一种SE结构制备方法及太阳能电池与流程

本申请涉及太阳能电池领域，特别涉及一种se结构制备方法及太阳能电池。

背景技术：

1、常规的p型perc(passivated emitterand rear cell，发射极和背面钝化电池)电池路线中的激光se(selective emitter，选择性发射极)工序，使用的激光器的功率为20w-50w，激光光源采用绿光，产生激光的频率为50khz-500khz，光斑形状为正方形且相邻光斑之间相切(请参考图1)，基于上述光斑形状在电池衬底的正面形成重掺区域。由于此种光斑形状在光斑边缘(即未印刷导电浆料的位置)和光斑中心位置(印刷导电浆料的位置)的激光照射程度相同，在保证印刷导电浆料的地方具备良好的欧姆接触的前提下，激光会对未印刷导电浆料的位置的衬底造成损伤。因此，如何减小激光对衬底表面的损伤，是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。

技术实现思路

1、本申请的目的是提供一种se结构制备方法及太阳能电池，从而减小激光对衬底表面的损伤。

2、为实现上述目的，本申请提供了一种se结构制备方法，包括：

3、将掺杂源中的杂质扩散进衬底，在所述衬底的表面形成轻掺杂层；

4、通过激光照射所述衬底上印刷栅线的区域，对所述轻掺杂层进行推进形成重掺杂区域；所述轻掺杂层中未被所述激光照射的区域为轻掺杂区域；所述激光产生的相邻光斑沿所述栅线的轴线方向重叠，形成沿所述轴线分布的第一激光照射区域和沿所述轴线两侧分布的第二激光照射区域；所述第一激光照射区域的重叠次数大于所述第二激光照射区域的重叠次数，使所述第一激光照射区域经过所述激光至少两次照射后达到目标结深；

5、经过所述激光照射后，在所述衬底的表面形成se结构。

6、可选的，所述通过激光照射所述衬底上印刷栅线的区域，对所述轻掺杂层进行推进形成重掺杂区域，包括：

7、通过调整所述激光产生所述光斑的频率，使相邻所述光斑沿所述栅线的轴线方向重叠；

8、通过所述激光照射所述衬底上所述印刷栅线的区域，对所述轻掺杂层进行推进形成所述重掺杂区域。

9、可选的，所述激光产生所述光斑的频率为500khz～30mhz，且包括两端的值。

10、可选的，所述通过激光照射所述衬底上印刷栅线的区域，对所述轻掺杂层进行推进形成重掺杂区域，包括：

11、通过调整所述激光的移动速度，使相邻所述光斑沿所述栅线的轴线方向重叠；

12、通过所述激光照射所述衬底上所述印刷栅线的区域，对所述轻掺杂层进行推进形成所述重掺杂区域。

13、可选的，所述光斑的形状为圆形。

14、可选的，相邻所述光斑的重叠率为50％～95％，且包括两端的值。

15、可选的，所述通过激光照射所述衬底上印刷栅线的区域，对所述轻掺杂层进行推进形成重掺杂区域后，还包括：

16、将经过所述激光照射后的所述衬底直接放进退火机台中进行退火，将所述杂质推进所述重掺杂区域和所述轻掺杂区域。

17、可选的，所述将掺杂源中的杂质扩散进衬底，在所述衬底的表面形成轻掺杂层前，还包括：

18、对所述衬底的表面进行制绒，得到具有绒面结构的所述衬底。

19、可选的，当所述衬底为n型硅片，所述衬底的表面为所述衬底的正面时，在所述衬底的表面形成se结构，包括：

20、去除所述掺杂源；所述掺杂源为硼硅玻璃；

21、在所述n型硅片的背面形成掺杂层；

22、在所述n型硅片的背面形成所述掺杂层后，对所述n型硅片的正面和背面进行rca清洗；

23、在经过rca清洗后的所述n型硅片的正面和背面沉积钝化薄膜和减反射薄膜；

24、在沉积完所述钝化薄膜和所述减反射薄膜后，在所述重掺杂区域印刷导电浆料以使所述导电浆料与所述重掺杂区域接触，形成se结构。

25、为实现上述目的，本申请还提供了一种太阳能电池，包括通过如上述所述的se结构制备方法制备的se结构。

26、本申请提供的一种se结构制备方法，包括：将掺杂源中的杂质扩散进衬底，在所述衬底的表面形成轻掺杂层；通过激光照射所述衬底上印刷栅线的区域，对所述轻掺杂层进行推进形成重掺杂区域；所述轻掺杂层中未被所述激光照射的区域为轻掺杂区域；所述激光产生的相邻光斑沿所述栅线的轴线方向重叠，形成沿所述轴线分布的第一激光照射区域和沿所述轴线两侧分布的第二激光照射区域；所述第一激光照射区域的重叠次数大于所述第二激光照射区域的重叠次数，使所述第一激光照射区域经过所述激光至少两次照射后达到目标结深；经过所述激光照射后，在所述衬底的表面形成se结构。

27、显然，本申请中激光产生的相邻光斑沿栅线的轴线方向重叠，形成沿轴线分布的第一激光照射区域和沿轴线两侧分布的第二激光照射区域，在第一激光照射区域的光斑重叠次数保证了印刷导电浆料区域满足目标结深的同时，由于第二激光照射区域的重叠次数小于第一激光照射区域的重叠次数，即减少了未印刷导电浆料区域的重叠次数，因此可以减少未印刷导电浆料区域的累计激光损伤，实现减少累计粉尘量的效果。由于减小了累计激光损伤和粉尘量，满足可直接进退火机台的低表面损伤和衬底表面洁净度需求，因此在进退火机台前可以省略使用低浓度hf对激光区域的表面损伤和粉尘进行清洗的步骤。本申请还提供一种太阳能电池，具有上述有益效果。

技术特征：

1.一种se结构制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的se结构制备方法，其特征在于，所述通过激光照射所述衬底上印刷栅线的区域，对所述轻掺杂层进行推进形成重掺杂区域，包括：

3.根据权利要求2所述的se结构制备方法，其特征在于，所述激光产生所述光斑的频率为500khz～30mhz，且包括两端的值。

4.根据权利要求1所述的se结构制备方法，其特征在于，所述通过激光照射所述衬底上印刷栅线的区域，对所述轻掺杂层进行推进形成重掺杂区域，包括：

5.根据权利要求1所述的se结构制备方法，其特征在于，所述光斑的形状为圆形。

6.根据权利要求1所述的se结构制备方法，其特征在于，相邻所述光斑的重叠率为50％～95％，且包括两端的值。

7.根据权利要求1所述的se结构制备方法，其特征在于，所述通过激光照射所述衬底上印刷栅线的区域，对所述轻掺杂层进行推进形成重掺杂区域后，还包括：

8.根据权利要求1所述的se结构制备方法，其特征在于，所述将掺杂源中的杂质扩散进衬底，在所述衬底的表面形成轻掺杂层前，还包括：

9.根据权利要求1所述的se结构制备方法，其特征在于，当所述衬底为n型硅片，所述衬底的表面为所述衬底的正面时，在所述衬底的表面形成se结构，包括：

10.一种太阳能电池，其特征在于，包括通过权利要求1至9任一项所述的se结构制备方法制备的se结构。

技术总结
本申请公开了一种SE结构制备方法及太阳能电池，属于太阳能电池领域。本申请中激光产生的相邻光斑沿栅线的轴线方向重叠，形成沿轴线分布的第一激光照射区域和沿轴线两侧分布的第二激光照射区域，在第一激光照射区域的光斑重叠次数保证了印刷导电浆料区域满足目标结深的同时，由于第二激光照射区域的重叠次数小于第一激光照射区域的重叠次数，即减少了未印刷导电浆料区域的重叠次数，因此可以减少未印刷导电浆料区域的累计激光损伤，实现减少累计粉尘量的效果。由于减小了累计激光损伤和粉尘量，满足可直接进退火机台的低表面损伤和衬底表面洁净度需求，因此在进退火机台前可以省略使用低浓度HF对激光区域的表面损伤和粉尘进行清洗的步骤。

技术研发人员：郭世成,张明明
受保护的技术使用者：滁州捷泰新能源科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15