一种高显色指数的光学装置及其制备方法与流程

本发明涉及光学显示，具体为一种高显色指数的光学装置及其制备方法。

背景技术：

1、色域，就是指某种设备所能表达的颜色数量所构成的范围区域，即各种屏幕显示设备、打印机或印刷设备所能表现的颜色范围。在现实世界中，自然界中可见光谱的颜色组成了最大的色域空间，该色域空间中包含了人眼所能见到的所有颜色；其中广色域是一种进阶的色彩背光技术，目前行业标准是色彩覆盖率能达到ntsc 82％的即为广色域(相当于windows srgb 100％)。广色域电视的影像，通常可以表现或还原出不逊于自然视觉的鲜艳色彩。

2、而要达到广色域效果，则必须先有高纯基色(通常指蓝、绿、红三原色)，并且尽可能滤除三原色间的杂光，以蓝、绿、红三原色芯片就能组合出非常高的色域(超过130％ntsc)，这种方案限于成本(芯片贵)、控制方案复杂(三色芯片电压电流均不一致)，难广泛应用；且在现有技术中，荧光粉厂针对显示器的广色域规格，提出了多种新型材料，如高色纯度的绿光氮氧化物荧光粉(β-sialon)及红光氟化物荧光粉(ksf、kgf)。荧光粉的优点在于抗高热、抗氧化、强光下稳定与较高的耐化学侵蚀性。稳定性提高了，色域最大只能达到95％ntsc。

3、显示器采用背光源搭配lcd屏来完成影像，是目前无可替代的主流。虽然在手机显示有rgb oled蚕食市场，但以总量计算，rgb oled整体不过15％份额。

4、mini led是直下式背光方案的进阶版，控制在背光模组上led的出光能预先形成渐层图像，背光渐层图像与lcd讯号成像相互搭配后，会形成高景深、高明暗对比的视觉效果，显示影像更为栩栩如生。

5、mini led技术作为最新的商业化高性能显示器量产方案，一直都有光源打件良率低、出光均匀性与单位光型难把控的难题。产品面积大，分区数高，用灯数就不得不跟着提升，进而使产品的成本居高不下。而使用的光源如果指向性太好，也会让用灯数难以减量。

6、芯片级封装灯珠(csp)作为最先进的灯珠形式，有广出光角、薄型化、轻量化的优点。理论上可形成最少灯数的mini led灯板，是最适合mini led的灯珠方案。目前产业定调以表面贴装设备smt制造mini led灯板，如要使用csp光源，则需先编入卷带才能上机；csp编带设备仅有日系大厂梭特、与国内一二家特殊设备厂能供应，受限量产工具，使得一般程度的模组厂不易使用csp。

7、鉴于此，我们提出了一种高显色指数的光学装置及其制备方法。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种高显色指数的光学装置及其制备方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种高显色指数的光学装置，包括：

3、电路板体，在所述电路板体的侧壁上贴附有主动发光体，所述主动发光体的周围设置有反射壁；

4、透明光学基板，所述透明光学基板贴附在主动发光体远离所述电路板体的一侧；

5、光致发光膜，所述光致发光膜贴附在透明光学基板远离主动发光体的一侧；

6、以及对480-505nm与560-585nm波段的光进行吸收和波段全发射的光处理层。

7、可选的，所述光处理层包括全反射，所述全反射为高折射率陶瓷粒子与黏着剂混成的厚膜材料，或复数对高折射率与低折射率陶瓷叠加成的薄膜材料，且所述全反射实现激发光透明从光学基板的侧壁上出光，实现均匀平面光型，且所述全反射对420nm以下波段的光吸收，所述高折射率陶瓷粒子包括但不限于：氧化铝(3μm-10μm)、氧化钛(3μm-10μm)、氧化钇(3μm-10μm)、氧化钽(3μm-10μm)，所述复数对高折射率与低折射率陶瓷叠加成的薄膜材料组合包括但不限于：不少于10对氧化铝(7nm-15nm)/氧化硅(3-10nm)、不少于8对氧化钛(5nm-10nm)/氧化硅(7nm-15nm)、不少于8对氧化钇(7nm-15nm)/氧化硅(7nm-15nm)、不少于6对氧化钽(3nm-9nm)/氧化硅(7nm-15nm)。

8、可选的，所述光处理层包括吸收层，所述吸收层为蒽醌衍生物与硅胶混成的材料，所述吸收层对480-505nm与560-585nm波段的光吸收，并实现光学装置的色域>98％ntsc。

9、可选的，所述光处理层包括带通滤光层，所述带通滤光层为复数对高折射率与低折射率陶瓷薄膜叠合而成的材料，且所述带通滤光层对480-505nm与560-585nm波段的光进行光发射，并实现光学装置的色域>110％ntsc，所述陶瓷薄膜包括但不限于：不少于13对氧化铝(7nm-15nm)/氧化硅(3-10nm)、不少于7对氧化钛(5nm-10nm)/氧化硅(7nm-15nm)、不少于7对氧化钇(7nm-15nm)/氧化硅(7nm-15nm)、不少于5对氧化钽(3nm-9nm)/氧化硅(7nm-15nm)。

10、一种高显色指数的光学装置的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：

11、s1、将光致发光材料涂覆在透明光学基板上，形成光致发光膜；

12、s2、对s1中光致发光膜的表面进行单至复数次光学镀膜处理，成为可转换荧光光学基板；

13、s3、将s2中可转换荧光光学基板覆盖于主动发光体上，激发出广色域光谱。

14、可选的，所述全反射光处理层涂覆处理在光致发光膜上；所述涂覆处理包括喷洒、涂抹、贴合的方式；还包括真空蒸镀、溅镀、真空化学镀膜的方式。

15、可选的，所述吸收层采用喷洒、涂抹、贴合等方式将蒽醌衍生物与硅胶的混成材料覆盖于光致发光膜上，之后进行刮平、整边或以模具铸型后，形成表面平整的吸收层。

16、与现有技术相比，本发明提供了一种高显色指数的光学装置及其制备方法，具备以下有益效果：

17、该高显色指数的光学装置及其制备方法，蒽醌衍生物与硅胶混成物镀膜体现了光波选择性吸收效果，起到吸收480-505nm与560-585nm杂光、提纯蓝绿红三原色，提升显示器色域的技术效果。复数对高折射率与低折射率陶瓷薄膜叠合而成的材料镀膜起到阻挡480-505nm与560-585nm杂光、提纯蓝绿红三原色，提升显示器色域的技术效果，高折射率陶瓷粒子与黏着剂混成的厚膜材料，或复数对高折射率与低折射率叠加成的薄膜体现了光波全反射效果，起到改变出光光型的技术效果。

技术特征：

1.一种高显色指数的光学装置，其特征在于：包括：

2.根据权利要求1所述的一种高显色指数的光学装置，其特征在于：所述光处理层(6)包括全反射(61)，所述全反射(61)为高折射率陶瓷粒子与黏着剂混成的厚膜材料，或复数对高折射率与低折射率陶瓷叠加成的薄膜材料，且所述全反射(61)实现激发光透明从光学基板(4)的侧壁上出光，实现均匀平面光型，且所述全反射(61)对420nm以下波段的光吸收，所述高折射率陶瓷粒子包括但不限于：氧化铝、氧化钛、氧化钇、氧化钽，所述复数对高折射率与低折射率陶瓷叠加成的薄膜材料组合包括但不限于：不少于10对氧化铝/氧化硅、不少于8对氧化钛/氧化硅、不少于8对氧化钇/氧化硅、不少于6对氧化钽/氧化硅。

3.根据权利要求1所述的一种高显色指数的光学装置，其特征在于：所述光处理层(6)包括吸收层(62)，所述吸收层(62)为蒽醌衍生物与硅胶混成的材料，所述吸收层(62)对480-505nm与560-585nm波段的光吸收，并实现光学装置的色域>98％ntsc。

4.根据权利要求1所述的一种高显色指数的光学装置，其特征在于：所述光处理层(6)包括带通滤光层(63)，所述带通滤光层(63)为复数对高折射率与低折射率陶瓷薄膜叠合而成的材料，且所述带通滤光层(63)对480-505nm与560-585nm波段的光进行光发射，并实现光学装置的色域>110％ntsc，所述陶瓷薄膜包括但不限于：不少于13对氧化铝/氧化硅、不少于7对氧化钛/氧化硅、不少于7对氧化钇/氧化硅、不少于5对氧化钽/氧化硅。

5.一种如权利要求1-4所述的高显色指数的光学装置的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括以下步骤：

6.根据权利要求5所述的一种高显色指数的光学装置的制备方法，其特征在于：所述全反射(61)光处理层涂覆处理在光致发光膜(5)上；

7.根据权利要求5所述的一种高显色指数的光学装置的制备方法，其特征在于：所述吸收层(62)采用喷洒、涂抹、贴合等方式将蒽醌衍生物与硅胶的混成材料覆盖于光致发光膜(5)上，之后进行刮平、整边或以模具铸型后，形成表面平整的吸收层。

技术总结
本发明涉及光学技术领域，且公开了一种高显色指数的光学装置及其制备方法，包括电路板体、透明光学基板、光致发光膜以及对480‑505nm与560‑585nm波段的光进行吸收和波段全发射的光处理层，在所述电路板体的侧壁上贴附有主动发光体，所述主动发光体的周围设置有反射壁，所述透明光学基板贴附在主动发光体远离所述电路板体的一侧；所述光致发光膜贴附在透明光学基板远离主动发光体的一侧；蒽醌衍生物与硅胶混成物镀膜体现了光波选择性吸收效果，起到吸收480‑505nm与560‑585nm杂光、提纯蓝绿红三原色，提升显示器色域的技术效果。复数对高折射率与低折射率陶瓷薄膜叠合而成的材料镀膜起到阻挡480‑505nm与560‑585nm杂光、提纯蓝绿红三原色，提升显示器色域的技术效果。

技术研发人员：李崇华
受保护的技术使用者：江苏超为光电有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/1