母端口及具有母端口的用于处理基板的装置的制作方法

本发明涉及一种用于处理基板的装置，更具体地，涉及一种包括母端口的用于处理基板的装置。

背景技术：

1、为了制造半导体装置或平板显示面板，需要执行各种工艺，包括光刻工艺、蚀刻工艺、灰化工艺、薄膜沉积工艺和清洁工艺。在这些工艺中的光刻工艺中，依次进行通过在半导体基板上供应光刻胶而在基板表面上形成涂层的涂覆工艺、通过使用掩模板对形成的涂层进行曝光处理的曝光工艺、以及通过供应显影液体而在半导体基板上获得期望图案的显影工艺。

2、在执行光刻工艺的过程中，在设备中可能产生静电。例如，在半导体基板上喷射光刻胶的过程中可能发生喷射充电(ejection charging)。更具体地，在将光刻胶供应到半导体基板上的过程中，光刻胶可以对半导体基板、支承半导体基板的支承单元以及覆盖支承单元的处理容器充电。带电物体通过电吸引微粒产生感应静电，并且感应静电通过再次吸引微粒而导致半导体基板的缺陷。此外，感应静电导致静电放电，从而损坏形成在高集成度半导体基板上的微型薄膜和电路。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种母端口以及一种具有母端口的用于处理基板的装置，该装置能够有效地处理基板。

2、此外，本发明的目的在于提供一种母端口以及一种具有母端口的用于处理基板的装置，该装置能够监测在喷射液体时产生的静电。

3、本发明所要解决的问题不限于上述问题，并且本领域技术人员将从本说明书和附图中清楚地理解未提及的问题。

4、本发明的示例性实施方式提供一种用于处理基板的装置。根据示例性实施方式的该基板处理装置可以包括：支承单元，该支承单元支承基板；处理容器，该处理容器覆盖该支承单元的外侧；液体供应单元，该液体供应单元包括将液体喷射到支承在该支承单元上的该基板的喷嘴；以及母端口，该母端口定位在该处理容器的外部，该喷嘴在该母端口中等待。该母端口可以包括具有排出空间的本体，从该喷嘴喷射的液体排出至该排出空间；以及连测量单元，该测量单元连接至该本体，并测量从该排出空间排出的液体的充电量。

5、根据示例性实施方式，在该本体的上部可以形成有主孔，从该喷嘴喷射的该液体穿过该主孔。该母端口还包括分隔板，该分隔板将该排出空间分隔成与该主孔连通的第一空间和与该第一空间连通的第二空间。

6、根据示例性实施方式，该分隔板可以被设置成沿从该喷嘴排出的液体的下落方向倾斜。

7、根据示例性实施方式，在该分隔板中形成有使该第一空间与该第二空间彼此连通的开口，并且该开口形成在从该喷嘴喷射的液体的液体落点的下方。

8、根据示例性实施方式，该开口可以形成为狭缝形状。

9、根据示例性实施方式，该开口可以为穿透该分隔板的至少一个孔。

10、根据示例性实施方式，排出被引入至该第一空间中的液体的第一排出管线可以连接至该第一空间的下部，并且排出被引入至该第二空间中的液体的第二排出管线可以连接至该第二空间的下部。

11、根据示例性实施方式，该测量单元可以测量引入至该第一空间与该第二空间中的液体的充电量。

12、根据示例性实施方式，该本体的材料和该分隔板的材料中的每一个可以包括绝缘材料，并且该本体与该分隔板的限定该第二空间的表面可以包括导电材料。

13、根据示例性实施方式，该测量单元可以为法拉第杯。

14、根据示例性实施方式，该测量单元可以包括：容纳单元，该容纳单元容纳包括在液体中的离子或电子；以及测量单元，该测量单元连接至本体和分隔板的暴露于该第二空间的该本体和该分隔板的每一个表面，并且测量液体的该充电量。该容纳单元可以为该第二空间。

15、根据示例性实施方式，液体可以包括感光液体或显影液体。

16、此外，本发明的另一示例性实施方式提供了一种母端口，喷射液体的喷嘴在该母端口中等待。根据示例性实施方式，该母端口可以包括：本体，该本体具有排出空间，从该喷嘴喷射的液体排出至该排出空间；分隔板，该分隔板定位在该排出空间中，并将该排出空间分隔成第一空间和第二空间；测量单元，该测量单元连接至该本体，并测量从该排出空间排出的液体的充电量。

17、根据示例性实施方式，在该分隔板中，在该本体的上部可以形成有使该主体的外部与该第一空间彼此流体连通的主孔，并且可以在该分隔板中形成使该第一空间与该第二空间彼此连通的开口。

18、根据示例性实施方式，该测量单元电连接至限定该第二空间的该本体和该分隔板中的每一个，并且测量引入至该第二空间的液体的充电量。

19、根据示例性实施方式，该分隔板可以被设置成沿从该喷嘴排出的液体的下落方向倾斜。

20、根据示例性实施方式，该测量单元可以为法拉第杯。暴露于该第二空间的该本体和该分隔板的表面可以包括导电材料。该测量单元可以包括：容纳单元，该容纳单元容纳包括在该液体中的离子或电子；以及测量单元，该测量单元连接至暴露于该第二空间的该本体和该分隔板的每一个表面，并且测量该液体的该充电量。该容纳单元可以为该第二空间。

21、根据示例性实施方式，排出被引入至该第一空间中的液体的第一排出管线可以连接至该第一空间的下部，并且排出被引入至该第二空间中的液体的第二排出管线可以连接至该第二空间的下部。

22、此外，本发明的又一示例性实施方式提供了一种用于处理基板的装置。根据示例性实施方式，该基板处理装置可以包括：壳体，该壳体具有内部空间；支承单元，该支承单元支承位于该内部空间中的基板；处理容器，该处理容器覆盖该支承单元；液体供应单元，该液体供应单元包括在等待位置与处理位置之间移动的喷嘴，并且将处理液体喷射至该基板上；以及母端口，该母端口定位在该处理容器的外部。该喷嘴可以将该处理液体喷射至该处理位置处并支承在该支承单元上的该基板，并且该喷嘴可以将该处理液喷射至该等待位置处的该母端口，该等待位置位于该母端口的上侧。该母端口可以包括：本体，该本体具有排出空间，从该喷嘴喷射的液体排出至该排出空间，并且该本体具有形成在该本体的上部的主孔，从该喷嘴喷射的液体穿过该主孔；分隔板，该分隔板将该排出空间分隔成与该主孔连通的第一空间和与该第一空间连通的第二空间，并且该分隔板具有使该第一空间与该第二空间彼此流体连通的开口；第一排出管线，该第一排出管线连接至该第一空间的下部，并且排出被引入至该第一空间中的液体；第二排出管线，该第二排出管线连接至该第二空间的下部，并且排出通过该开口被引入至该第二空间中的液体；以及测量单元，该测量单元测量从该第一空间与该第二空间的该第二空间排出的液体的充电量。

23、根据示例性实施方式，该测量单元可以被设置为法拉第杯。限定该本体与该分隔板的限定该第二空间的表面可以包括导电材料，该测量单元可以包括：容纳单元，该容纳单元容纳包括在液体中的离子或电子，以及测量单元，该测量单元连接至暴露于该第二空间的该本体和该分隔板的每一个表面，并且测量该液体的充电量，并且该容纳单元可以为该第二空间。

24、根据本发明的示例性实施方式，可以有效地处理基板。

25、此外，根据本发明的示例性实施方式，可以监测在喷射液体时产生的静电。

26、此外，根据本发明的示例性实施方式，监测从执行处理之前等待的母端口喷射的液体的静电，以在进行处理时使喷射充电最小化。

27、本发明的效果不限于上述效果，并且本领域技术人员将从本说明书和附图中清楚地理解未提及的效果。