一种图案悬浮于内部的水晶键帽以及其制造工艺的制作方法

文档序号:35246506发布日期:2023-08-25 14:52阅读:26来源:国知局
一种图案悬浮于内部的水晶键帽以及其制造工艺的制作方法

本发明涉及键帽,尤其是涉及一种图案悬浮于内部的水晶键帽以及其制造工艺。


背景技术:

1、目前市面上键帽字符或图案都是在键帽表面做平面工艺处理,缺少立体感,时间长了还会出现磨损和掉色,影响日常使用,因此有必要予以改进。


技术实现思路

1、针对现有技术存在的不足,本发明的目的是提供一种图案悬浮于内部的水晶键帽。

2、为了实现上述目的,本发明所采用的技术方案是:包括透光盖帽以及透光底座,透光盖帽设置在透光底座之上,通过激光内雕工艺在透光盖帽成型有3d字符标识,透光底座具有用于与键盘轴体连接的连接体。

3、进一步的技术方案中,所述透光盖帽为透明水晶盖帽。

4、进一步的技术方案中,所述透光盖帽由多个透明水晶分体粘合而成,每个透明水晶分体的粘合面设置镀膜层。

5、进一步的技术方案中,所述透光盖帽包括至少四个透明水晶分体,四个透明水晶分体俩俩对称设置,且四个透明水晶分体依次粘合形成所述透光盖帽,每个透明水晶分体具有两个所述粘合面。

6、进一步的技术方案中,所述透光底座内凹成型有连接槽,所述连接体位于连接槽内。

7、进一步的技术方案中,所述连接体呈柱体状,连接体中空成型用于与键盘轴体卡接的卡槽。

8、为了实现上述目的,本发明还提供了一种图案悬浮于内部的水晶键帽的制造工艺,其包括如下步骤,

9、a、选用透明水晶体制成透光盖帽,通过激光内雕工艺在透光盖帽的内部成型有3d字符标识;

10、b、将透光盖帽装配在透光底座之上,形成水晶键帽。

11、优选的,该制造工艺还包括如下步骤,

12、a1、将多个透明水晶分体的粘合面设置镀膜层,并将多个透明水晶分体相互粘合构成所述透明水晶体。

13、采用上述结构后,本发明和现有技术相比所具有的优点是:

14、1、本发明通过激光内雕工艺在透光盖帽成型有3d字符标识,使得3d字符标识悬浮于水晶键帽内部,从传统的二维平面提升到三维立体,视觉效果更佳,另外,这样的结构设计不会存在使用的过程中出现磨损和掉色,且经济环保,实用性强,键盘灯光通过透光底使透明晶体内的字符和图案也会随着灯光颜色的变化而变化,增强了视觉感。

15、2、透明水晶盖帽采用由多个互相粘合透明水晶分体而成构造的透明水晶体,并在透明水晶分体的表面设置镀膜层,使得键盘产生的灯光透过透光底座到镀膜层后折射产生各种不同的灯光效果,通过折射使不同颜色的光分开,再加上不同反射膜的反射作用,最终使整体呈现出漂亮的光学作用,另外,3d字符标识也可得到相对应的彩色效果,进一步提高了视觉感和产品立体感。



技术特征:

1.一种图案悬浮于内部的水晶键帽,其特征在于:包括透光盖帽(1)以及透光底座(2),透光盖帽(1)设置在透光底座(2)之上,通过激光内雕工艺在透光盖帽(1)成型有3d字符标识(3),透光底座(2)具有用于与键盘轴体连接的连接体(20)。

2.根据权利要求1所述的一种图案悬浮于内部的水晶键帽,其特征在于:所述透光盖帽(1)为透明水晶盖帽。

3.根据权利要求1所述的一种图案悬浮于内部的水晶键帽,其特征在于:所述透光盖帽(1)由多个透明水晶分体粘合而成,每个透明水晶分体的粘合面设置镀膜层(11)。

4.根据权利要求3所述的一种图案悬浮于内部的水晶键帽,其特征在于:所述透光盖帽(1)包括至少四个透明水晶分体,四个透明水晶分体俩俩对称设置,且四个透明水晶分体依次粘合形成所述透光盖帽(1),每个透明水晶分体具有两个所述粘合面。

5.根据权利要求1所述的一种图案悬浮于内部的水晶键帽,其特征在于:所述透光底座(2)内凹成型有连接槽(21),所述连接体(20)位于连接槽(21)内。

6.根据权利要求1所述的一种图案悬浮于内部的水晶键帽,其特征在于:所述连接体(20)呈柱体状,连接体(20)中空成型用于与键盘轴体卡接的卡槽。

7.一种图案悬浮于内部的水晶键帽的制造工艺,其特征在于:包括如下步骤,

8.根据权利要求7所述的一种图案悬浮于内部的水晶键帽的制造工艺,其特征在于:还包括如下步骤,


技术总结
本发明公开了一种图案悬浮于内部的水晶键帽以及其制造工艺,水晶键帽包括透光盖帽以及透光底座,透光盖帽设置在透光底座之上,通过激光内雕工艺在透光盖帽成型有3D字符标识,透光底座具有用于与键盘轴体连接的连接体。本发明通过激光内雕工艺在透光盖帽成型有3D字符标识,使得3D字符标识悬浮于水晶键帽内部,从传统的二维平面提升到三维立体,视觉效果更佳,另外,这样的结构设计不会存在使用的过程中出现磨损和掉色,且经济环保,实用性强,键盘灯光通过透光底使透明晶体内的字符和图案也会随着灯光颜色的变化而变化,增强了视觉感。

技术研发人员:江慧
受保护的技术使用者:东莞市佳皓光学科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/14
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