一种单晶硅片清洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及工业技术领域，具体为一种单晶硅片清洗装置。


背景技术：

2.单晶硅片在加工的过程中，需要进行多次清洗，目前的主流清洗方式为过水喷淋，也就是在移动的过程中用水冲刷；
3.这样的清洗方式，需要加长喷淋时间，不然硅片的表面冲刷不干净，而且因为硅片扁平，需要考虑硅片的放置问题，不然会出现喷淋接触不全面，效率不高，比较不便。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种单晶硅片清洗装置，以解决上述背景技术中提出喷淋清洗单晶硅片时间长，需要考虑硅片放置的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
6.一种单晶硅片清洗装置，包括侧板，所述侧板上对称安装气缸，所述气缸的腔体端与侧板活动连接；
7.电机，所述气缸的内杆端部固定安装电机；
8.上传动轴，所述电机的转轴端部固定安装上传动轴；
9.下传动轴，所述侧板上通过活动轴对称安装下传动轴；
10.支撑连接件，所述电机的转轴与活动轴之间套设安装支撑连接件；
11.输送带，同侧的所述上传动轴与下传动轴上安装输送带，两条所述输送带的最低位置接触设置；
12.喷淋板，两条所述输送带的上方设置喷淋板。
13.作为上述技术方案的进一步描述：
14.所述电机的转轴与活动轴的直径长度均小于上传动轴和下传动轴的直径长度。
15.作为上述技术方案的进一步描述：
16.所述上传动轴和下传动轴大小相同。
17.作为上述技术方案的进一步描述：
18.所述支撑连接件包括套管和连杆，所述连杆的两端一体安装套管，套管分别套设安装在电机的转轴和活动轴上。
19.作为上述技术方案的进一步描述：
20.所述套管的长度与电机的转轴长度相同。
21.作为上述技术方案的进一步描述：
22.所述输送带为橡胶传动带，输送带的外侧面贴覆擦布。
23.与现有技术相比，本实用新型提供了一种单晶硅片清洗装置，具备以下有益效果：
24.1.本实用新型中，根据单晶硅片扁平、双面的特点进行针对性设计，在保持喷淋清洗的情况下，可以实现对单晶硅片的无夹持翻面清洁，在不伤害到单晶硅片的情况下，将其
清洗的更全面、彻底，而且单次清洗量多，可同时清洗；
25.2.本实用新型中，在清洗的过程中，可以对单晶硅片的表面进行擦拭清洗，加快清洗速度，提高清洗质量，这是目前单晶硅片清洗方面所没有的。
附图说明
26.图1为本实用新型整体结构示意图；
27.图2为本实用新型输送带安装安装结构示意图；
28.图3为本实用新型支撑连接件安装结构示意图。
29.图例说明：
30.1、侧板；2、气缸；3、电机；4、上传动轴；5、下传动轴；6、支撑连接件；7、输送带；8、喷淋板。
具体实施方式
31.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
32.实施例：
33.请参阅图1-图3，本实用新型提供了一种单晶硅片清洗装置，包括侧板1，侧板1上对称安装气缸2，气缸2的腔体端与侧板1活动连接；
34.电机3，气缸2的内杆端部固定安装电机3；
35.上传动轴4，电机3的转轴端部固定安装上传动轴4；
36.下传动轴5，侧板1上通过活动轴对称安装下传动轴5；
37.支撑连接件6，电机3的转轴与活动轴之间套设安装支撑连接件6；
38.输送带7，同侧的上传动轴4与下传动轴5上安装输送带7，两条输送带7的最低位置接触设置；
39.喷淋板8，两条输送带7的上方设置喷淋板8。
40.具体的，如图3所示，电机3的转轴与活动轴的直径长度均小于上传动轴4和下传动轴5的直径长度，便于支撑连接件6安装不移位。
41.具体的，上传动轴4和下传动轴5大小相同，翻转的时候，输送带7保持平稳。
42.具体的，如图3所示，支撑连接件6包括套管和连杆，连杆的两端一体安装套管，套管分别套设安装在电机3的转轴和活动轴上，起到支撑和连接两个作用，能够在输送带7翻转的时候让各个部件保持稳定连接状态。
43.具体的，套管的长度与电机3的转轴长度相同，不会发生位移。
44.具体的，输送带7为橡胶传动带，输送带7的外侧面贴覆擦布，可以在转动的时候，对单晶硅片的表面进行擦拭清洁。
45.工作原理：
46.将单晶硅片贴放在输送带7上，然后喷淋板8喷淋出水，对单晶硅片进行冲刷，电机3工作，带着上传动轴4旋转，上传动轴4、下传动轴5因为通过输送带7传动连接，所以上传动
轴4、下传动轴5、输送带7均做同向旋转，在输送带7旋转的时候，输送带7上的擦布对单晶硅片的面进行擦拭清洁；
47.一面冲洗完之后，气缸2伸展，推动电机3移动，因为有支撑连接件6的支撑，所以电机3、上传动轴4、输送带7移动的时候可以改变位置，但是部件不脱落，结构依然保持稳定连接状态，翻转的输送带7推着单晶硅片，将单晶硅片翻面贴在另一条输送带7上，气缸2再回到原位，输送带7对单晶硅片的另一面进行擦拭清洁；
48.上传动轴4、下传动轴5、支撑连接件6的具体安装方式以现有技术为准，直接引入使用。
49.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。


技术特征：
1.一种单晶硅片清洗装置，其特征在于，包括：侧板(1)，所述侧板(1)上对称安装气缸(2)，所述气缸(2)的腔体端与侧板(1)活动连接；电机(3)，所述气缸(2)的内杆端部固定安装电机(3)；上传动轴(4)，所述电机(3)的转轴端部固定安装上传动轴(4)；下传动轴(5)，所述侧板(1)上通过活动轴对称安装下传动轴(5)；支撑连接件(6)，所述电机(3)的转轴与活动轴之间套设安装支撑连接件(6)；输送带(7)，同侧的所述上传动轴(4)与下传动轴(5)上安装输送带(7)，两条所述输送带(7)的最低位置接触设置；喷淋板(8)，两条所述输送带(7)的上方设置喷淋板(8)。2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述电机(3)的转轴与活动轴的直径长度均小于上传动轴(4)和下传动轴(5)的直径长度。3.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述上传动轴(4)和下传动轴(5)大小相同。4.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述支撑连接件(6)包括套管和连杆，所述连杆的两端一体安装套管，套管分别套设安装在电机(3)的转轴和活动轴上。5.根据权利要求4所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述套管的长度与电机(3)的转轴长度相同。6.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述输送带(7)为橡胶传动带，输送带(7)的外侧面贴覆擦布。

技术总结
本实用新型涉及工业技术领域，具体为一种单晶硅片清洗装置，包括侧板，侧板上对称安装气缸，气缸的腔体端与侧板活动连接；气缸的内杆端部固定安装电机；电机的转轴端部固定安装上传动轴；侧板上通过活动轴对称安装下传动轴；电机的转轴与活动轴之间套设安装支撑连接件；同侧的上传动轴与下传动轴上安装输送带，两条输送带的最低位置接触设置；两条输送带的上方设置喷淋板。本实用新型中，在不伤害到单晶硅片的情况下，将其清洗的更全面、彻底，而且单次清洗量多，可同时清洗，可以对单晶硅片的表面进行擦拭清洗，加快清洗速度，提高清洗质量。量。量。


技术研发人员：杨定勇 张力峰 邹文龙
受保护的技术使用者：扬州晶樱光电科技有限公司
技术研发日：2022.09.08
技术公布日：2023/3/9