天线构件和用于处理基板的设备的制作方法

本文描述的本发明构思的实施例涉及一种使用等离子体的基板处理设备和一种设置在所述基板处理设备中的天线构件。

背景技术：

1、使用等离子体在基板上执行沉积、蚀刻、清洗等。使用等离子体的基板处理设备包括使用电场产生等离子体的ccp型和使用电磁场产生等离子体的icp型。icp型的设备使用天线构件作为等离子体源。icp型装置的设备通过使电流流向天线构件来产生电磁场。

2、根据常规的天线构件，施加到天线构件的电位成为不需要的ccp源，对诸如窗口的装置的配置造成损坏(在下文中，这种损坏被称为“ccp损坏”)。由于天线构件的具有高电位的部分更靠近窗口设置，ccp损坏更大，并且产生的电场分布不对称，因此等离子体均匀性差。为了解决这个问题，天线构件沿上下方向缠绕，并且高电位置于顶层，低电位置于底层，但是形成顶层和底层的结构不利于产生高密度等离子体，并且电压的分配有限制。

技术实现思路

1、本发明构思的实施例提供一种天线构件和一种包括所述天线构件的基板处理设备，用于通过增加绕组的数量来获得高密度等离子体。

2、本发明构思的实施例提供一种天线构件和一种包括所述天线构件的基板处理设备，用于减少施加到窗口的ccp损坏，因为可以有效地执行电压分配。

3、本发明构思的实施例提供一种天线构件和一种包括所述天线构件的基板处理设备，用于对称地分配电压，同时与常规天线构件相比增加了绕组的数量。

4、本发明构思的技术目的不限于上述目的，并且根据以下描述，其他未提及的技术目的对于本领域技术人员而言将变得显而易见。

5、本发明构思提供一种天线构件。所述天线构件包括彼此旋转对称的第一线圈和第二线圈，并且其中第一线圈包括施加以电流的第一电源端子和连接到地的第一接地端子，第二线圈包括施加以电流的第二电源端子和连接到地的第二接地端子，并且其中第一线圈和第二线圈各自包括具有弧形的第一部分和具有弧形的第二部分，所述第一部分和所述第二部分作为整体形成一圈绕组，并且当从侧面观察时，第二部分相对于第一部分具有较低的高度，并且第二线圈的第二部分定位在第一线圈的第一部分的下方，并且第一线圈的第二部分定位在第二线圈的第一部分的下方。

6、在一个实施例中，旋转对称是180°对称。

7、在一个实施例中，第一部分和第二部分的圆心角是180°

8、在一个实施例中，第一电源端子和第二电源端子均设置在第一部分处。

9、在一个实施例中，在第一线圈和第二线圈中的每一者处，如果第二部分从第一部分延伸的部分基于0°，则第一电源端子和第二电源端子均在相对于所述0°为90°的位置处设置到第一部分。

10、在一个实施例中，第一线圈和第二线圈各自包括缠绕一圈的第一线圈部和缠绕一圈的第二线圈部，并且其中第一线圈部和第二线圈部都包括第一部分和第二部分，当从侧面观察时，第二部分相对于第一部分具有较低的高度。

11、在一个实施例中，第二线圈部设置在第一线圈部的上下方向的下方。

12、在一个实施例中，第二线圈部设置在第一线圈部的径向方向的外侧。

13、在一个实施例中，第一电源端子和第一接地端子彼此相邻地设置，并且第二电源端子和第二接地端子彼此相邻地设置。

14、在一个实施例中，天线构件还包括可变电容器，所述可变电容器连接到第一接地端子和第二接地端子中的每一个。

15、本发明构思提供一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：腔室，所述腔室提供处理空间；卡盘构件，所述卡盘构件设置在处理空间处并且支撑基板；窗口，所述窗口定位在卡盘构件的上方；以及天线构件，所述天线构件定位在所述窗口的上方，并且其中所述天线构件包括彼此旋转对称的第一线圈和第二线圈，并且其中第一线圈包括施加以电流的第一电源端子和连接到地的第一接地端子，第二线圈包括施加以电流的第二电源端子和连接到地的第二接地端子，并且其中第一线圈和第二线圈各自包括具有弧形的第一部分和具有弧形的第二部分，所述第一部分和所述第二部分作为整体形成一圈绕组，并且当从侧面观察时，第二部分相对于第一部分具有较低的高度，并且第二线圈的第二部分定位在第一线圈的第一部分的下方，并且第一线圈的第二部分定位在第二线圈的第一部分的下方。

16、在一个实施例中，旋转对称是180°对称。

17、在一个实施例中，第一部分和第二部分的圆心角是180°

18、在一个实施例中，第一电源端子和第二电源端子均设置在第一部分处。

19、在一个实施例中，在第一线圈和第二线圈中的每一者处，如果第二部分从第一部分延伸的部分基于0°，则第一电源端子和第二电源端子均在相对于所述0°为90°的位置处设置到第一部分。

20、在一个实施例中，第一线圈和第二线圈各自包括缠绕一圈的第一线圈部和缠绕一圈的第二线圈部，并且其中第一线圈部和第二线圈部包括第一部分和第二部分，当从侧面观察时，第二部分相对于第一部分具有较低的高度。

21、在一个实施例中，第二线圈部设置在第一线圈部的上下方向的下方。

22、在一个实施例中，第二线圈部设置在第一线圈部的径向方向的外侧。

23、在一个实施例中，基板处理设备还包括可变电容器，所述可变电容器连接到第一接地端子和第二接地端子中的每一个。

24、本发明构思提供一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：腔室，所述腔室具有处理空间；卡盘构件，所述卡盘构件设置在处理空间处并且支撑基板；窗口，所述窗口定位在卡盘构件的上方；气体供应部，所述气体供应部用于向所述处理空间供应用于处理基板的源气体；天线构件，所述天线构件定位在窗口的上方；以及电源单元，所述电源单元用于向所述天线构件供电，并且其中所述天线构件包括旋转对称的第一线圈和第二线圈，并且其中第一线圈和第二线圈各自包括缠绕一圈的第一部分和缠绕一圈的第二部分，并且第一线圈部和第二线圈部包括第一部分和第二部分，当从侧面观察时，所述第二部分相对于所述第一部分具有较低的高度，所述第一部分和所述第二部分具有弧形，并作为整体形成一圈绕组，并且所述第一部分和所述第二部分的圆心角是180°，并且其中所述第一线圈包括施加以电流的第一电源端子和连接到地的第一接地端子，并且所述第二线圈包括施加以电流的第二电源端子和连接到地的第二接地端子，并且所述第二线圈的第二部分设置在所述第一线圈的第一部分的下方，所述第一线圈的第二部分设置在所述第二线圈的第一部分的下方，并且所述第一电源端子和所述第二电源端子均设置在所述第一线圈部的第一部分处。

25、根据本发明构思的实施例，可以通过增加绕组数量获得高密度等离子体。

26、根据本发明构思的实施例，由于可以有效地执行电压分配，可以减少施加到窗口的ccp损坏。

27、根据本发明构思的实施例，可以对称地分配电压，同时与常规相比增加绕组的数量。

28、本发明构思的效果不限于上述效果，并且根据以下描述，其他未提及的效果对于本领域技术人员而言将变得显而易见。