一种湿处理基板腔室的制作方法

本发明涉及半导体湿制程工艺设备，具体地说是一种湿处理基板腔室。

背景技术：

1、在半导体湿制程领域，随着工艺的更新与发展，对于设备的工艺腔室的结构有更多的功能需求。而现有的工艺腔室仅简单提供加工空间，不能很好地适应目前工艺的高要求，使用稳定性较差。

技术实现思路

1、针对上述问题，本发明的目的在于提供一种湿处理基板腔室。

2、本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：

3、一种湿处理基板腔室，包括腔室主体、气体过滤装置及用于检测所述腔室主体内部气体压力的压力传感器；

4、所述腔室主体具有进气口及排气口，所述气体过滤装置具有进风口及出风口，所述气体过滤装置安装于所述腔室主体上，且所述气体过滤装置的出风口与所述腔室主体的进气口相连通，所述气体过滤装置的进风口设置有进风动力源，所述进风动力源及所述压力传感器分别与外接控制器连接。

5、所述气体过滤装置包括气体过滤壳体、整流板a及滤芯；

6、所述气体过滤装置的出风口开设于所述气体过滤壳体的底面上，所述气体过滤装置的进风口开设于所述气体过滤壳体的一侧面上，所述整流板a安装于所述气体过滤壳体的内腔中、并将所述气体过滤壳体的内腔分隔成整流前空间及整流后空间两个空间，所述整流前空间与所述气体过滤装置的进风口相连通，所述整流后空间与所述气体过滤装置的出风口相连通，所述滤芯安装于所述气体过滤壳体内腔的整流后空间中，所述整流板a上开设有若干个整流孔；

7、外界环境气体通过所述气体过滤装置的进风口上的进风动力源被输入至所述气体过滤壳体内腔的整流前空间，所述整流前空间中的气体穿过所述整流板a的整流孔进入至所述气体过滤壳体内腔的整流后空间中，所述整流后空间中的气体经过所述滤芯并被滤芯过滤、之后从所述气体过滤装置的出风口流入所述腔室主体中。

8、所述气体过滤装置出风口外侧的气体过滤壳体底面上设有密封件a，所述密封件a被夹在所述气体过滤壳体底面与腔室主体外表面之间。

9、所述腔室主体包括腔室主体箱体及腔室主体顶板，所述腔室主体箱体的顶端开口，所述腔室主体顶板安装于所述腔室主体箱体的顶端、并封闭所述腔室主体箱体的顶端开口，所述腔室主体的排气口开设于所述腔室主体箱体的底部，所述腔室主体的进气口开设于所述腔室主体顶板上，且所述气体过滤装置安装于所述腔室主体顶板的顶面上，所述腔室主体箱体的内侧安装有整流板b。

10、所述腔室主体顶板采用透明的耐化学腐蚀的工程塑料材料制成。

11、所述腔室主体顶板上设有用于对所述腔室主体箱体内部照明的照明装置，所述照明装置与外接控制器连接。

12、所述腔室主体顶板上设有用于对所述腔室主体箱体内部进行视频监控的视频监控装置，所述视频监控装置与外接控制器连接。

13、所述腔室主体箱体的后侧面上开设有观察窗口，所述观察窗口上安装有观察窗板；

14、所述腔室主体箱体外周面上开设有若干个检修口，每个所述检修口上均安装有检修挡板；

15、所述观察窗板与腔室主体箱体后侧面之间及每个所述检修挡板与所述腔室主体箱体外周面之间均设有密封件b。

16、所述腔室主体箱体的前侧面上开设有基板通过窗口，所述腔室主体箱体的前侧面上与所述基板通过窗口对应处设有自动开关门装置；

17、所述自动开关门装置包括门板、门板驱动件及导向框架，所述门板驱动件安装于所述腔室主体箱体的前侧面上、并与所述门板连接，所述导向框架安装于所述基板通过窗口外周的所述腔室主体箱体的前侧面上；

18、所述门板驱动件驱动所述门板在所述导向框架内侧滑动、并使所述门板封闭或开启所述基板通过窗口；

19、所述门板靠近所述腔室主体箱体前侧面的侧面上设有密封件c。

20、所述自动开关门装置还包括静电消除器，所述静电消除器安装于所述腔室主体箱体前侧面上靠近所述基板通过窗口的位置。

21、本发明的优点与积极效果为：

22、1.本发明通过压力传感器、外接控制器与气体过滤装置配合设置，可实现腔室主体内压力按需求自动调节，从而确保腔室主体内压力可控，进而保障了工艺稳定性。

23、2.本发明通过气体过滤装置的设置，可在实现正常对腔室主体供气的功能的基础上，充分对进入气体过滤壳体的外界环境空气进行过滤，避免环境中化学气体通过气体过滤装置进入腔室主体污染基板，进一步保证半导体湿制程工艺的稳定性，同时也可避免腔室主体内气体从气体过滤装置挥发至腔室主体外腐蚀其它区域。

24、3.本发明通过透明的腔室主体顶板及观察窗板便于直接观察腔室主体箱体内部状况，照明装置可对腔室主体箱体内部提供充足光照，并还可通过设置的视频监控装置对腔室主体箱体内部进行视频监控，通过拆下检修口的检修挡板进行检修维护，使用更加可靠方便。

25、4.本发明通过自动开关门装置的设置，可实现自动控制基板通过窗口的开启与封闭，并可通过静电消除器消除或平衡自动开关门装置静电，以及当基板通过基板通过窗口时消除或平衡基板表面静电。

技术特征：

1.一种湿处理基板腔室，其特征在于：包括腔室主体(1)、气体过滤装置(2)及用于检测所述腔室主体(1)内部气体压力的压力传感器；

2.根据权利要求1所述的一种湿处理基板腔室，其特征在于：所述气体过滤装置(2)包括气体过滤壳体(202)、整流板a(203)及滤芯(204)；

3.根据权利要求2所述的一种湿处理基板腔室，其特征在于：所述气体过滤装置(2)出风口外侧的气体过滤壳体(202)底面上设有密封件a(205)，所述密封件a(205)被夹在所述气体过滤壳体(202)底面与腔室主体(1)外表面之间。

4.根据权利要求1所述的一种湿处理基板腔室，其特征在于：所述腔室主体(1)包括腔室主体箱体(101)及腔室主体顶板(102)，所述腔室主体箱体(101)的顶端开口，所述腔室主体顶板(102)安装于所述腔室主体箱体(101)的顶端、并封闭所述腔室主体箱体(101)的顶端开口，所述腔室主体(1)的排气口开设于所述腔室主体箱体(101)的底部，所述腔室主体(1)的进气口开设于所述腔室主体顶板(102)上，且所述气体过滤装置(2)安装于所述腔室主体顶板(102)的顶面上，所述腔室主体箱体(101)的内侧安装有整流板b(103)。

5.根据权利要求4所述的一种湿处理基板腔室，其特征在于：所述腔室主体顶板(102)采用透明的耐化学腐蚀的工程塑料材料制成。

6.根据权利要求5所述的一种湿处理基板腔室，其特征在于：所述腔室主体顶板(102)上设有用于对所述腔室主体箱体(101)内部照明的照明装置(3)，所述照明装置(3)与外接控制器连接。

7.根据权利要求5所述的一种湿处理基板腔室，其特征在于：所述腔室主体顶板(102)上设有用于对所述腔室主体箱体(101)内部进行视频监控的视频监控装置(4)，所述视频监控装置(4)与外接控制器连接。

8.根据权利要求4所述的一种湿处理基板腔室，其特征在于：所述腔室主体箱体(101)的后侧面上开设有观察窗口，所述观察窗口上安装有观察窗板(5)；

9.根据权利要求4所述的一种湿处理基板腔室，其特征在于：所述腔室主体箱体(101)的前侧面上开设有基板通过窗口，所述腔室主体箱体(101)的前侧面上与所述基板通过窗口对应处设有自动开关门装置(8)；

10.根据权利要求9所述的一种湿处理基板腔室，其特征在于：所述自动开关门装置(8)还包括静电消除器(805)，所述静电消除器(805)安装于所述腔室主体箱体(101)前侧面上靠近所述基板通过窗口的位置。

技术总结
本发明涉及半导体湿制程工艺设备技术领域，具体地说是一种湿处理基板腔室，包括腔室主体、气体过滤装置及用于检测腔室主体内部气体压力的压力传感器，还包括照明装置、视频监控装置及自动开关门装置。本发明通过压力传感器、外接控制器与气体过滤装置配合设置，可实现腔室主体内压力按需求自动调节，从而确保腔室主体内压力可控，进而保障了工艺稳定性；通过气体过滤装置的设置，可在实现正常对腔室主体供气的功能的基础上，充分对进入气体过滤壳体的外界环境空气进行过滤；通过自动开关门装置的设置，可实现自动控制基板通过窗口的开启与封闭。本发明能够更好地适应目前半导体湿制程工艺的高要求，使用稳定性高。

技术研发人员：王本义,刘迟,于宏嘉
受保护的技术使用者：沈阳芯源微电子设备股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/12