进行基板的输送的装置和输送基板的方法与流程

本公开涉及进行基板的输送的装置和输送基板的方法。

背景技术：

1、例如，在对作为基板的半导体晶圆(以下，也称为“晶圆”)实施处理的装置(晶圆处理装置)中，在容纳晶圆的载体和执行处理的晶圆处理室之间进行晶圆的输送。在输送晶圆时，利用各种结构的晶圆输送机构。

2、申请人对使用利用了磁悬浮的基板输送模块来进行基板的输送的晶圆处理装置进行开发。

3、另一方面，在晶圆处理装置内进行晶圆的输送的空间中，存在微量由于晶圆和设备或设备彼此的接触而产生的微粒、处理晶圆时使用的化学物质等各种污染物质。若这些污染物质附着、累积于基板输送模块，则成为污染作为输送对象的晶圆的主要原因。

4、例如，在专利文献1记载有以下技术：在减压处理装置内，使构成用于载置被处理基板的载物台等的构件的温度上升，通过热应力和热泳力而使细颗粒飞散。另一方面，在专利文献1未记载针对利用了磁悬浮的基板输送模块的污染的应对方法。

5、现有技术文献

6、专利文献

7、专利文献1：日本特开2005-101539号公报

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、本公开提供使利用磁悬浮输送基板的基板输送模块洁净化的技术。

3、用于解决问题的方案

4、本公开是一种进行基板的输送的装置，其相对于进行基板的处理的基板处理室进行基板的输送，其中，

5、该进行基板的输送的装置具备：

6、基板输送室，其具有：地面部，其设有第1磁体；和侧壁部，其形成有开口部，该开口部与所述基板处理室连接，用于在与该基板处理室之间进行基板的送入送出；

7、基板输送模块，其包括：基板保持部，其保持所述基板；和第2磁体，其在与所述第1磁体之间作用有反作用力，该基板输送模块构成为能够通过使用了所述反作用力的磁悬浮而在所述基板输送室内移动；以及

8、加热部，其对所述基板输送模块进行加热，以使在该基板输送模块的表面附着的污染物质放出。

9、发明的效果

10、根据本公开，能够使利用磁悬浮输送基板的基板输送模块洁净化。

技术特征：

1.一种进行基板的输送的装置，其相对于进行基板的处理的基板处理室进行基板的输送，其中，

2.根据权利要求1所述的进行基板的输送的装置，其中，

3.根据权利要求1所述的进行基板的输送的装置，其中，

4.根据权利要求1所述的进行基板的输送的装置，其中，

5.根据权利要求4所述的进行基板的输送的装置，其中，

6.根据权利要求1所述的进行基板的输送的装置，其中，

7.根据权利要求1～3、6中任一项所述的进行基板的输送的装置，其中，

8.根据权利要求7所述的进行基板的输送的装置，其中，

9.根据权利要求1～8中任一项所述的进行基板的输送的装置，其中，

10.根据权利要求9所述的进行基板的输送的装置，其中，

11.根据权利要求9所述的进行基板的输送的装置，其中，

12.根据权利要求1～11中任一项所述的进行基板的输送的装置，其中，

13.根据权利要求1～11中任一项所述的进行基板的输送的装置，其中，

14.根据权利要求13所述的进行基板的输送的装置，其中，

15.根据权利要求13所述的进行基板的输送的装置，其中，

16.根据权利要求1～15中任一项所述的进行基板的输送的装置，其中，

17.一种输送基板的方法，其是在基板处理室内输送基板的方法，其中，

技术总结
本发明涉及进行基板的输送的装置和输送基板的方法。提供一种使利用磁悬浮输送基板的基板输送模块洁净化的技术。在相对于进行基板的处理的基板处理室进行基板的输送的装置中，基板输送室具有：地面部，其设有第1磁体；和侧壁部，其形成有开口部，该开口部与所述基板处理室连接。基板输送模块具备基板保持部和第2磁体，构成为能够通过使用了在与第1磁体之间作用的反作用力的磁悬浮而在基板输送室内移动。加热部对基板输送模块进行加热，以使在该基板输送模块的表面附着的污染物质放出。

技术研发人员：松本航
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/12