电介质透镜及天线模组的制作方法

本公开涉及电介质透镜及天线模组，详细地讲，涉及将入射的电磁波变换并出射的电介质透镜以及具备该电介质透镜的天线模组。

背景技术：

1、在专利文献1中，公开了将在树脂基板上蚀刻而制作的多个微带线(microstrip)元件(元件天线)排列成的天线阵(阵列天线)。

2、此外，在专利文献2中，公开了通过将1次放射器放射的电磁波经由电介质透镜发送而仅由电介质透镜得到需要的放射指向性的技术。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2012－220418号公报

6、专利文献2：日本特开2002－246832号公报

技术实现思路

1、本公开的课题是提供一种能够在维持是平面波的原状下变更为平面波的电磁波的特性的电介质透镜及具备该电介质透镜的天线模组。

2、有关本公开的一技术方案的电介质透镜，具有入射面和处于与上述入射面相反侧的出射面；上述入射面和上述出射面各自是曲面，并且各自以与上述入射面及上述出射面中的任一个都交叉的假想直线为中心旋转对称；上述入射面和上述出射面不是相互相同的形状；在使为平面波的电磁波在沿着上述假想直线的方向上行进并向上述入射面入射的情况下，从上述出射面出射为平面波的电磁波。

3、有关本公开的一技术方案的天线模组具备：上述电介质透镜；以及放射器，发出是平面波的电磁波，使其在沿着上述假想直线的方向上行进并向上述入射面入射。

技术特征：

1.一种电介质透镜，

2.如权利要求1所述的电介质透镜，

3.如权利要求1或2所述的电介质透镜，

4.如权利要求1或2所述的电介质透镜，

5.如权利要求3所述的电介质透镜，

6.如权利要求1所述的电介质透镜，

7.一种天线模组，

8.如权利要求7所述的天线模组，

技术总结
本公开提供一种能够在维持着是平面波的原状下变更为平面波的电磁波的特性的电介质透镜。电介质透镜(1)具有入射面(2)和处于与入射面(2)相反侧的出射面(3)。入射面(2)和出射面(3)各自是曲面，并且各自以假想直线(S)为中心旋转对称。入射面(2)和出射面(3)不是相互相同的形状。在使为平面波的电磁波在沿着假想直线(S)的方向行进而向入射面(2)入射的情况下，从出射面(3)出射为平面波的电磁波。

技术研发人员：寒川潮,折田真也,仲泽利行,北村英则
受保护的技术使用者：松下知识产权经营株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/3/11