本技术涉及半导体刻蚀,更具体地说,涉及一种离子枪温度监控系统,此外,本技术还涉及一种包括上述离子枪温度监控系统的离子刻蚀机。
背景技术:
1、现有技术中,离子刻蚀机持续长时间运行时,位于真空腔室内的离子枪会持续的发热,当冷却系统不能及时降温时,会致使离子枪及真空腔室内温度过高,易造成与离子枪接触的底座的受热融化,甚至影响设备的正常工作,并且高温会影响离子枪的使用寿命;处理不当还会造成维修人员烫伤。
2、综上所述,如何提高离子刻蚀过程中的安全性,是目前本领域技术人员亟待解决的问题。
技术实现思路
1、有鉴于此,本实用新型的目的是提供一种离子枪温度监控系统,通过流量计对冷却流路的流量进行实时检测,同时,通过温度检测器对离子枪的温度进行实时检测,有利于及时发现离子枪的温度过高的情况,并及时作出反应,可有效避免因离子枪温度过高而影响刻蚀机的正常工作,有效提高离子刻蚀过程中的安全性。
2、此外,本实用新型还提供了一种包括上述离子枪温度监控系统的离子刻蚀机。
3、为了实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
4、一种离子枪温度监控系统,包括:
5、真空腔室;
6、离子枪,位于所述真空腔室内;
7、冷却流路,用于为所述离子枪降温,且所述冷却流路设置有流量计,所述流量计用于实时检测所述冷却流路内的流量;
8、温度检测器,设置于所述真空腔室内,用于实时检测所述离子枪的温度。
9、可选地,还包括:
10、控制器,所述流量计和所述温度检测器均与所述控制器连接,所述控制器用于接收所述流量计所测的流量信息以及所述温度检测器所测的温度信息,并控制所述警示装置发出警示信息;
11、警示装置,与所述控制器连接,用于在所述流量计所测流量小于预设流量范围,和/或所述温度检测器所测温度高于预设温度范围时发出警示信息。
12、可选地,还包括:
13、显示装置,安装于所述真空腔室外侧,所述显示装置用于实时显示所述流量计所检测的所述冷却流路的流量信息和所述温度检测器所检测的温度信息。
14、可选地,所述流量计与所述温度检测器串联连接。
15、可选地,所述真空腔室内设置有用于安装所述离子枪的金属安装座,所述温度检测器安装于所述金属安装座。
16、可选地,还包括与所述金属安装座接触的绝缘底座,所述绝缘底座为耐高温材质的绝缘底座。
17、可选地,所述真空腔室设置有方便观察的可视窗,所述可视窗为亚克力材质的可视窗。
18、可选地,所述可视窗设置有通孔,与所述温度检测器连接的导线由所述真空腔室内经所述通孔穿出,且所述导线与所述通孔之间填充有用于密封的密封胶或密封件。
19、可选地,所述流量计安装于所述冷却流路中位于所述真空腔室外部的管路。
20、一种离子刻蚀机,包括上述任一项所述的离子刻蚀机。
21、在使用本实用新型提供的离子枪温度监控系统的过程中,工作状态下,流量计对流经冷却流路的流量进行实时检测,同时,温度检测器对离子枪的温度进行实时检测,在流量计所测流量低于预设流量范围,和/或温度检测器所测温度高于预设温度范围时,控制冷却流路调整流量或控制离子刻蚀机停止工作。
22、相比于现有技术,本实用新型中同时对冷却流路的流量和离子枪的温度进行检测,可以有效避免因零部件异常引起的高温对刻蚀机造成损坏,有利于及时发现离子枪的温度过高的情况,并及时作出反应;同时针对因流量引起的高温可以针对冷却流路的流量情况及时作出调整,可有效避免因离子枪温度过高而影响刻蚀机的正常工作,有效提高离子刻蚀过程中的安全性,延长离子枪的使用寿命。
23、此外,本实用新型还提供了一种包括上述离子枪温度监控系统的离子刻蚀机。
1.一种离子枪温度监控系统,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的离子枪温度监控系统,其特征在于,还包括:
3.根据权利要求1所述的离子枪温度监控系统,其特征在于,还包括:
4.根据权利要求1-3任一项所述的离子枪温度监控系统,其特征在于,所述流量计(5)与所述温度检测器(4)串联连接。
5.根据权利要求1-3任一项所述的离子枪温度监控系统,其特征在于,所述真空腔室(1)内设置有用于安装所述离子枪(2)的金属安装座(6),所述温度检测器(4)安装于所述金属安装座(6)。
6.根据权利要求5所述的离子枪温度监控系统,其特征在于,还包括与所述金属安装座(6)接触的绝缘底座(7),所述绝缘底座(7)为耐高温材质的绝缘底座。
7.根据权利要求1-3任一项所述的离子枪温度监控系统,其特征在于,所述真空腔室(1)设置有方便观察的可视窗(8),所述可视窗(8)为亚克力材质的可视窗。
8.根据权利要求7所述的离子枪温度监控系统,其特征在于,所述可视窗(8)设置有通孔,与所述温度检测器(4)连接的导线由所述真空腔室(1)内经所述通孔穿出,且所述导线与所述通孔之间填充有用于密封的密封胶或密封件。
9.根据权利要求8所述的离子枪温度监控系统,其特征在于,所述流量计(5)安装于所述冷却流路(3)中位于所述真空腔室(1)外部的管路。
10.一种离子刻蚀机,其特征在于,包括权利要求1-9任一项所述的离子枪温度监控系统。