一种新型超宽带带状注行波管慢波结构

文档序号:35226228发布日期:2023-08-24 22:33阅读:18来源:国知局
一种新型超宽带带状注行波管慢波结构

本发明属于微波电子学及电真空,具体涉及一种新型超宽带带状注行波管慢波结构。


背景技术:

1、毫米波频段成为了下一代通信与军事领域的热门选择。电真空器件由于其出色的可靠性与大功率容量的特点,在毫米波频段具有重大研究意义。行波管作为电真空器件的一种,因其具有其他器件无法比拟的宽频带、小型化特点,特别适合于电子对抗、星载或机载通信、雷达等领域。最新的研究热门——带状注行波管相比于传统圆柱电子注拥有更大的电流与功率容量。因此,世界各国正争先研制高功率、高增益行波管来满足军事科研领域需求。考虑到毫米波及太赫兹频段加工与装配难度,矩形交错栅结构作为行波管慢波结构由于具有天然带状注通道特性,因此在带状注行波管的研究中独具功率优势。

2、然而随着技术进步,在高功率情况下对带宽要求越来越高。对传统交错栅慢波结构而言,由于其色散曲线覆盖的频率范围较小,其工作带宽存在一定的限制,无法满足现如今在超宽频带实现大功率工作的需求。


技术实现思路

1、为了解决上述传统的交错栅工作带宽不足的问题,本发明提出了一种新型超宽带带状注行波管慢波结构。该结构在原始的交错栅结构中引入了长方体间隙,通过调整修正间隙的宽度与高度,使更宽频带的空间谐波与电子注实现相速匹配,从而获得更宽的工作带宽。同时,与传统结构相比,该结构在同样频段下尺寸更小,节省了大量空间,利于行波管器件的小型化设计。

2、本发明的技术方案如下:

3、一种新型超宽带带状注行波管慢波结构,包括壳体;所述壳体内腔上顶面和下底面各设有一排周期排列的矩形栅;上顶面的一排矩形栅与下底面的一排矩形栅交错半个周期,以形成交错双栅结构;上顶面的一排矩形栅和下底面的一排矩形栅互不接触,以形成电子通道;所述壳体上设有两个长方体间隙,两个长方体间隙分别位于电子通道长边的两端,并与电子通道连通。

4、进一步的,所述长方体间隙的高度vhx范围大于电子通道高度th,小于该慢波结构的高度(th+2×vh)。

5、进一步的,所述长方体间隙的宽度gap范围在电子通道宽度w的0.1到0.3倍之间,优选约为0.2倍的电子通道宽度w。

6、本发明在传统的交错双栅结构基础上,在壳体上增设两个长方体间隙,两个长方体间隙分别位于电子通道长边的两端,并与电子通道连通。通过增加的两个长方体间隙,改变了慢波结构中的电场分布,提高了高频处空间谐波的相速度,实现了空间谐波和电子注的宽带匹配。从耦合阻抗上分析表明,该结构在上边带频率拥有较低的耦合阻抗,有利于抑制上边带振荡。同时,本发明减小了慢波结构的宽度,使结构更紧凑。

7、与现有的交错双栅结构相比,本发明具有以下优点:

8、1、本发明的最大工作带宽相比于传统结构增量超过27%,非常适合大功率超宽带毫米波器件设计。

9、2、本发明的整体宽度相比于传统结构缩短了超过40%,减小了器件的体积,利于电真空器件的小型化。

10、3、本发明提出的一种新型超宽带带状注行波管慢波结构,从耦合阻抗特性分析表明,该结构可有效避免抑制上边振荡,从而充分保证工作带宽。

11、附图说明

12、图1为典型的交错双栅慢波结构示意图;

13、图2为本发明的一种新型超宽带带状注行波管慢波结构;

14、图3为该结构的平面示意图

15、图4为本发明与传统结构的性能对比示意图;



技术特征:

1.一种新型超宽带带状注行波管慢波结构,包括壳体,其特征在于:所述壳体内腔上顶面和下底面各设有一排呈周期排列矩形栅;上顶面的一排矩形栅与下底面的一排矩形栅交错半个周期,以形成交错双栅结构;上顶面的一排矩形栅和下底面的一排矩形栅互不接触,以形成电子通道;所述壳体上设有两个长方体间隙,两个长方体间隙分别位于电子通道长边的两端,并与电子通道连通。

2.如权利要求1所述的一种新型超宽带带状注行波管慢波结构,其特征在于:所述长方体间隙的高度vhx范围大于电子通道高度th,小于所述新型超宽带带状注行波管慢波结构的高度。

3.如权利要求1或2任一项所述的一种新型超宽带带状注行波管慢波结构,其特征在于:所述长方体间隙的宽度gap范围在电子通道宽度w的0.1到0.3倍之间。


技术总结
本发明公开了一种新型超宽带带状注行波管慢波结构,属于微波电子学及电真空技术领域。包括壳体,所述壳体上设有两个长方体间隙,两个长方体间隙分别位于电子通道长边的两端,并与电子通道连通。通过设置的两个长方体间隙,改变了慢波结构中的电场分布,提高了高频处空间谐波的相速度,实现了空间谐波和电子注的宽带匹配。通过调整长方体间隙的高度和宽度,改变了原始的色散特性,实现宽频带内空间谐波与电子束的相速匹配,实现远超传统交错栅结构的工作带宽。同时,在同样频段该结构的横向尺寸更小,从而可以设计体积更小的电真空器件。

技术研发人员:王建勋,代子豪,万易鑫,李鑫杰,蒋伟,刘国,李昊,罗勇
受保护的技术使用者:电子科技大学
技术研发日:
技术公布日:2024/1/14
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