基片液处理装置的制作方法

本发明涉及基片液处理装置。

背景技术：

1、通过控制伴随着处理液的沸腾而产生的气泡、向处理液中喷出的气泡(非活性气体等)，能够促进基片的液处理。

2、例如在专利文献1所公开的基片液处理装置中，检测处理液的沸腾状态，根据沸腾状态调整处理液的压力，调节处理液的沸腾状态。由此，实现基片刻蚀的均匀性的提高。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2017-220618号公报

技术实现思路

1、即使是工程师，通过目视来判别处理液中的气泡的状态也不简单。特别是，由于工程师的感觉存在个体差异，因此难以通过目视准确且稳定地判别处理液中的气泡的状态。

2、本公开提供一种有利于准确地判别处理液中的气泡的状态，从而能够稳定地进行基片的液处理的技术。

3、本公开的一个方式涉及一种基片液处理装置，其具备：处理槽，在内部贮存用于基片的液处理的处理液；拍摄部，取得处理槽的内部的处理液的图像；和图像处理部，具有进行图像的图像处理以取得表示处理液中的气泡的状态的气泡数据的气泡数据取得部。

4、本公开有利于准确地判别处理液中的气泡的状态，从而稳定地进行基片的液处理。

技术特征：

1.一种基片液处理装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基片液处理装置，其特征在于：

3.根据权利要求2所述的基片液处理装置，其特征在于，包括：

4.根据权利要求1～3中的任一项所述的基片液处理装置，其特征在于，包括：

5.根据权利要求4所述的基片液处理装置，其特征在于：

6.根据权利要求4或5所述的基片液处理装置，其特征在于：

7.根据权利要求1～6中的任一项所述的基片液处理装置，其特征在于，包括：

8.根据权利要求7所述的基片液处理装置，其特征在于：

9.根据权利要求7所述的基片液处理装置，其特征在于：

10.根据权利要求7所述的基片液处理装置，其特征在于：

11.根据权利要求1～3中的任一项所述的基片液处理装置，其特征在于，包括：

12.根据权利要求11所述的基片液处理装置，其特征在于：

13.根据权利要求7～12中的任一项所述的基片液处理装置，其特征在于：

14.根据权利要求7～12中的任一项所述的基片液处理装置，其特征在于：

15.根据权利要求1～14中的任一项所述的基片液处理装置，其特征在于：

16.根据权利要求1～15中的任一项所述的基片液处理装置，其特征在于：

17.根据权利要求1～16中的任一项所述的基片液处理装置，其特征在于：

18.根据权利要求1～16中的任一项所述的基片液处理装置，其特征在于：

技术总结
本发明提供一种基片液处理装置，其具备：处理槽，在内部贮存用于基片的液处理的处理液；拍摄部，取得处理槽的内部的处理液的图像；和图像处理部，具有进行图像的图像处理以取得表示处理液中的气泡的状态的气泡数据的气泡数据取得部。

技术研发人员：丸本洋,李水根,榎本正志
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16