽路区域333上下对称设置，从而多个进气孔31a整体上也呈上下对称设置，以让多个进气孔31a尽可能均匀布置，从而进一步使通入腔体100a的气体分布更加均匀，进而可以进一步提高物料清洗的均匀性，进一步提升清洗效果。
60.需要说明的是，两槽路区域333是在第二层壁板313上刻出的凹槽33除去主槽道331和第二连接槽道3333外，形成的图案结构。该图案结构分为上下两部分，上部分为一槽路区域333，下部分为另一槽路区域333。
61.如图5至图7所示，在本发明一实施例中，左右对称设置是指在水平方向上，对称于垂直水平方向的竖直平面设置。槽路区域333包括两左右对称的槽路单元3331和两第二连接槽道3333，槽路区域333上的进气孔31a对称分布在两槽路单元3331上。每一第二连接槽道3333的一端连通槽路单元3331，另一端连通第一连接槽道335的远离主槽道331的一端，两第二连接槽道3333的长度相等。
62.可以理解地，在本实施例的设计下，通过两槽路单元3331左右对称设置，并且两槽路单元3331共用同一第一连接槽道335，两槽路单元3331各自由一条第二连接槽道3333连通到一条第一连接槽道335的同一端，第一连接槽道335的另一端连接主槽道331，从而气体流过第一连接槽道335的路程是相同的，又由于两第二连接槽道3333的长度相等，从而气体分流后，分别流至两槽路单元3331的路程也相同，从而可以同时向两槽路单元3331输入相同量的气体，实现与槽路单元3331连通的多个进气孔31a的出气量相同，从而使通入腔体
100a的气体分布较为均匀，从而气体电离后形成的等离子体分布也较为均匀，进而可以提高物料清洗的均匀性，以提升清洗效果。并且，两槽路单元3331左右对称设置，从而同一槽路区域333的多个进气孔31a也呈左右对称设置，以让该多个进气孔31a在该槽路区域333中尽可能均匀布置，从而进一步使通入腔体100a的气体分布更加均匀，进而可以进一步提高物料清洗的均匀性，进一步提升清洗效果。
63.需要说明的是，两槽路单元3331是一槽路区域333除去第二连接槽道3333外的图案结构。该部分图案结构分为左右两部分，左部分为一槽路单元3331，右部分为另一槽路单元3331。
64.如图5至图7所示，在本发明一实施例中，上下对称设置是指在竖直方向上，对称于垂直竖直方向的水平面设置。槽路单元3331包括两上下对称的直槽3331a和两第三连接槽道3331b，槽路单元3331上的进气孔31a对称分布在两直槽3331a。每一第三连接槽道3331b的一端连通直槽3331a，另一端连通第二连接槽道3333的远离第二连接槽道3333的一端，两第三连接槽道3331b的长度相等。
65.可以理解地，在本实施例的设计下，通过两直槽3331a上下对称设置，并且两直槽3331a共用同一第二连接槽道3333，两直槽3331a各自由一条第三连接槽道3331b连通到一条第二连接槽道3333的同一端，第二连接槽道3333的另一端连接第一连接槽道335，从而气体流过第二连接槽道3333的路程是相同的，又由于两第三连接槽道3331b的长度相等，从而气体分流后，分别流至两直槽3331a的路程也相同，从而可以同时向两直槽3331a输入相同量的气体，实现与直槽3331a连通的多个进气孔31a的出气量相同，从而使通入腔体100a的气体分布较为均匀，从而气体电离后形成的等离子体分布也较为均匀，进而可以提高物料清洗的均匀性，以提升清洗效果。并且，两直槽3331a上下对称设置，从而同一槽路单元3331的多个进气孔31a也呈上下对称设置，以让该多个进气孔31a在该槽路单元3331中尽可能均匀布置，从而进一步使通入腔体100a的气体分布更加均匀，进而可以进一步提高物料清洗的均匀性，进一步提升清洗效果。
66.需要说明的是，两直槽3331a是一槽路单元3331除去第三连接槽道3331b外的图案结构。该部分图案结构分为上下两部分，上部分为一直槽3331a，下部分为另一直槽3331a。
67.如图5至图7所示，在本发明一实施例中，直槽3331a沿左右方向布置，直槽3331a的中间部位连通于第三连接槽道3331b，直槽3331a相背对的两端分别对应连通一进气孔31a。
68.可以理解地，在本实施例的设计下，通过直槽3331a左右对称设置，并且直槽3331a的中间部位连通于同一第三连接槽道3331b，也即直槽3331a的两端到其中间部位的长度相等，从而气体在中间部位分流后，分别流至直槽3331a的两端的路程也相同，从而可以同时向直槽3331a的两端输入相同量的气体，实现同一直槽3331a上的两个进气孔31a的出气量相同，从而使通入腔体100a的气体分布较为均匀，从而气体电离后形成的等离子体分布也较为均匀，进而可以提高物料清洗的均匀性，以提升清洗效果。并且，直槽3331a左右对称设置，从而同一直槽3331a上的两个进气孔31a也呈左右对称设置，以让两个进气孔31a连通于直槽3331a的两端，从而进一步使通入腔体100a的气体分布更加均匀，进而可以进一步提高物料清洗的均匀性，进一步提升清洗效果。
69.如图4和图6所示，在本发明一实施例中，第二层壁板313还设有密封槽35，密封槽35环绕凹槽33设置。腔体100a的腔壁还包括密封条，密封条安装在凹槽33内，第一层壁板
311挤压密封条，以密封气道管路100b。
70.可以理解地，在本实施例的设计下，通过密封槽35环绕凹槽33设置，密封条安装在凹槽33内，第一层壁板311挤压密封条，密封条发生形变产生弹性力，使密封条紧贴着第一层壁板311的表面和密封槽35的槽底，从而密封气道管路100b。如此设置，不仅结构简单，密封可靠，而且第一层壁板与第二壁板之间固定越牢固，密封效果越好，可以提升气道管路100b的气密性。
71.如图2至图4所示，在本发明一实施例中，清洗箱100包括箱体10和门体30，箱体10内形成有腔体100a。门体30可开合地盖设于箱体10，门体30构成进气壁31。
72.可以理解地，在本实施例的设计下，箱体10的腔体100a朝向门体30的一腔壁上设有抽气孔，抽气孔用于抽出腔体100a内的气体，制造真空环境。门体30构成进气壁31，可以与抽气孔相对设置，以便于进气孔31a输入的气体更好分散于腔体100a中。具体地，门体30的一侧边转动连接于箱体10，从而门体30可开合地盖设于箱体10，门体30与箱体10围合形成腔体100a，设计门体30，可以便于物料的放入。
73.如图2至图5所示，在本发明一实施例中，箱体10设有对接孔10a，对接孔10a与气体入口31b相对设置，门体30盖合于箱体10时，对接孔10a与气体入口31b对接连通。
74.可以理解地，在本实施例的设计下，通过箱体10设有对接孔10a，对接孔10a与气体入口31b相对设置，门体30盖合于箱体10时，对接孔10a与气体入口31b对接连通，对接孔10a连通气源，从而让气源中的气体，经由对接孔10a输入气体入口31b中。如此设置，不仅结构简单，稳定可靠，而且由于气体入口31b会随门体30的开合改变位置，通过箱体10的对接孔10a与门体30的气体入口31b对接连通的方式，可以避免接到气体入口31b的管线随着门体30运动，优化了整个等离子清洗设备1000的空间布置，使得整个等离子清洗设备1000更加可靠、美观。
75.如图2至图5所示，在本发明一实施例中，进气壁31设有凸台(未标示)，凸台朝向箱体10的表面设有气体入口31b，凸台与对接孔10a相对设置，对接孔10a用于连通气源，门体30盖合于箱体10时，凸台插入对接孔10a内。
76.可以理解地，在本实施例的设计下，通过凸台与对接孔10a相对设置，门体30盖合于箱体10时，凸台插入对接孔10a内，以使气体入口31b处于对接孔10a内，从而可以提高气密性，并且方便对接孔10a与气体入口31b准确对接。具体地，对接孔10a朝向门体30的一端可以设置密封圈，门体30盖合于箱体10时，凸台插入密封圈中而进入对接孔10a内，从而进一步提高气密性，防止漏气。
77.以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的发明构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。